- 日本尼康（Nikon）為了重振業績，將大幅轉變半導體光刻機業務的戰略。目前全球市占率排名第3的尼康將采用不違反對華出口管制的成熟技術設備，在2024年投放新產品，通過尋求逆勢開拓中國市場，以實現卷土重來。《日經中文網》報導說，尼康預測2023財年（截至2024年3月）的合并凈利潤將同比減少22%，降至350億日元（約合臺幣72億元）。半導體設備相關的精密機械業務以及相機影像業務是2大支柱，其中高檔微單相機銷售強勁，但精密機械業務低迷影響獲利。報導說，光刻機是半導體制造的核心，三菱UFJ摩根士丹利證券的調查
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- 日本佳能一直在投資納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導體制造設備集群。計劃將新型芯片制造設備的價格定為阿斯麥極紫外光刻機的十分之一左右，從而在光刻機領域取得進展。佳能首席執行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造設備售價將比阿斯麥（ASML）的極紫外光刻（EUV）設備少一位數，雖然最終的定價目前還沒有敲定，但是可以預見將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條新的道路。
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- 11月6日消息，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）表示，自家在中國市場明年業務非常樂觀。ASML中國區總裁沈波強調，今年阿斯麥中國的業務增長很快，預期全年中國占阿斯麥全球的營收會超過20%，對明年在中國的業務也非常的樂觀。沈波表示："我們2023年在中國的招聘是超過200人的，2024年預計業務的發展會繼續帶來很多需求，團隊的擴充應該還會是一個相對比較大的規模。"按照沈波的說法，從1988年首臺機器運到中國，到2023年底，ASML在中國的光刻機加上量測的機臺裝機量接近1400臺。近期美
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- 11月6日消息，日本佳能一直在投資納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術，并計劃將新型芯片制造設備的價格定在阿斯麥最好光刻機的很小一部分，從而在光刻機領域取得進展。納米壓印技術是極紫外光刻（EUV）技術的低成本替代品。佳能首席執行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，該公司最新的納米壓印技術將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條道路。“這款產品的價格將比阿斯麥的EUV少一位數，”現年88歲的御手洗富士夫表示。這是他第三次擔任佳能總裁，上一次退
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- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出納米壓印半導體制造設備。對于 2004 年就開始探索納米壓印技術的佳能來說，新設備的推出無疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個設備型號是 FPA-1200NZ2C，目前可以實現最小線寬 14nm 的圖案化，相當于生產目前最先進的邏輯半導體所需的 5 納米節點。佳能表示當天開始接受訂單，目前已經向東芝供貨。半導體行業可謂是「苦光刻機久已」，納米壓印設備的到來，讓期盼已久的半導體迎來一線曙光。那么什么是納米壓印技術？這種技術距離真的能夠取代光刻機嗎？納米壓印走向臺前想要
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- 10 月，光刻機大廠佳能（Canon）公司通過新聞稿宣布，其已經開始銷售基于「納米印刷」（Nanoprinted lithography）技術的芯片生產設備 FPA-1200NZ2C。佳能表示，該設備采用不同于復雜光刻技術的方案，可以制造 5nm 芯片。消息一出，不少人發現這種設備已經達到了 EUV 光刻機的水平，甚至將顛覆行業巨頭 ASML。自從 ASML 成功取代尼康佳能，成為高端光刻機的唯一王者之后，這還是第一次傳出這么震撼的消息。日本的光刻機，從稱霸到被甩開，經歷了什么？來自上個世紀的光鮮上世紀末
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- IT之家 10 月 18 日消息，光刻機巨頭 ASML 今日公布了第三季度財務業績，凈銷售額為 67 億歐元（IT之家備注：當前約 517.91 億元人民幣），凈利潤為 19 億歐元（當前約 146.87 億元人民幣），環比都稍有下降，毛利率為 51.9%。▲ 官方圖片錯誤，最后一列是 2023 年第三季度ASML 第三季度季度凈預訂額為 26 億歐元（當前約 200.98 億元人民幣），其中 EUV 預訂額為 5 億歐元（當前約 38.65 億元人民幣）。ASML 預計 2023 年第四季度凈
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- IT之家 10 月 14 日消息，佳能（Canon）公司近日發布新聞稿，開始銷售芯片生產設備 FPA-1200NZ2C，表示采用不同于復雜光刻技術的方案，可以制造 5 nm 芯片。佳能表示這套生產設備的工作原理和行業領導者 ASML 不同，并非光刻，而更類似于印刷，沒有利用圖像投影的原理將集成電路的微觀結構轉移到硅晶圓上。這套設備可以應用于最小 14 平方毫米的硅晶圓，從而可以生產相當于 5nm 工藝的芯片。佳能表示會繼續改進和發展這套系統，未來有望用于生產 2nm 芯片。IT之家注：納米印刷（
