荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）1月20日發布了2020年Q4和全年財報，這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機，中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺。 有人說阿斯麥是唯一一個能讓臺積電折腰的公司，這一點也不夸張。阿斯麥所生產的光刻機，是半導體工廠生產芯片的最關鍵工具。畢竟，沒有刀，再好的師傅也雕不出來花。 如果有任何廠商的光刻機設備需要維修，阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻，廠商就要付給他們以小時計的美金。 曾經，某上市公司的光刻機出問題后，排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
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拜登上任在即，他會緩解緊張的中美科技局勢嗎？近期，全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示，即使總統換屆，兩國在包括光刻機在內的半導體領域，仍將出現進一步的對抗。也有人發表看法，發展芯片，開源指令集架構RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」？ 離美國新任總統拜登的上任越來越近了。 在過去川普任職期內，中美之間的貿易戰讓不少科技公司都卷入其中，總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一。 由于美國政府的壓力，其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售。 由于川普的舉動常常出其不意而且瘋狂
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今年7月，在中國科學院官網上發布了一則研究進展，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》（Nano Letters）上發表了題為《超分辨率激光光刻技術制備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度激光光刻加工方法。該論文發表在《納米快報》（NanoLetters）。圖截自官網ACS官網 消息一經發出，外界一片沸騰，一
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據TechWeb網站11月30日最新報道，近日荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）又送來一則好消息，該司已經與比利時半導體研究機構IMEC共同完成了1nm光刻機的設計工作。 據了解，先進制程的光刻機對于曝光設備的分辨率要求更高。與此同時，ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計工作。按照阿斯麥的計劃，預計相應的曝光設備全線準備好之后，會在2022年實現商業化。 然而，這家荷蘭企業的光刻機制造技術卻變得重大突破之際，我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機至今卻還未到貨。據悉，中芯
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14日訊，《科創板日報》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規格，這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開始發貨。
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9月16日，中國科學院院長白春禮在國新辦發布會上介紹稱，“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局，集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。白春禮稱，從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此，首先要進行體制機制改革。他稱，目前已經設立了創新研究院、卓越創新中心、大科學中心和特色所四類機構，目的是根據科研性質不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置。“這個工作還沒有完，只是進行了一部分，所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構全部做完，
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臺積電在高端制程技術上沖鋒陷陣，已經成為光刻機龍頭 ASML 在 EUV 機臺上的最大采購客戶，累計已經購買了 30 臺 EUV 設備。日前，ASML 繼在韓國成立 EUV 技術培訓中心后，也在臺積電先進制程的重鎮臺灣臺南，成立 EUV 技術培訓中心。一臺EUV系統需要50個工程師操作一臺造價逾一億歐元的精密 EUV 系統，重量高達 180&nbs
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日前，中國國際半導體技術大會（CSTIC）在上海開幕，為期19天，本次會議重點是探討先進制造和封裝。其中，光刻機一哥ASML（阿斯麥）的研發副總裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能夠處理7nm和更先進工藝的設備，EUV技術已經被廣泛認為是突破摩爾定律瓶頸的關鍵因素之一。Yen援引統計數據顯示，截至2019年第四季度，ASML當年共售出53臺EUV NXE：3400系列EUV光刻機，使用EUV機器制造的芯片產量已經達到1000萬片。他說，EUV已經成為制造7nm、5nm和3nm邏輯集成電
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提到荷蘭ASML公司，大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機供應商，7nm及以下的工藝生產都要靠他們的設備。不過ASML不只是光刻機厲害，今天他們宣布了另外一個新產品——第一代HMI多光束檢測機HMI eScan1000，適用于5nm及更先進工藝，使得產能大漲600%。隨著制程工藝不斷提升，晶圓的制造也越來越復雜，這也會導致晶圓中的錯誤更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技術的檢測系統，內部也有復雜的光電子系統，能夠產生、控制多個電子束，然后根據反射回來的電子束成像來分析晶圓質量，并有
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據外媒報道，由于擔心新型冠狀病毒疫情帶來的不確定性，三星和臺積電的半導體設備供應商ASML宣布撤回2020年第二季度的業績預期。不過，這家生產極紫外線(EUV)光刻設備的荷蘭公司補充說，該公司的設備訂單依然強勁，需求也沒有變化。ASML首席執行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說：“需求前景沒有變化，今年我們沒有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當前形勢充滿挑戰，但到目前為止，我們能夠繼續保持正常業務。”但溫寧克補充說：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發展、終端市場、我們的制造能力以及
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作為全球唯一能生產EUV光刻機的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機,主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產的5nm工藝,預計今年出貨35臺EUV光刻機。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結構相同,但NXE:3400C采用模塊化設計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的產能也從之前的125WPH(每小時處理晶圓數)提升到了175WPH。不論NXE:3400B還是NXE:
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根據外媒報導，已經多年蟬聯全球半導體設備龍頭的美商應材公司（Applied Materials），2019年可能將其龍頭寶座，讓給以生產半導體制造過程中不可或缺曝光機的荷蘭ASML，原因是受惠即紫外光刻設備（EUV）的市場需求大增，進一步拉抬了ASML的市占率表現。
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用了將近30年的時間，荷蘭光刻機巨頭ASML（阿斯麥）終于要超過Applied Materials（美國應用材料公司），成為全球最大的半導體設備企業。
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半導體芯片設備制造商ASML執行長日前表示，針對全球半導體市場狀態，目前來說高端的邏輯運算芯片需求依舊非常強勁，但存儲器市場相較來說就顯得疲弱，不過即便如此，目前存儲器市場已開始逐漸復蘇。
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本周（2019.11.04-2019.11.08）上證指數上漲0.20%，深證成指上漲0.95%，創業板指上漲1.44%，申萬電子指數上漲2.75%，位列申萬28 個一級行業漲跌幅第1 位。目前，電子板塊TTM 市盈率為39 倍，位列申萬28 個一級行業的第3 位。股價漲幅前五名：佳禾智能(68.990, -2.27, -3.19%)、鵬輝能源(21.900, -0.50, -2.23%)、恒久科技(12.380, 0.49, 4.12%)、惠威
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