據《連線》雜志報道，在美國康涅狄格州郊區的一間潔凈室中，ASML的工程師們正在為一臺單臺造價1.5億美元的新機器制造關鍵部件，該部件是新一代EUV系統的組成部分，會采用一些新技術來最大限度地減少其使用的光波長，包括縮小芯片的特征尺寸并提升性能。ASML的工程師正在裝配系統組件（圖片來自ASML）
要知道，當前的EUV機器已經像一輛公共汽車那么大，包含10萬個零部件和兩公里長的電纜，運輸這些組件需要40個貨運集裝箱、三架貨機和20輛卡車，能夠買得起這種設備的公
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ASML EUV 光刻機
芯研所消息，ASML第一臺全新TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機系統已經交付給客戶，和前代產品相比生產力提高了約15-20％，套刻精度提高了約30％。據了解，本次交付的TWINSCAN NXE:3600D EUV光刻機的EUV光源波長13.5nm左右，物鏡NA數值孔徑0.33，第二代EUV光刻機將會是NXE:5000系列，物鏡NA提升到0.55，進一步提高光刻精度。ASML表示，正努力增加EUV光刻機在存儲行業的量產應用，計劃協助三個DRAM內存芯片客戶在未來的工藝節點中導入EUV。
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ASML 極紫外光刻機
高通獲供貨華為許可在今年6月2日舉辦的鴻蒙系統發布會上，華為除了推出備受期待的鴻蒙OS2.0正式版之外，還發布了好幾款新品。其中最引人注意的就是新款MatePad Pro，它不僅是華為的第一款鴻蒙平板，還透露出了一個重要信號：高通已經獲得供貨華為許可。之所以這樣說，主要是因為10.8英寸的MatePad Pro，搭載的是閹割后的高通驍龍870處理器，不支持5G網絡，只是一款4G芯片。但這足以證明高通與華為建立了合作關系，如果沒有得到美國的許可，在相關規則的作用下，高通肯定無法向華為出貨。大家都知道，自去年
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高通 華為 臺積電 ASML
芯片雖小，制造難度卻很大，而且芯片制造的關鍵設備光刻機的缺乏，更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發酵，讓我國半導體芯片領域的問題越加明顯，那就是在芯片制造的設備上，我國依然受制于人的問題相當嚴重。為什么ASML加速來華？北大教授的發聲很現實，國產光刻機突破在即雖然華為研發出基于5nm工藝的麒麟9000芯片，令一眾對手刮目相看，但是沒有臺積電為其代工生產，沒有屬于中國自己的高端光刻機，就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進的芯片制造企業中芯國際，因為沒有高端光刻機，至今仍然沒
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EUV 光刻機 ASML
在遭遇了西方的芯片技術封鎖后，我國自主研發高端光刻機的呼聲越來越高，雖然近日來很多權威人士對這樣的做法潑來了冷水，但是國際巨頭ASML卻對國產高端光刻機的研發充滿了“信心”。眾所周知，我國在光刻機研發領域起步較晚，相比于西方仍然具有較大差距，并且根據數據統計，一臺EUV光刻機價值上億美元，并且零件數量高達上萬件，分別來自全球5000多家供應商。更不利的是，美國、日本、德國都是光刻機核心零件的主要供應國，而目前它們對中國的科技發展態度并不友好，所以這也給國產光刻機零件的供應增添了不少難度。即便如此，國產光刻
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ASML 5nm 光刻機
近日，美國以為了振興制造業為由，組成了半導體聯盟，但是明眼人都能看得出來，此舉明顯是針對國產芯片制造業崛起的手段。對于半導體聯盟，全球芯片巨頭也紛紛站隊“美國”，包括高通、臺積電、微軟、谷歌、asml、三星等64家芯片半導體廠商陸續宣布加入。放眼望去，儼然一副對國產芯片形成包圍圈的樣子。不過，所謂半導體聯盟，實際是暗流涌動。?以“美國”為首的半導體聯盟暗流涌動“美國”對我們科技產業的壓制，在近些年一直沒有停止，甚至眼下的華為仍然受到芯片限制的影響。但在全球一體化的情況下，對華為和國產芯片進行壓制，完全是“
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臺積電 ASML
繼本月15日就EUV光刻機出口管制發表看法后，荷蘭ASML（阿斯麥）CEO溫彼得（Peter Wennink）在23日再次表達了自己的意見。他強調的一個重點是，這樣做只會加快中國自主研發的速度。雖然溫彼得認為知識產權保護力度要保持，但他并不認可切斷高端技術出口的做法。“如果你采取出口管制措施將中國市場拒之門外，這將迫使他們爭取技術自主權……在15年的時間里，他們自己將能夠做出所有的這些東西，而且他們的市場（針對歐洲供應商的市場）將徹底消失。”溫彼得在阿斯麥總部所在地——荷蘭費爾德霍芬與媒體交流時時作出該表
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ASML 5nm 光刻機
據美媒Politico報道，荷蘭光刻機制造商、行業巨頭ASML的總裁溫寧克日前表示，美國針對中國的芯片出口禁令傷害了歐洲半導體行業，“15年之內，中國將有能力制造所有產品。到那時，歐洲供應商的中國市場將會消失。” 溫寧克說，歐盟不應根據美國戰略而限制高端技術向中國出口，這樣會加速幫助中國實現“科技自主”。 近年來，隨著美國對中興通訊、華為以及眾多中國高科技公司的打壓，歐洲一些芯片制造關鍵技術和產品未獲得美國許可，無法出口給中國。這種針對中國的“卡脖子”做法也讓一些歐洲企業利潤下降明顯，其中原因是歐洲對