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- 近期，俄羅斯國際新聞通訊社報道，俄羅斯在開發可以替代光刻機的芯片制造工具。據悉，圣彼得堡理工大學的研究人員開發出了一種“光刻復合體”，可用于蝕刻生產無掩模芯片，這將有助于俄羅斯在微電子領域技術領域獲得主動權。該設備綜合體包括用于無掩模納米光刻和等離子體化學蝕刻的設備，其中一種工具的成本為500萬盧布（約36.7萬元人民幣），另一種工具的成本未知。開發人員介紹，傳統光刻技術需要使用專門的掩膜板來獲取圖像。該裝置由專業軟件控制，可實現完全自動化，隨后的另外一臺設備可直接用于形成納米結構，但也可以制作硅膜，例如
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- 近年來，光刻機行業發展迅猛，成為半導體產業的重要一環。ASML公司作為全球光刻機行業的龍頭企業，其對華出口光刻機的態度一直備受關注。然而，最近ASML公司的態度再次發生變化，引發了國家的迅速回應。荷蘭的決定被外媒認為將光刻機事情鬧大了。本文將分別從ASML公司態度的變化、荷蘭及日本的對華出口管控、ASML公司的技術依賴和市場地位、我國光刻機技術的突破、ASML公司對華出口限制的影響以及中企自主掌握核心技術等方面進行分析。ASML公司對華出口光刻機態度的變化ASML公司在對華出口光刻機的態度上一直搖擺不定。
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- 最近，光刻機話題異常火熱，似乎全世界都在關注中國本土相關產業的發展。要想制造出一臺可商用的高端光刻機（可制造 7nm 及更先進制程芯片），是一項復雜的工程，因為高端光刻機所需要的精密零部件太多了，每一種的技術含量都非常高，而且，要想把這些零部件組合成一臺可用的機器，需要長期的技術和實踐積累。光刻這個概念，有廣義和狹義之分。在狹義層面，就是用光去「復印」集成電路圖案，這也是我們常說的光學光刻技術，特別是紫外線光刻技術（DUV 和 EUV）。在廣義層面，光刻泛指各種集成電路「復印」和「印刷」技術，這些技術中，
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- 近期，一則消息在各大視頻平臺廣為傳播，稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實現了光刻機國產化，并表示這個項目已經在雄安新區落地。對此，中國電子工程設計院有限公司（下稱中國電子院）9月18日發聲，稱該項目并非網傳的國產光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔，是國家“十三五”重大科技基礎設施，它是我國第一臺高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設、將于2025年底投入使用。北京高能同步
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- 當下，光刻機在半導體行業的地位前所未有的重要，而且已經突破了技術和產業范疇，引發了新一波光刻機之爭。從歷史發展情況來看，光刻機（這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機）的發展和應用經歷了很多波折，總體來看，有兩個值得關注的時期，一個是 ASML 依靠浸沒式技術，異軍突起，并將原本的行業兩強甩在身后，這是技術之戰，另一個是 EUV 商用化之后，先進制程（從 16nm 開始）爭奪戰打響，臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產量有限的 EUV 而展開競爭，這是商業之爭。從目前的情況來看，第三波光刻機之爭正
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- IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進式光刻機“NSR-2205iL1”，預計 2024 年夏季上市。據稱，這種光刻機具有縮小投影放大系統，支持功率半導體、通信半導體和 MEMS 等多種產品，并且與尼康現有的 i-line 曝光設備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進技術在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應客戶對這些在芯片制造中發揮重要作用的光刻系統的需求。尼康表示，與現有的尼康 i-line 曝光系統相比，NS
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- IT之家 6 月 26 日消息，據日本經濟新聞報道，日本經產省與荷蘭經濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯手進行技術開發。▲ 圖源：ASML報道稱，ASML 量產尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經產省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Ra
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光刻機介紹
國外半導體設備
我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
如您感興趣請登錄以下網站或Email:
網址:http://www.loadpoint.com.cn
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