阿斯麥（ASML）近日發布2024年第三季度財報。2024年第三季度，ASML實現凈銷售額75億歐元，毛利率為50.8%，凈利潤達21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2，其中14億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間，毛利率介于49%到50%，2024年全年的凈銷售額約為280歐元。ASML還預計，2025年的凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%到53%。ASML 2024年第三季度財報一覽（除非特別說明，數字均以百萬歐元
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據外媒報道，近日，俄羅斯政府已撥款超過2400億盧布（約合人民幣175億元）支持國產半導體制造所需設備、CAD工具及原材料研發，目標是到2030年實現對于國外約70%的半導體設備和材料的國產替代。該計劃已經啟動了41個研發項目，并計劃在未來幾年內再啟動43個新項目，共計110個研發項目。這些項目將覆蓋從180nm到28nm的微電子、微波電子、光子學和電力電子等多個技術領域，為俄羅斯微電子產業的發展奠定堅實基礎。據悉，該計劃由俄羅斯工業部、貿易部、俄羅斯國際科學技術中心 （ISTC）MIET 電子工程部制定
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據外媒報道，高通近期與英特爾就整體收購事宜一事進行了接觸，尚不清楚雙方磋商細節，交易細節還遠未確定，也并未提出正式報價。值得注意的是，即使英特爾接受高通的收購要約，這種規模的交易也會招致多國政府以及歐盟方面的反壟斷審查，也就是交易仍存在很大的變數。
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9月2日消息，據國外媒體報道稱，在美國要求下，ASML明年可能無法為中國廠商維修光刻機。報道中提到，在ASML某些在中國提供服務和備件的許可證于今年年底到期后，現在的荷蘭首相很可能不再為其續期，而相關決定是在美國施加一定壓力后做出的。目前的情況是，ASML的銷售額中，約有一半來自中國。荷蘭新任首相也公開表示，上述規則變動會非常謹慎，因為這會影響光刻機巨頭阿斯麥（ASML）的經濟利益這位新的首相直言：“我們正進行良好的談判。我們也正特別關注阿斯麥的經濟利益，這些利益需要與其他風險權衡，而經濟利益是極其重要的
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8月6日消息，在近日的財報電話會議上，Intel CEO宣布已成功接收全球第二臺價值3.83億美元的High NA EUV（極紫外光刻機）。High NA EUV光刻機是目前世界上最先進的芯片制造設備之一，其分辨率達到8納米，能夠顯著提升芯片的晶體管密度和性能，是實現2nm以下先進制程大規模量產的必備武器。帕特·基辛格表示，第二臺High NA設備即將進入Intel位于美國俄勒岡州的晶圓廠，預計將支持公司新一代更強大的計算機芯片的生產。此前，Intel已于去年12月接收了全球首臺High NA EUV光刻
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英特爾正接收ASML第二臺耗資3.5億歐元（約3.83億美元）的新High NA EUV設備。根據英特爾8/1財報電話會議紀錄，CEO Pat Gelsinger表示，英特爾12月開始接收第一臺大型設備，安裝時間需要數月，預計可帶來新一代更強大的電腦英文。Gelsinger在電話中指出，第二臺High NA設備即將進入在奧勒岡州的廠房。由于英特爾財報會議后股價表現不佳，因此這番話并未引起注意。ASML高階主管7月曾表示，該公司已開始出貨第二臺High NA設備給一位未具名客戶，今年只記錄第一臺的收入。不過
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IT之家 7 月 30 日消息，《電子時報》昨日報道稱，臺積電最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技術。對此，臺積電海外營運資深副總經理暨副共同營運長張曉強表示，仍在評估 High NA EUV 應用于未來制程節點的成本效益與可擴展性，目前采用時間未定。▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻機，圖源：ASML上個月，ASML 透露將在 2024 年內向臺積電交付首臺 High NA EUV 光刻機，價值達 3.8
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全球光刻機大廠ASML近日發布2024年第2季度財報，實現凈銷售額62.4億歐元，同比下滑約7.6%，同比增長約18%，居于官方預測中間值。雖然半導體設備出口限制規定生效造成影響，但中國大陸需求持續旺盛，依然是ASML的第一大銷售市場，市占比依然高達49%，主要項目仍在未受限的DUV設備。 ASML總裁兼首席執行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示，正如此前幾個季度，半導體行業的整體庫存水平持續得到改善。無論是邏輯芯片還是存儲芯片客戶，對光刻設備的利用率都在進一步提高。宏觀環境為主的不確定
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據寧波前灣新區管理委員會7月15日消息，近日寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節點，引入首臺電子束掩模版光刻機。據悉，該設備是光掩模版40nm技術節點量產及28nm技術節點研發的重點設備。光掩模版是集成電路制造過程中光刻工藝所使用的關鍵部件，類似于相機“底片”，光線經過掩膜版后，可在晶圓表面曝光形成電路圖形。目前，我國高精度半導體光掩模版產品主要仍依賴于進口，國產化率極低。據了解，冠石半導體主要從事45nm~28nm半導體光掩模版的規模化生產。當前，冠石半導體一期潔凈車間設計產能為月產5000片180nm~2
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與從「器材之王」跌落的尼康有何區別？
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ASML去年末向英特爾交付了業界首臺High-NA
EUV光刻機，業界準備從EUV邁入High-NA EUV時代。不過ASML已經開始對下一代Hyper-NA
EUV技術進行研究，尋找合適的解決方案，計劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機。據Trendforce報道，Hyper-NA
EUV光刻機的價格預計達到驚人的7.24億美元，甚至可能會更高。目前每臺EUV光刻機的價格約為1.81億美元，High-NA
EUV光刻機的價格大概為3.8億美元，是EUV光刻機的兩倍多
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日前，日本三井化學宣布將在其巖國大竹工廠設立碳納米管 (CNT) 薄膜生產線，開始量產半導體最尖端光刻機的零部件產品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產品）。據悉，此種CNT薄膜可以實現92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學預期年產能力為5000張，生產線預計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數值孔徑、高輸出EUV光刻機提供支持。
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6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機，同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機，預計可將半導體工藝推進到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數值只有0.33，對應產品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預計到2025年可以量產2nm，再往后就得加入多重曝光，預計到2027年能實現1.4nm的量產。High NA光刻機升級到了
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IT之家 6 月 14 日消息，全球研發機構 imec 表示阿斯麥（ASML）計劃 2030 年推出 Hyper-NA EUV 光刻機，目前仍處于開發的“早期階段”。阿斯麥前總裁馬丁?凡?登?布林克（Martin van den Brink）于今年 5 月，在比利時安特衛普（Antwerp）召開、由 imec 舉辦 ITF World 活動中，表示：“從長遠來看，我們需要改進光刻系統，因此必須要升級 Hyper-NA。與此同時，我們必須將所有系統的生產率提高到每小時 400 到 500 片晶圓”
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光刻機 工藝制程
快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公開表示，美國嚴厲的芯片管控規定，只會倒逼中國廠商進步更快。ASML CEO表示，多年來，公司都不用擔心設備的去向會受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話題之一。過去一段時間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。去年，荷蘭政府宣布了新的半導體設備出口管制措施，主要針對先進制程的芯片制造技術，阿斯麥首當其沖。根據ASML今年1月1日發布的聲明，荷蘭政府撤銷的是2023年頒發的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統的出口許可證
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光刻機介紹
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我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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