芯片制造離不開光刻機，數據顯示，全球晶圓制造材料中的第一大耗材是硅片，第二大就是電子特氣。以光刻為例，需要的電子特氣就包括氖氣、氬氣、氪氣、氙氣等幾種稀有氣體。這是因為光刻氣體是光刻機產生激光的光源，難以取代。其中氖氣主要用于深紫外光刻領域，服務1x nm到180nm芯片的加工。因為烏克蘭占全球氖氣供應比例高達70%，所以去年一度，氖氣的價格飆升了20倍。不過來自TheElec的報道稱，氖氣的價格已經明顯下跌，這主要是因為中國、韓國等供應商的加入。
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說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備。現如今光刻機領域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領域的核心地位。后續ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產。這就進一步使得ASML成為行業的巨頭。隨著科技的不斷發展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導致其他同行沒有辦法發展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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最新消息顯示，盡管全球經濟將放緩，但三星仍計劃擴大DRAM與晶圓代工的晶圓產能，明年在其P3晶圓廠新設至少10臺極紫外光刻設備（EUV），用于生產最新的12nm級內存芯片，而三星目前僅有40臺EUV光刻機。
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IT之家 12 月 7 日消息，據臺灣地區經濟日報報道，光刻機巨頭 ASML 將擴大在臺灣地區的投資。ASML 臺灣地區新工廠預計將在明年 7 月動工，是該公司在當地的最大投資，并計劃把歐洲供應鏈帶到臺灣地區。臺媒指出，ASML 帶來的歐洲供應鏈將會落地林口工一研發中心、桃園龜山兩處，未來不排除以相同模式陸續在新竹、臺中、臺南落地。此外，ASML 帶來的主要為設備維修及組裝。數據顯示，2022 年第三季度，ASML 實現了凈銷售額 58 億歐元（約 425.72 億元人民幣），毛利率為
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12 月 4 日消息，據 ETNews 消息，三星電子首次引入東進世美肯半導體的光刻膠進入其量產線，這也是三星進行光刻膠本土量產的首次嘗試。不過考慮到三星與海外光刻膠供應商的關系，目前具體產量尚不清楚，且三星是否會額外引進其他品種的光刻膠也并沒有得到回應。報道稱，三星電子已將韓國公司開發的用于高科技工藝的極紫外光刻膠（PR）引入其大規模生產線。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韓國出口包括含氟聚酰亞胺、光刻膠以及高純度氟化氫在內的三項重要半導體及 OLED 面板原材料，經過三年的努力，韓國實現了光刻
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都知道光刻機單臺成本非常的貴，但是你知道有多貴嗎？一臺數億美元的光刻機讓我們看到了一款硬件設備的價格極限，然而，ASML CEO Peter Wennink最新接受媒體采訪時透露，他們正在全力研制劃時代的新光刻機high-NA EUV設備，而高NA EUV光刻機系統的單臺造價將在300億到350億歐元之間，約合人民幣2195到2561億元。這個價格什么概念，一搜頂級航母的價格差不多在100億美元左右，而這臺硬件設備可以買三艘頂級航母，而ASML目前在售的雙工件臺EUV光刻機不過數億美元，作為下一代產品身價
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（中國上海，2022年11月4日）—— 今年，半導體行業的領先供應商ASML將以“光刻未來，攜手同行”為主題繼續亮相第五屆中國國際進口博覽會（以下簡稱“進博會”）技術裝備展區4.1展館A0-01展臺。屆時，ASML將首次通過“元宇宙”平臺，帶來沉浸式的光刻體驗，彰顯前沿科技，推動行業發展。 “今年是ASML第四次參展進博會，我們希望借助進博會的平臺不斷地展現開放共贏、合作發展的理念。”ASML全球高級副總裁、中國區總裁沈波表示，“ASML一直秉持開放與專注，以‘開放式創新’和對光刻技術的專注，持
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本周美光宣布，采用全球最先進1β(1-beta)制造工藝的DRAM內存芯片已經送樣給部分手機制造商、芯片平臺合作伙伴進行驗證，并做好了量產準備。 1β工藝可將能效提高約15％，存儲密度提升35％以上，單顆裸片(Die)容量高達16Gb(2GB)。 一個值得關注的點是，美光稱，1β繞過了EUV（極紫外光刻）工具，而依然采用的是DUV（深紫外光刻）。 這意味著相較于三星、SK海力士，美光需要更復雜的設計方案。畢竟，DRAM的先進性很大程度上取決于每平方毫米晶圓面積上集成更多更快半導體的能力，各公司目
