據外媒報道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動研發分辨率可達5納米的Hyper NA光刻機設備。ASML技術執行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進的光刻機，其單次曝光分辨率可達8納米，相比舊款設備需要多次曝光才能實現類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是開發數值孔徑（NA）達到0.7或更高的系統。數值孔徑是衡量光學系統聚焦能力的重要指標，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長
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ASML 5納米 Hyper NA 光刻機
這是一場追光人的技術狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發出光刻英雄帖，集結菁英光刻「芯」勢力與ASML共尋技術之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢力知識挑戰賽由全球半導體行業領先供應商ASML發起，是一項面向中國半導體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領域的技術積累與行業洞察，賽事致力于為參賽者打造一個深度探索光刻技術的知識競技窗口，同時培養優秀科技「芯」勢力，共同推動摩爾定律演進。本次挑戰賽聚焦光刻技術教育普及，通過涵蓋光學、物理學知識的專業試題帶領參賽者深入了解光刻機、計算光刻、量測等
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ASML 光刻
荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續制程中導入。路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現有最昂貴設備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。臺積電技術開發資深副總經理張曉強表示，即便不使用High-N
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臺積電 ASML EUV 機臺
全球最大的合同芯片制造商臺積電制造股份有限公司 （2330.TW） 仍在評估何時將 ASML 的尖端高數值孔徑 （NA） 機器用于其未來的工藝節點，一位高管周二表示。芯片制造商正在權衡這些價值近 4 億美元的機器的速度和精度優勢何時會超過芯片制造廠中最昂貴的設備幾乎翻倍的價格標簽。當被問及臺積電是否計劃將這臺機器用于其即將推出的 A14 和未來節點的增強版本時，Kevin Zhang 表示，該公司尚未找到令人信服的理由。“A14，我所說的增強，在不使用 High-NA 的情況下非常可觀。因此，我們的技術團
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臺積電 ASML “High-NA”
ASML 的光學投影光刻機的熱度經久不衰，伴隨著 High NA EUV 光刻機和國產光刻機概念引發的關注，各種行業研報層出不窮。相比之下，電子束光刻的賽道就顯得冷清了。除了常規的科研方向的應用外，小規模試產，量子芯片也是電子束光刻機的主要應用。而光罩廠中的光罩圖形化，則是當下電子束光刻最重要的用途，其重要性絲毫不亞于 ASML 的各型光刻設備。電子束與光：殊途同歸電子本身所具有的波粒二象性決定了，更高的能量下，其具有的更高的頻率能夠等效于更小的波長。當電子束的能量為 100keV 時
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?ASML
據荷蘭媒體報道，ASML計劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產業園區。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發展計劃初步草案時透露的。這一擴張計劃引發了全球晶圓制造行業的廣泛關注。據Tom's Hardware報道，臺積電、英特爾和三星電子等半導體巨頭或將從中受益。ASML的擴張如果能按計劃推進，將有助于滿足全球對極紫外光（EUV）光刻設備的迫切需求，從而加速先進制程的開發與應用。Brainport產業園區的擴張計劃大約在一年前首次公開。據荷蘭消
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EUV 光刻機 ASML
據媒體報道，荷蘭半導體設備制造商ASM International（簡稱“ASM”）在2025年第一季度財報電話會議上宣布，將立即啟動在美國本土的生產計劃，以應對美國近期實施的關稅政策。今年4月初，美國總統特朗普簽署了一項“對等關稅”行政令，宣布對包括荷蘭在內的歐盟成員國加征25%的鋼鐵、鋁和汽車進口關稅，其他商品則面臨20%的關稅。這一政策覆蓋了歐盟對美出口的約70%，總價值高達5320億歐元。此外，特朗普還計劃對暫時豁免的藥品、半導體等產品單獨加征關稅。為避免關稅影響，ASM首席財務官Paul Ver
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ASML EUV 芯片工具