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ASML
近日，中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發關注。針對雙方此次合作，有媒體報道稱“除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機。”但是這一說法很快被ASML官方澄清，該協議與DUV光刻技術的現有協議相關。 可能很多網友看到這里有點蒙圈，這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普，EUV和DUV到底有啥區別呢？EUV也就是“極深紫外線”的意思，而DUV是“深紫外線”的意思，通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級，實際上也是如此。 ASML澄清與中
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中芯國際 ASML DUV EUV
如今全球芯片短缺，不僅僅已經嚴重影銷到了科技數碼產業，就連汽車產業也深受其害。為了滿足2021年的需求激增，目前有國外媒體稱臺積電一口氣向荷蘭ASML下達了18臺最先進的極紫外光刻機需求，如此之大的需求量可以說是史上的天量，三星英特爾急了。ASML光刻機搶破頭 因為目前全球能夠提供最先進極紫外光刻機的只有荷蘭ASML一家，在剛剛過去的2020年當中，ASML面向全球客戶一共才交付了31臺極紫外光刻機，也就是說臺積電如果一口氣吞掉了18臺的話，就占盡了全球半導體新工藝產能的半數以上還要多。 而對于正在步
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ASML 5nm 光刻機
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發布了2020年Q4和全年財報，這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機，中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺。 有人說阿斯麥是唯一一個能讓臺積電折腰的公司，這一點也不夸張。阿斯麥所生產的光刻機，是半導體工廠生產芯片的最關鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花。 如果有任何廠商的光刻機設備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠商就要付給他們以小時計的美金。 曾經，某上市公司的光刻機出問題后，排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
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EUV 光刻機 ASML
拜登上任在即，他會緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示，即使總統換屆，兩國在包括光刻機在內的半導體領域，仍將出現進一步的對抗。也有人發表看法，發展芯片，開源指令集架構RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」？ 離美國新任總統拜登的上任越來越近了。 在過去川普任職期內，中美之間的貿易戰讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一。 由于美國政府的壓力，其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售。 由于川普的舉動常常出其不意而且瘋狂
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EUV 光刻機 ASML
今年7月，在中國科學院官網上發布了一則研究進展，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發表了題為《超分辨率激光光刻技術制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發表在《納米快報》（NanoLetters）。圖截自官網ACS官網 消息一經發出，外界一片沸騰，一
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中科院 光刻技術 ASML
據TechWeb網站11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作。 據了解，先進制程的光刻機對于曝光設備的分辨率要求更高。與此同時，ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃，預計相應的曝光設備全線準備好之后，會在2022年實現商業化。 然而，這家荷蘭企業的光刻機制造技術卻變得重大突破之際，我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據悉，中芯
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14日訊，《科創板日報》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規格，這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開始發貨。
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