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        EEPW首頁 >> 主題列表 >> 3d ic設(shè)計(jì)

        3D打印高性能射頻傳感器

        • 中國的研究人員開發(fā)了一種開創(chuàng)性的方法,可以為射頻傳感器構(gòu)建分辨率低于 10 微米的高縱橫比 3D 微結(jié)構(gòu)。該技術(shù)以 1:4 的寬高比實(shí)現(xiàn)了深溝槽,同時(shí)還實(shí)現(xiàn)了對共振特性的精確控制并顯著提高了性能。這種混合技術(shù)不僅提高了 RF 超結(jié)構(gòu)的品質(zhì)因數(shù) (Q 因子) 和頻率可調(diào)性,而且還將器件占用空間減少了多達(dá) 45%。這為傳感、MEMS 和 RF 超材料領(lǐng)域的下一代應(yīng)用鋪平了道路。電子束光刻和納米壓印等傳統(tǒng)光刻技術(shù)難以滿足對超精細(xì)、高縱橫比結(jié)構(gòu)的需求。厚度控制不佳、側(cè)壁不均勻和材料限制限制了性能和可擴(kuò)展性。該技術(shù)
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        閃迪提議HBF取代HBM,在邊緣實(shí)現(xiàn) AI

        • Sandisk Corp. 正在尋求 3D-NAND 閃存的創(chuàng)新,該公司聲稱該創(chuàng)新可以取代基于 DRAM 的 HBM(高帶寬內(nèi)存)用于 AI 推理應(yīng)用。當(dāng) Sandisk 于 2025 年 2 月從數(shù)據(jù)存儲(chǔ)公司 Western Digital 分拆出來時(shí),該公司表示,它打算在提供閃存產(chǎn)品的同時(shí)追求新興顛覆性內(nèi)存技術(shù)的開發(fā)。在 2 月 11 日舉行的 Sandisk 投資者日上,即分拆前不久,即將上任的內(nèi)存技術(shù)高級副總裁 Alper Ilkbahar 介紹了高帶寬閃存以及他稱之為 3D 矩陣內(nèi)存的東西。在同
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        IC設(shè)計(jì)業(yè)開始出現(xiàn)明顯兩極分化

        • 根據(jù)TrendForce最新研究,2024年全球IC設(shè)計(jì)前十大業(yè)者,臺(tái)廠聯(lián)發(fā)科、瑞昱、聯(lián)詠再度上榜; 得益于AI熱潮的推進(jìn),英偉達(dá)不意外成為IC設(shè)計(jì)產(chǎn)業(yè)霸主,更獨(dú)占前十大業(yè)者總營收的50%。TrendForce分析,AI所需高端芯片制造需要龐大資本投入和先進(jìn)技術(shù),使得市場進(jìn)入門檻極高,導(dǎo)致產(chǎn)業(yè)開始出現(xiàn)明顯寡占現(xiàn)象; 于2024年數(shù)據(jù)指出,前五大IC設(shè)計(jì)業(yè)者的營收合計(jì)占前十大業(yè)者總營收的90%以上,代表市場資源與技術(shù)優(yōu)勢正向少數(shù)領(lǐng)先企業(yè)集中。英偉達(dá)是AI浪潮最大受惠者,去年合并營收高達(dá)1,243億美元,占前
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        通過左移DRC設(shè)計(jì)規(guī)則檢查方法降低IC設(shè)計(jì)復(fù)雜性

        • 最成功的半導(dǎo)體公司都知道,集成電路 (IC) 設(shè)計(jì)日益復(fù)雜,這讓我們的傳統(tǒng)設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC) 方法不堪重負(fù)。迭代的“通過校正構(gòu)建”方法適用于更簡單的自定義布局,但現(xiàn)在卻造成了大量的運(yùn)行時(shí)和資源瓶頸,阻礙了設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)有效驗(yàn)證其高級設(shè)計(jì)和滿足緊迫的上市時(shí)間目標(biāo)的能力。為了克服這種設(shè)計(jì)復(fù)雜性,主要半導(dǎo)體公司不斷從其生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴那里尋找有效的工具。西門子 EDA 是一家大型電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 公司,它提供了一種新的、強(qiáng)大的左移驗(yàn)證策略,他們對其進(jìn)行了評估并宣布它改變了他們早期設(shè)計(jì)階段的游
        • 關(guān)鍵字: 左移DRC  設(shè)計(jì)規(guī)則  IC設(shè)計(jì)  復(fù)雜性  

        新型高密度、高帶寬3D DRAM問世

        • 3D DRAM 將成為未來內(nèi)存市場的重要競爭者。
        • 關(guān)鍵字: 3D DRAM  

        紫光國微2.5D/3D先進(jìn)封裝項(xiàng)目將擇機(jī)啟動(dòng)

