- 荷蘭當地時間1月23日，ASML發布了去(2018)年第四季度及全年的業績報告。 報告指出，去年第四季度凈銷售額為31億歐元，凈收入為7.88億歐元，毛利率為44.3%。 具體來看，ASML指出，DUV光刻業務中，存儲客戶的需求使得TWINSCAN
NXT:2000i保持著持續增長。同時ASML也提高了該產品的可靠性，據了解，上一代產品需要六個月才能達到高可靠性，而該產品僅用了兩個月。 去年全年，ASML凈銷售額為109億歐元，凈收入為26億歐元?！ ≈档米⒁獾氖?，ASML已與尼康簽署了諒解
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EUV ASML
- 用于高端邏輯半導體量產的EUV(Extreme
Ultra-Violet，極紫外線光刻)曝光技術的未來藍圖逐漸“步入”我們的視野，從7nm階段的技術節點到今年(2019年，也是從今年開始)，每2年~3年一個階段向新的技術節點發展?！ 「叨诉壿嫲雽w的技術節點和對應的EUV曝光技術的藍圖。 也就是說，在EUV曝光技術的開發比較順利的情況下，5nm的量產日程時間會大約在2021年，3nm的量產時間大約在2023年。關于更先進的2nm的技術節點，還處于模糊階段，據預測，其量產時間最快也是在2026
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ASML EUV
- 12月19日晚間，中國首臺ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于無錫的工廠?！ 嗀SML證實，此次入駐SK海力士無錫工廠確為NXT2000i，也即NXT2000。ASML解釋道，i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的機器。所以NXT2000即NXT2000i。 據了解，無錫是SK海力士在中國的DRAM內存芯片生產基地，目前每月晶圓的產量約為14萬片。 同時，SK海力士還成立了SK Hynix System
IC公司，開始進軍晶圓代工市場，同時增加100
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ASML NXT2000i
- 半導體設備供應商的排名在2016-2017年間沒有發生太大的變化，但是這種格局正在發生變化。不僅Lam
Research、ASML和東京電子的位次發生調轉，排名第一的應用材料公司的寶座位置也岌岌可危。 自1990年以來，應用材料公司一直是半導體設備領域的市場領導者。在此之前的1989年，坐在鐵王座位置上的還是日本的東京電子，該公司2016年排名第四，今年前三季度的新排名則是第二。除了位次的變化，也許更重要的是，領頭羊和第二名的差距正在迅速收窄?！ ?016年，應用材料公司的市場份額比Lam
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ASML NAND
- 近日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過驗收。消息傳著傳著，就成了謠言——《國產光刻機偉大突破，國產芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術封鎖，彎道超車》《厲害了我的國，新式光刻機將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋! 關于光刻機，這些知識您得知道 光刻機不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個多世紀前，美國人用這個原理“印刷”電路，從而有了大規模集成電路——芯片。為了節能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機越做越極
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光刻機 ASML
- 11月30日晚上，荷蘭費爾德霍芬的一個科技園區發生火災，ASML的一家供應商Prodrive遭受了重創，部分廠房與倉庫遭受波及。12月3日，ASML發表聲明稱：“Prodrive供應ASML的部分電子元件和模組，ASML初步評估至2018年底的出貨計劃不變，但預期部分2019年初的出貨將受影響。”ASML還表示需要幾周的時間詳細評估該事件對公司的影響?！ SML目前已開始協助Prodrive重啟生產，同時ASML也已與其他供應商接洽，以確保相關組件和材料的替代來源供應無虞。 12月作為2018年最
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ASML 晶圓
- 中美貿易大戰把當今最先進的半導體產業推上了風口浪尖上，整個產業鏈上，國內半導體芯片的產業發展就卡在IC制造這一塊上了。
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ASML 光刻機
- 日前，有消息稱，比利時研究機構Imec和微影設備制造商ASML計劃成立一座聯合研究實驗室，共同探索在后3nm邏輯節點的奈米級元件制造藍圖。此次雙方這項合作是一項為期五年計劃的一部份，分為兩個階段： 首先是開發并加速極紫外光(EUV)微影技術導入量產，包括最新的EUV設備準備就緒?！ ∑浯螌⒐餐剿飨乱淮邤抵悼讖?NA)的EUV微影技術潛力，以便能夠制造出更小型的奈米級元件，從而推動3nm以后的半導體微縮?！ O紫外光(EUV)微影技術 EUV光刻也叫極紫外光刻，它以波長為10-14 nm的極紫外
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ASML EUV
- 荷蘭有著很好的經濟基礎，同時產業完善，產業起步本來就早，同時對半導體產業非常重視，注重商業的拓展和普及，而不只是在實驗室弄研究。
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半導體 ASML
- 中國集成電路制造年會近日邀請到了光刻機霸主ASML(阿斯麥)中國區總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關心的話題。 盡管UMC(聯電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進工藝的研發，但ASML依然對EUV光刻機的前景表示樂觀?！ 〈饲坝邢⒅赋?，中芯國際(SMIC)今年已向ASML訂購了一臺EUV光刻機，預計明年交付，用于7nm節點?！ ⊥瑫r，傳統的沉浸式光刻機方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進的NXT：2000i，很快會在中國市場上也見到
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ASML 光刻機
- 在高科技領域，美國這一年來加強了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工?！ ≡诠饪虣C領域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機市場，在EUV光刻機中更是獨一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機。在高科技領域，美國這一年來加強了對中國人的防范，不只限于美國本土，就連歐洲公司也受到了美國政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國籍員工。 如果說半導體產業是制造工業的皇冠，那么光刻機可以說是皇冠上的明珠，因為光刻機是半導體制造中最關
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ASML 光刻機
- 業界領先的特種化學及先進材料解決方案的公司Entegris(納斯達克：ENTG)日前發布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術進行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設備制造商之一的ASML密切合作而開發的，已在全球率先獲得ASML的認證，用于NXE:3400B等產品。 隨著半導體行業開始更多地使用EUV光刻技術進行先進技術制程的大批量制造(HVM)，對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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Entegris EUV ASML
- 據外媒報道，光刻機霸主ASML(阿斯麥)已經開始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺深紫外光刻機)，可用于7nm和5nm節點?！ XT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機的有效補充，畢竟臺積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝。 同時，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產品，達到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)。 ASML將于本季度末開始量產Twin
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ASML 光刻機
- 荷蘭有恩智浦、ASML、飛利浦等世界領先的半導體企業，而國內半導體產業的基礎目前依舊薄弱。
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ASML 恩智浦
- 載具對于曝光機發揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機載具，并為全球最大的半導體設備制造商ASML提供載具相關技術。
我們主要研究EUV的配套技術，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術產品已經達到國際先進水平，這是一個值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術的研究會越來越困難
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