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在先進工藝上，臺積電今年底量產3nm工藝，2025年則是量產2nm工藝，這一代會開始使用GAA晶體管，放棄現在的FinFET晶體管技術。 再往后呢？2nm之后是1.4nm工藝，Intel、臺積電及三星這三大芯片廠商也在沖刺，其中三星首個宣布2027年量產1.4nm工藝，臺積電沒說時間點，預計也是在2027年左右。 1.4nm之后就是1nm工藝了，這個節點曾經被認為是摩爾定律的物理極限，是無法實現的，但是現在芯片廠商也已經在攻關中。 臺積電已經啟動了先導計劃，傳聞中的1nm晶圓廠將落戶新竹科技園下
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2028年實現光刻機自研，可支持7nm芯片制造！俄羅斯真有這個能耐？在芯片規則不斷的升級之下，各個國家不再相信基于美技術體系的國際產業鏈，而中、俄是產業被限制最嚴重的國家，因此在技術的自研上反應也是最強烈的，在中企相繼傳出好消息之后，俄科學院也官宣了好消息。根據海外傳來的消息，俄科學院IPF RAS已經全力參與光刻設備的研發，后續將會有整套的半導體設備誕生，并且其還高調宣稱：“自研的光刻機將在2028年商用，并且可用于7nm左右的芯片量產！”這就讓人納悶了，目前俄國依靠自主化的產業鏈，就連90nm工藝都無
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近期，全球半導體龍頭設備企業阿斯麥（ASML）、泛林（LAM）公布了其最新一季度財報，阿斯麥方面，最新一季度銷售額和利潤均超出市場預期，其新的凈預訂額也創下了紀錄。此外阿斯麥CEO Peter Wennink表示，ASML有望繼續向中國出貨非EUV光刻機；泛林方面，當季公司營收創下歷史新高，官方表示，2023年晶圓廠設備支出將下滑。ASML：有望繼續向中國出貨非EUV光刻機10月19日，光刻機大廠阿斯麥公布了2022年第三季度財報。數據顯示，ASML第三季度凈營收同比增長10%至58億歐元，超出此前業界預
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芯研所9月26日消息，近日美國開發和商業化原子精密制造技術公司Zyvex Labs宣布，其推出了全球分辨率最高的光刻系統——ZyvexLitho1TM。它沒有采用EUV光刻技術，而是基于STM掃描隧道顯微鏡，使用的是電子束光刻（EBL）方式。實現了0.768nm的原子級精密圖案和亞納米級分辨率芯片的制造，遠超EVU光刻機的精度。目前，5nm級及以下的尖端半導體制程必須采用EUV光刻機，而精度更高的2nm制程所使用的ASML新一代0.55 NA EUV光刻機，售價或將高達4億美元。但想要實現1nm以下更先進
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被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機，全新的技術，對標了ASML的EUV誰都知道，俄羅斯已經被美國全面打壓了。俄羅斯的晶片需求量并不大，每年的進口量，也就是一億美元左右，大部分的晶圓廠，都不會和美國競爭。但俄羅斯的一億美金，在俄羅斯來說，就是一個天文數字。俄羅斯將會做什么？前段時間，有消息說俄羅斯準備重新做一臺光刻機。他的目標很明確，就是要用ASML的最新光刻機，去挑戰目前最尖端的EUV（UV）。當然，ASML也不可能戰勝ASML，因為ASML的EUV光刻機，都是全世界的人幫忙做的，俄羅斯這邊，根本就沒有人去做
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集微網消息，據日經新聞報道，尼康公司日前提出半導體光刻設備新的業務發展目標，即到 2026 年 3 月為止的財年，將光刻機年出貨量較目前的三年平均水平提高一倍以上。報道稱，尼康將積極開拓除英特爾以外的其他客戶，特別是日本本土和中國地區客戶，計劃將英特爾在光刻機設備營收中所占比重從 80% 降低到 50%。尼康還將推出適應 3D 堆疊結構器件如存儲半導體、圖像傳感器制造需求的光刻機新產品，已提高其在成熟制程設備市場的競爭力，目前，該公司平均每年售出 16 臺 ArF 光刻機（含二手翻新）。
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在俄羅斯開始對烏克蘭的特別軍事行動之后，西方國家開始對俄羅斯施加各種各樣的制裁。俄羅斯當前面臨嚴峻的商業環境和政治環境，許多信息產業的科技人才紛紛出走，尋找更加安全且有保障的就業環境。根據美媒1日的報道，烏克蘭戰爭爆發以來已經多7萬多名IT技術專家從俄羅斯離開，一些國家向俄羅斯的專業技術人才招手，充實自己的高新技術產業的發展。俄羅斯大量信息技術人才流失的情況已經得到俄羅斯電子通訊協會方面的承認，該協會上周向俄羅斯杜馬委員會遞交的報告之中指出，當前俄羅斯已經流失了5萬到7萬人的科技人才。盡管當前俄羅斯的人才
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光刻機介紹
國外半導體設備
我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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