ASML首席財務官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術路線發展受歐美限制，且光刻機已接近技術極限，此一技術路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續投入資源突破現有限制進行技術跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術路徑？將面臨艱難的抉擇。 據《芯智訊》報導，臺積電已經訂購了High NA EUV（高數值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業談判即將結束，預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關設備訂單。ASML預測其設備的市場需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國
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ASML EUV 光刻機
6月6日消息，據外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統。英特爾此前已經訂購了最新的高NA EUV設備，第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設備。據悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車A
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ASML 光刻機 高NA EUV
據市場消息，目前，ASML High NA EUV光刻機僅有兩臺，如此限量版的EUV關鍵設備必然無法滿足市場對先進制程芯片的需求，為此ASML布局步伐又邁一步。當地時間6月3日，全球最大的半導體設備制造商阿斯麥（ASML）宣布，攜手比利時微電子研究中心（IMEC），在荷蘭費爾德霍芬（Veldhoven）開設聯合High-NA EUV光刻實驗室（High NA EUV Lithography Lab），并由雙方共同運營。推動摩爾定律關鍵因素：High NA EUV技術據業界信息，High NA EUV技術是
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6月6日消息，荷蘭光刻機制造商ASML今年將向臺積電交付其最新款光刻機。據公司發言人莫尼克·莫爾斯（Monique Mols）透露，首席財務官羅杰·達森（Roger Dassen）在近期的分析師電話會議中表示，包括臺積電和英特爾在內的ASML兩大客戶都將在今年年底前拿到高數值孔徑極紫外線（high-NA EUV）光刻機。英特爾已經下單購買了這款最新的光刻機，并于去年12月底將第一臺機器運至其位于俄勒岡州的工廠。目前尚不清楚臺積電何時會收到這些設備。臺積電代表表示，公司一直與供應商保持密切合作，但拒絕對此事
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5月26日，臺積電舉辦“2024年技術論壇臺北站”的活動，臺積電CEO魏哲家罕見的沒有出席，原因是其秘密前往荷蘭訪問位于埃因霍溫的ASML總部，以及位于德國迪琴根的工業激光專業公司TRUMPF。ASML CEO Christophe Fouquet和其激光光源設備供應商TRUMPF CEO Nicola Leibinger-Kammüller近日通過社交媒體透露了魏哲家秘密出訪的行蹤。Christophe Fouquet表示他們向魏哲家介紹了最新的技術和新產品，包括High-NA EUV設備將如何實現未來
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5月25日消息，據外媒報道稱，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克指出，該設備可確保生產350nm（0.35μm）的芯片。圖片來源：塔斯社報道截圖公開資料顯示，350納米尺寸芯片在當代較為落后，但是仍然可以應用于汽車、能源和電信等多個行業。該光刻機的研制成功對于俄羅斯未來實現自主生產芯片具有里程碑意義。圖片來源：全球半導體觀察制圖目前，全球光刻機的主要玩家依舊以ASML、尼康、佳能三家為主。據外媒公開消息，俄羅斯目前主有兩家主要的晶圓廠，分別是Mikron
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據外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經制造完成并正在進行測試。俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產光刻機，作為澤廖諾格勒技術生產線的一部分，目前正在對其進行測試，該設備可確保生產350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產光刻機，下一步將是開發90nm光刻機，并繼續向下邁進。此前，俄羅斯曾表示，計劃到2026年實現65nm的芯片節點工藝，2027年實現28nm本土芯片制造，到2030年實現14nm國產芯片制造。
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上個月英特爾晶圓代工宣布完成了業界首臺High-NA EUV光刻機組裝工作。隨后開始在Fab D1X進行校準步驟，為未來工藝路線圖的生產做好準備。