        • 日前,紫光國微在投資者互動(dòng)平臺(tái)透露,公司在無錫建設(shè)的高可靠性芯片封裝測試項(xiàng)目已于2024年6月產(chǎn)線通線,現(xiàn)正在推動(dòng)量產(chǎn)產(chǎn)品的上量和更多新產(chǎn)品的導(dǎo)入工作,2.5D/3D等先進(jìn)封裝將會(huì)根據(jù)產(chǎn)線運(yùn)行情況擇機(jī)啟動(dòng)。據(jù)了解,無錫紫光集電高可靠性芯片封裝測試項(xiàng)目是紫光集團(tuán)在芯片制造領(lǐng)域的重點(diǎn)布局項(xiàng)目,也是紫光國微在高可靠芯片領(lǐng)域的重要產(chǎn)業(yè)鏈延伸。擬建設(shè)小批量、多品種智能信息高質(zhì)量可靠性標(biāo)準(zhǔn)塑料封裝和陶瓷封裝生產(chǎn)線,對保障高可靠芯片的產(chǎn)業(yè)鏈穩(wěn)定和安全具有重要作用。
        • 關(guān)鍵字: 紫光國微  2D/3D  芯片封裝  

        國際最新研究將3D NAND深孔蝕刻速度提升一倍

        • 據(jù)媒體報(bào)道,近日,研究人員發(fā)現(xiàn)了一種使用先進(jìn)的等離子工藝在3D NAND閃存中蝕刻深孔的更快、更高效的方法。通過調(diào)整化學(xué)成分,將蝕刻速度提高了一倍,提高了精度,為更密集、更大容量的內(nèi)存存儲(chǔ)奠定了基礎(chǔ)。這項(xiàng)研究是由來自Lam Research、科羅拉多大學(xué)博爾德分校和美國能源部普林斯頓等離子體物理實(shí)驗(yàn)室(PPPL)的科學(xué)家通過模擬和實(shí)驗(yàn)進(jìn)行的。根據(jù)報(bào)道,前PPPL研究員、現(xiàn)就職于Lam Research的Yuri Barsukov表示,使用等離子體中發(fā)現(xiàn)的帶電粒子是創(chuàng)建微電子學(xué)所需的非常小但很深的圓孔的最簡
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        李飛飛對計(jì)算機(jī)視覺的愿景:World Labs 正為機(jī)器提供 3D 空間智能

        • 斯坦福大學(xué)教授李飛飛已經(jīng)在 AI 歷史上贏得了自己的地位。她在深度學(xué)習(xí)革命中發(fā)揮了重要作用,多年來努力創(chuàng)建 ImageNet 數(shù)據(jù)集和競賽,挑戰(zhàn) AI 系統(tǒng)識別 1000 個(gè)類別的物體和動(dòng)物。2012 年,一個(gè)名為 AlexNet 的神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)在 AI 研究界引起了震動(dòng),它的性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了所有其他類型的模型,并贏得了 ImageNet 比賽。從那時(shí)起,神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)開始騰飛,由互聯(lián)網(wǎng)上現(xiàn)在提供的大量免費(fèi)訓(xùn)練數(shù)據(jù)和提供前所未有的計(jì)算能力的 GPU 提供支持。在 ImageNe
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        谷歌DeepMind發(fā)布Genie 2模型 可一鍵生成超逼真3D互動(dòng)世界

        • 12月5日消息,美國當(dāng)?shù)貢r(shí)間周三,谷歌旗下人工智能研究機(jī)構(gòu)DeepMind推出了一款新模型,能夠創(chuàng)造出“無窮無盡”且各具特色的3D世界。這款模型名為Genie 2,是DeepMind在今年早些時(shí)候推出的Genie模型的升級版。僅憑一張圖片和一段文字描述,例如“一個(gè)可愛的機(jī)器人置身于茂密的森林中”,Genie 2就能構(gòu)建出一個(gè)交互式的實(shí)時(shí)場景。在這方面,它與李飛飛創(chuàng)立的World Labs以及以色列新興企業(yè)Decart所開發(fā)的模型有著異曲同工之妙。DeepMind宣稱,Genie 2能夠生成“豐富多樣的3D
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        Teledyne推出用于在線3D測量和檢測的Z-Trak 3D Apps Studio軟件工具

        • Teledyne DALSA推出在線3D機(jī)器視覺應(yīng)用開發(fā)的軟件工具Z-Trak? 3D Apps Studio。該工具旨在與Teledyne DALSA的Z-Trak系列激光掃描儀配合使用,可簡化生產(chǎn)線上的3D測量和檢測任務(wù)。Z-Trak 3D Apps Studio能夠處理具有不同表面類型、尺寸和幾何特征的物體的3D掃描,是電動(dòng)汽車(電動(dòng)汽車電池、電機(jī)定子等)、汽車、電子、半導(dǎo)體、包裝、物流、金屬制造、木材等眾多行業(yè)工廠自動(dòng)化應(yīng)用的理想之選。Z-Trak 3D Apps Studio具有簡化的工具,用于
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        三星大幅減少未來生產(chǎn)NAND所需光刻膠使用量