三星電子和ASML曾于2023年12月宣布共同投資7億歐元（約1萬億韓元），在大都市地區建立極紫外（EUV）研究中心，致力于打造面向未來的半導體制造設備以保持三星在先進工藝制程技術的領先性。針對這次合作，ASML特別與韓國土地住宅公社（LH）簽訂了在京畿道華城購買6個地塊（約 19,000 平方米）的合同以建設研發中心。不過最近這項計劃可能出現了一些變動， ASML最近出售了其中的兩塊地塊，并且正在處理另外兩塊地塊。盡管還剩下兩個地塊，但ASML似乎沒有計劃在剩余的空間里與三星建立研發中心。 ASML 是
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三星電子 ASML EUV
阿斯麥（ASML）近日發布2025年第一季度財報。2025年第一季度，ASML實現凈銷售額77億歐元，毛利率為54%，凈利潤達24億歐元。第一季度的新增訂單金額為39億歐元2，其中12億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2025年第二季度凈銷售額在72億至77億歐元之間，毛利率介于50%至53%3；對2025年展望保持不變，預計全年凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%至53%。（除非特別說明，數字均以百萬歐元為單位）2024年第四季度2025年第一季度凈銷售額9,2637,742其中裝
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ASML 2025年第一季度財報
荷蘭半導體設備龍頭阿斯麥（ASML）今（16）日公布出第一季財報，顯示訂單金額大幅縮水至39.4億歐元，較上季銳減44.5%，凸顯半導體產業需求放緩的隱憂，也讓市場關注明（17）日臺積電的法說會。CNBC報導，ASML第一季凈銷售額為77.4億歐元，凈利達23.6億歐元，訂單金額為39.4億歐元，低于市場預期的48.2億歐元，較前季大幅衰退44.5%，其中極紫外光微影（EUV）機臺訂單金額為12億歐元。盡管訂單金額大減，但ASML執行長傅凱（Christophe Fouquet）表示，需求前景依然強勁，A
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半導體 ASML
近日，英特爾前CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）宣布加入xLight，擔任董事會執行董事長，xLight官網上個月也公布了這一消息。xLight是一家面向極紫外（EUV）光刻機開發基于直線電子加速器的自由電子激光（FEL）技術的EUV光源系統的初創公司。xLight雖然規模很小，但其團隊在光刻和加速器技術領域擁有多年的經驗，不僅擁有來自斯坦福直線加速器和其他地方的粒子加速器資深研究人士，其首席科學家Gennady Stupakov博士還是2024年IEEE核能和等離子體科學學會粒子加速器科學
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英特爾 EUV ASML xLight LPP FEL 光刻
快科技4月3日消息，據NRC報道，一名43歲的俄羅斯工程師German A.，被指控從ASML阿斯麥、GlobalFoundries格芯、NXP恩智浦、TSMC臺積電竊取機密技術信息，從而幫助俄羅斯建立了自己的28nm晶圓廠。根據指控，他偷竊了ASML 105份內部文件、臺積電88份內部文件，涉及半導體生產、各種芯片制造設備的信息。文件中并沒有設計和建造晶圓廠的完整藍圖，后者更高級的技術，但仍被視為機密，足以支撐建立完整的28nm級工藝生產線，軍用等領域足夠了。調查稱，German A.通過網盤、社交應用
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俄羅斯 ASML 光刻機
近日，荷蘭半導體設備制造商ASML宣布，計劃在日本將其先進的極紫外光（EUV）芯片工具的員工人數擴增五倍，這一舉措旨在加強其在全球半導體市場的競爭力。隨著全球對高性能芯片需求的激增，ASML的這一決策不僅能提升其在日本的業務運營，也將進一步推動當地半導體產業的發展。ASML在全球的影響力不斷增強，特別是在EUV技術方面，該技術被認為是制造下一代高性能芯片的關鍵。隨著日本在半導體制造領域的持續投入，ASML的擴張計劃將有助于促進當地人才的培養及技術的進步。此外，ASML的擴展計劃正值日本其他半導體公司如Ra
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ASML EUV 芯片工具
自ASML官網獲悉，當地時間3月11日，ASML宣布同比利時微電子研究中心（imec）簽署新的戰略合作伙伴協議，重點關注半導體研究與可持續創新。據悉，該協議為期五年，旨在開發推動半導體行業發展的解決方案，并制定以可持續創新為重點的計劃。此次合作涵蓋了阿斯麥的全部產品組合，這些設備將導入由imec牽頭建設的后2nm制程前沿節點SoC中試線NanoIC，研發的重點領域還將包括硅光子學、存儲器和先進封裝，為未來基于半導體的人工智能應用在不同市場提供全棧創新。
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ASML IMEC 芯片制程 2nm
根據CINNOResearch最新發布的全球半導體設備行業研究報告顯示，2024年全球半導體設備商半導體營收業務Top10營收合計超1100億美元，同比增長約10%。2024年全球半導體設備廠商市場規模Top10與2023年的Top10設備商相同，榜單前五名連續兩年保持穩定：荷蘭公司ASML全年營收超300億美元，排名首位；美國公司應用材料（AMAT）2024年營收約250億美元，排名第二；美國公司泛林（LAM）、日本公司Tokyo Electron（TEL）、美國公司科磊（KLA）分別排名第三、第四和第
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