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IT之家 4 月 19 日消息，英特爾今日宣布其已在位于美國俄勒岡州希爾斯伯勒的 Fab D1X 研發晶圓廠完成世界首臺商用 High NA（0.55NA） EUV 光刻機的組裝工作，目前已進入光學系統校準階段。▲ 圖源英特爾新聞稿這臺光刻機型號 TWINSCAN EXE:5000，為 ASML 的首代 High NA EUV 光刻機，價值約 3.5 億美元（IT之家備注：當前約 25.38 億元人民幣）。就在不久前 ASML 宣布其在荷蘭埃因霍溫總部的另一臺 High NA EUV 光刻機成功
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4月19日消息，光刻機制造商ASML的CEO公開表示，沒有理由不為中國客戶提供售后服務。荷蘭芯片設備制造商阿斯麥（ASML）周三發布的財報顯示，第一季度凈預訂量從去年第四季度的92億歐元降至36億歐元。阿斯麥首席財務官達森稱，中國客戶約占公司積壓訂單的20%。“中國的需求很強勁。其產能增加是合理的，并且符合本世紀后半段的全球需求。”“目前，沒有什么能阻止我們為中國客戶已經購買的產品提供服務”，溫寧克稱。外媒表示，阿斯麥是歐洲市值最高的科技公司，而它現在已經成為美國政府用以遏制中國芯片產業發展的靶子。近日，
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IT之家 4 月 18 日消息，荷蘭半導體設備制造商阿斯麥（ASML）近日向一家未披露名稱的公司交付了其第二臺高數值孔徑 (NA) 極紫外 (EUV) 光刻機。這臺高端光刻機旨在制造比當前低 NA EUV 設備所能制造的更高密度的芯片。據路透社報道，第二臺高端光刻機的出貨意味著這一最新技術正逐漸被采用。然而，ASML 對買家身份諱莫如深，只能猜測其身份，路透社指出英特爾、臺積電和三星都是潛在客戶。事實上，英特爾已經購買了首臺高數值孔徑 EUV 光刻機，用于其即將推出的 14A 制程節點。正如 A
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ASML 光刻機
4月18日消息，ASML公開表示，將繼續為中國大陸廠商提供設備維修服務。此前有消息稱，美國計劃向荷蘭施壓，試圖阻止ASML在中國提供部分設備的維修服務。在業績電話會上，ASML首席執行官溫寧克回應稱，“目前沒有什么可以阻止我們為在中國大陸安裝的設備提供服務。”光刻機是制造芯片的關鍵設備，中國大陸是ASML的第二大市場。因此，這種限制可能對中國的晶圓制造商產生重大影響，特別是對于維護產線穩定運行所必需的光刻機核心部件的供應和維護。之前外界擔心，受限的光刻機主要是NXT:2000i及更先進的機型，而其他未受限
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ASML 光刻機
3月27日消息，據外媒報道，為留住光刻機設備巨頭阿斯麥（ASML）繼續在荷蘭發展，荷蘭政府計劃向ASML注入至少10億歐元資金。本月初，荷蘭當地報紙De Telegraaf揭露，ASML計劃將公司搬離荷蘭。報道指出，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴張或遷移，法國是選擇之一。根據荷蘭通訊社的消息，荷蘭政府為此專門成立了一個名為“貝多芬行動”的特別工作小組，由首相馬克·呂特親自領導，旨在與ASML進行協商以解決其對荷蘭當地勞動力供應、法規政策和供應鏈安全的擔憂。最新消息指出，荷蘭政府計
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半導體 光刻機 ASML
3 月 27 日消息，據荷蘭媒體 Bits&Chips 報道，ASML 官方確認新款 0.33NA EUV 光刻機 ——NXE:3800E 引入了部分 High-NA EUV 光刻機的技術，運行效率得以提升。根據IT之家之前報道，NXE:3800E 光刻機已于本月完成安裝，可實現 195 片晶圓的每小時吞吐量，相較以往機型的 160 片提升近 22%。下一代光刻技術 High-NA（高數值孔徑） EUV 采用了更寬的光錐，這意味著其在 EUV 反射鏡上的撞擊角度更寬，會導致影響晶圓吞吐量的光損失。
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ASM NXE:3800E EUV 光刻機 High-NA
芯片制造商需要速度。在科技日新月異的今天，芯片制造技術的不斷革新成為了推動科技進步的關鍵力量。作為光刻技術的領軍企業，ASML近日發布的第三代EUV光刻機——Twinscan NXE：3800E，無疑為全球芯片制造業帶來了新的希望與機遇。更加先進的光刻機出現，不僅代表著ASML在光刻技術領域的又一次突破，更將助力芯片制造商實現2nm處理器制造的飛躍。又一“神器”出現ASML，作為全球領先的光刻機制造商，不用過多介紹。此次發布的Twinscan NXE：3800E光刻機，是ASML在EUV光刻技術領域的又一
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光刻機介紹
國外半導體設備
我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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