        • 據(jù)韓媒報(bào)道,稱三星電子在生產(chǎn) 3D NAND 閃存方面取得重大突破,在其中光刻工藝中大幅縮減光刻膠(PR)用量,降幅達(dá)到此前用量的一半。報(bào)道稱,此前每層涂層需要7-8cc的光刻膠,而三星通過精確控制涂布機(jī)的轉(zhuǎn)速(rpm)以及優(yōu)化PR涂層后的蝕刻工藝,現(xiàn)在只需4-4.5cc。此外,三星使用了更厚的氟化氪(KrF)光刻膠,通常情況下一次工藝形成1層涂層,而使用更厚的光刻膠,三星可以一次形成多個(gè)層,從而提高工藝效率,但同時(shí)也有均勻性問題。東進(jìn)半導(dǎo)體一直是三星KrF光刻膠的獨(dú)家供應(yīng)商,為三星第7代(11微米)和第
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        臺(tái)積電OIP推3D IC設(shè)計(jì)新標(biāo)準(zhǔn)

        • 臺(tái)積電OIP(開放創(chuàng)新平臺(tái))于美西當(dāng)?shù)貢r(shí)間25日展開,除表揚(yáng)包括力旺、M31在內(nèi)之業(yè)者外,更計(jì)劃推出3Dblox新標(biāo)準(zhǔn),進(jìn)一步加速3D IC生態(tài)系統(tǒng)創(chuàng)新,并提高EDA工具的通用性。 臺(tái)積電設(shè)計(jì)構(gòu)建管理處負(fù)責(zé)人Dan Kochpatcharin表示,將與OIP合作伙伴一同突破3D IC架構(gòu)中的物理挑戰(zhàn),幫助共同客戶利用最新的TSMC 3DFabric技術(shù)實(shí)現(xiàn)優(yōu)化的設(shè)計(jì)。臺(tái)積電OIP生態(tài)系統(tǒng)論壇今年由北美站起跑,與設(shè)計(jì)合作伙伴及客戶共同探討如何通過更深層次的合作,推動(dòng)AI芯片設(shè)計(jì)的創(chuàng)新。 Dan Kochpa
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        英特爾傳分拆IC設(shè)計(jì)與晶圓代工 可能對臺(tái)積電不利

        • 英特爾公司(Intel Corporation)8月1日公布新一季財(cái)報(bào)后,股價(jià)出現(xiàn)崩盤式狂跌,面臨存亡危機(jī)。美國財(cái)經(jīng)媒體近期引述知情人士說法,英特爾公司為了挽回局面,正在和投行討論各種可行方案,其中甚至包括分拆IC設(shè)計(jì)與晶圓代工部門。但有臺(tái)灣網(wǎng)友對此表示,美國政府應(yīng)無法讓臺(tái)積電加大對晶圓代工的市占率。根據(jù)美國財(cái)經(jīng)媒體報(bào)導(dǎo),有知情人士表示,英特爾正處于56年歷史中最艱難的時(shí)期,目前正在與高盛、摩根史丹利等投行討論諸多潛在解決方案,分拆IC設(shè)計(jì)與晶圓代工也列入選項(xiàng)當(dāng)中。據(jù)了解,目前各方案都尚在初期討論階段,還
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        內(nèi)存制造技術(shù)再創(chuàng)新,大廠新招數(shù)呼之欲出

        • 制造HBM難,制造3D DRAM更難。
        • 關(guān)鍵字: HBM  3D DRAM  

        鎧俠公布藍(lán)圖:2027年實(shí)現(xiàn)1000層3D NAND堆疊

        • 近日,據(jù)媒體報(bào)道,日本存儲(chǔ)芯片廠商鎧俠公布了3D NAND閃存發(fā)展藍(lán)圖,目標(biāo)2027年實(shí)現(xiàn)1000層堆疊。鎧俠表示,自2014年以來,3D NAND閃存的層數(shù)經(jīng)歷了顯著的增長,從初期的24層迅速攀升至2022年的238層,短短8年間實(shí)現(xiàn)了驚人的10倍增長。鎧俠正是基于這種每年平均1.33倍的增長速度,預(yù)測到2027年達(dá)到1000層堆疊的目標(biāo)是完全可行的。而這一規(guī)劃較此前公布的時(shí)間早了近3年,據(jù)日本媒體今年4月報(bào)道,鎧俠CTO宮島英史在71屆日本應(yīng)用物理學(xué)會(huì)春季學(xué)術(shù)演講會(huì)上表示,公司計(jì)劃于2030至2031
        • 關(guān)鍵字: 鎧俠  3D NAND堆疊  
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        3d ic設(shè)計(jì)介紹

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