光刻機(jī) 文章 進(jìn)入光刻機(jī)技術(shù)社區(qū)
光刻機(jī)領(lǐng)域國內(nèi)接近世界先進(jìn)水平，9nm線寬光刻實(shí)現(xiàn)突破
- SEMICON China 2017開幕日即3月14日，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司(后簡稱“SMEE”)宣布，SMEE 與荷蘭公司 ASML 簽署戰(zhàn)略合作備忘錄(MoU)，為雙方進(jìn)一步的潛在合作奠定了基礎(chǔ)。 根據(jù)這項(xiàng)合作備忘錄，ASML 和 SMEE 將探索就 ASML 光刻系統(tǒng)的特定模塊或半導(dǎo)體行業(yè)相關(guān)產(chǎn)品進(jìn)行采購的可能性。此次MoU的簽署代表 ASML 繼日前與上海集成電路研發(fā)中心(ICRD)宣布合作之后，進(jìn)一步深入?yún)⑴c中國的IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。 光刻機(jī)被稱
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沉浸式光刻機(jī)供貨緊缺 臺系內(nèi)存芯片廠制程升級受阻
- 據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)目前供貨十分緊缺，因此臺系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購的這種設(shè)備的時(shí)間 可能會(huì)再后延12個(gè)月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機(jī)對這些廠商轉(zhuǎn)移到38nm以上級別制程至關(guān)重要，因此預(yù)計(jì)臺系內(nèi)存芯片廠商制程轉(zhuǎn)換的進(jìn)度 會(huì)受到較大的影響。NXT:1950i 是荷蘭ASML公司最新開發(fā)的沉浸式光刻機(jī)，可用于制造12英寸32nm及以上級別制程的產(chǎn)品. 此前曾有報(bào)道稱 NXT:1950i的訂貨至到貨日期已經(jīng)被拉長到了將近12個(gè)月，
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ASML Q2業(yè)績創(chuàng)新高 6套EUV設(shè)備將交貨
- ASML日前宣布，其2010年Q2凈銷售達(dá)到1,069 million歐元，凈收入為239 million 歐元，Q2的凈訂單價(jià)值1,179 million 歐元，包括了48套新系統(tǒng)及11套二手系統(tǒng)。各項(xiàng)數(shù)據(jù)均較2010年Q1有所提高。 ASML總裁兼CEO Eric Meurice認(rèn)為，Q2銷售的強(qiáng)勁增長證明了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近期對于光刻設(shè)備的需求，已有近20套NXT:1950i 設(shè)備運(yùn)出。所有ASML的先進(jìn)NXT光刻機(jī)都包括了一個(gè)或多個(gè)一體化光刻部件。對于下一代將要應(yīng)用于20nm以下節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品，E
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全球存儲器短缺的三個(gè)理由
- 2010年全球存儲器可能出現(xiàn)供應(yīng)缺貨，而且非常可能會(huì)延續(xù)下去。為什么?可能有三個(gè)原因，1)，存儲器市場復(fù)蘇;2)，前幾年中存儲器投資不足;3)，由ASML供應(yīng)的光刻機(jī)交貨期延長。 巴克菜投資公司的分析師 Tim Luke在近期的報(bào)告中指出，通過存儲器的食物供應(yīng)鏈看到大量的例證，認(rèn)為目前存儲器供應(yīng)偏緊的局面將持續(xù)2010整年，甚至延伸到2011年。 據(jù)它的報(bào)告稱，2010年全球NAND閃存的位增長可達(dá)70%，而2009增長為41%。2010年全球DRAM的位增長達(dá)52%。 Luke認(rèn)為
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半導(dǎo)體設(shè)備制造商面臨六大挑戰(zhàn)
- 2009年對于半導(dǎo)體設(shè)備制造商是不可忘懷之年。所有制造商都受到危機(jī)的影響，但是2010年半導(dǎo)體工業(yè)正處于恢復(fù)之中，然而設(shè)備制造商仍面臨眾多的挑戰(zhàn)。 在SEMI主辦的ISS會(huì)上Globalfoundries的fab2總經(jīng)理 Norm Armour列出設(shè)備制造商面臨的六大挑戰(zhàn)。 1 兼并加劇 由于在有的設(shè)備類中仍有4-5家制造商，所以兼并將加劇。當(dāng)然也有如光刻機(jī)，僅剩下兩家，但是CVD，PVD，Etch仍顯太多。 2 光刻機(jī)價(jià)格高聳 用在光刻上的投資越來越大(一臺193nm浸
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半導(dǎo)體業(yè)衰退重創(chuàng)設(shè)備業(yè)
- 在全球金融危機(jī)影響下，半導(dǎo)體業(yè)正進(jìn)入前所未遇的嚴(yán)重衰退時(shí)期，半導(dǎo)體固定資產(chǎn)投資在2008年下降27.3%基礎(chǔ)上，2009年將再下降34.1%。綜合分析各大分析機(jī)構(gòu)的預(yù)測數(shù)據(jù)，2009年全球半導(dǎo)體業(yè)年銷售額的下降幅度將在15%到20%之間。 半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)受災(zāi)最重 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中設(shè)備業(yè)受到的影響相對最為嚴(yán)重。依Gartner公司的官方數(shù)據(jù)顯示，全球半導(dǎo)體業(yè)固定資產(chǎn)投資兩年來逐漸下滑，2007年為592億美元，2008年下降了27.3%，為490億美元，而09年將再次下降34.1%，為323億美
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KLA-Tencor推出可解決二次成像挑戰(zhàn)的首款計(jì)算光刻機(jī)
- KLA-Tencor 公司（納斯達(dá)克股票代碼：KLAC）今天推出其領(lǐng)先業(yè)界的最新版計(jì)算光刻機(jī) PROLITH 11。這種新型光刻機(jī)讓用戶首次得以評估當(dāng)前的二次成像方案，并以較低的成本針對光刻在設(shè)計(jì)、材料與制程開發(fā)等方面挑戰(zhàn)，嘗試不同的解決方案。這種新型計(jì)算光刻機(jī)還支持單次成像和浸沒技術(shù)。 KLA-Tencor 制程控制信息部副總裁兼總經(jīng)理 Ed Charrier 指出：“由于光刻復(fù)雜性及實(shí)驗(yàn)成本的大幅增加，電路設(shè)計(jì)師與芯片制造商不得不面對二次成像光刻所帶來的挑戰(zhàn)。計(jì)算光刻已成為控制這
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中芯國際今年將進(jìn)全球45納米"俱樂部"
- 中芯國際正悄悄從海外進(jìn)口關(guān)鍵設(shè)備，欲搶在今年年底試產(chǎn)45納米芯片，從而進(jìn)入全球半導(dǎo)體代工業(yè)45納米的“俱樂部”。 消息人士對《第一財(cái)經(jīng)日報(bào)》透露，29日中芯國際上海12英寸廠采購浸潤式光刻機(jī)已到位，“這標(biāo)志著中芯國際在量產(chǎn)45納米芯片方面有了生產(chǎn)保障。” 天價(jià)光刻機(jī)悄悄到廠 本報(bào)獲悉，這是中國大陸的第一臺浸潤式光刻機(jī)，該設(shè)備由荷蘭ASML生產(chǎn)，后者是全球這一領(lǐng)域的第一大供應(yīng)商。上述消息人士透露，由于光刻機(jī)屬高精密設(shè)備，為防止震動(dòng)，從機(jī)場
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光刻機(jī)介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺,
金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。
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網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn
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