- 5 月 29 日消息，半導體行業花了十多年的時間來準備極紫外線 (EUV) 光刻技術，而新的高數值孔徑 EUV 光刻（High-NA EUV）技術將會比這更快。目前，最先進的芯片是 4/5 納米級工藝，下半年三星和臺積電還能量產 3nm 技術，而對于使用 ASML EUV 光刻技術的 Twinscan NXE:3400C 及類似系統來說，它們大都具有 0.33 NA（數值孔徑）的光學器件，可提供 13 nm 分辨率。目前來看，這種分辨率尺寸對于 7 nm / 6 nm 節點 (36 nm ~ 38 nm)
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EUV 光刻機 ASML
- 5月17日消息，為了強調光在推進科學進步過程中的重要作用，聯合國教科文組織將每年的5月16日定為“國際光日”。5月13日，ASML在一篇公眾號文章中稱，現有技術能實現1nm工藝，摩爾定律可繼續生效十年甚至更長時間。 ASML稱，在半導體領域，摩爾定律——這一誕生于1965年的前瞻推斷，就扮演著如同光一樣的角色，指引芯片制造的每一次創新與突破。在過去的50多年里，摩爾定律不斷演進。摩爾關于以最小成本制造復雜芯片的最初預測，也在演進過程中被轉述成各種各樣的表述，現在這個定律最常被表述為半導體芯片可容納的
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ASML 芯片工藝
- 日前，ASML對目前的芯片產能做出了推測，目前沒有任何跡象表明相關需求放緩。根據ASML首席執行官Peter Wennink在財報會議上的說法，目前，在各大細分市場的客戶對于先進和成熟芯片制造技術需求已經到了一種“前所未有”的地步，且沒有任何減弱的跡象。用戶旺盛的需求導致Wennink不得不承認，由于產能限制，ASML目前做多只能滿足其深紫外光刻機需求的60%左右。Wennink表示，這意味著，直到2023年，芯片產能都將處在嚴重短缺的狀態，并且沒有看到任何能夠表明需求放緩的跡象。在此次電話會議上，Pet
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ASML 芯片產能
- ASML公司雖然是荷蘭企業，但不少網友都把ASML公司“美”化了，這里的“美”指的是美國。在華為遭遇到芯片封鎖之前，中國半導體企業就曾向ASML公司支付了定金，采購了一臺EUV光刻機。然而，ASML公司卻遲遲沒有發貨，這也引起了網友的各種猜疑。眾所周知，全世界只有ASML公司能夠生產EUV光刻機，而一部EUV光刻機上就有超過10w的精密零件，各方面的技術也是來自全世界各國的頂尖技術。所以ASML公司的光刻機一直是供不應求。但明明已經收了定金，10億一部的EUV光刻機，ASML公司為何有生意不做呢？大部分的
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EUV ASML 光刻機
- 光刻機是半導體制造中的核心設備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發、生產，但它的技術限制也很多，俄羅斯計劃開發全新的EUV光刻機，使用的是X射線技術，不需要光掩模就能生產芯片。 光刻機的架構及技術很復雜，不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點，分別是常數K、光源波長及物鏡的數值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝。 俄羅斯莫斯科電子技術學院 (MIET)現在就接下了貿工部的6.7億盧布資金(約合51
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光刻機 ASML
- 當前，芯片問題廣受關注，而半導體工業皇冠上的明珠——以極紫外（EUV）光刻機為代表的高端光刻機，則是我國集成電路（IC）產業高質量發展必須邁過的“如鐵雄關”。如何在短期內加快自主生產高端光刻機的步伐，打破國外的技術封鎖和市場壟斷？筆者認為，應找準關鍵技術，攻克核心設備，躋身上游產業。認清光刻關鍵技術對于光刻機，憑什么美國可以左右荷蘭阿斯麥公司（ASML）EUV光刻機的出海國家？ASML又為什么“愿意”聽從美國的“擺布”？一方面，美國在ASML早期研發階段給予大力扶持，幫助其獲取最新的研究成果；作為繼續扶持
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光刻機 ASML
- 日前國產芯片廠商格科微宣布成功實現整套ASML光刻機中的關鍵設備——先進ArF光刻機的搬入。據格科微表示，目前，格科微潔凈室已按計劃分階段順利驗收，相關廠務系統配備進展順利，共有六十一臺設備已經搬入。未來，外延、蝕刻、薄膜、清洗等相關設備仍會陸續搬入。格科微表示，ArF光刻機的成功引入，是格科微“12英寸CIS集成電路特色工藝研發與產業化項目”建設的關鍵節點。依托自有工廠即格科半導體的先進制程，格科微將進一步加快先進CIS工藝和高階專利像素的研發速度，并在自有工廠實現批量生產驗證，從而極大縮短高端產品從研
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CMOS傳感器 ASML 光刻機
- 3 月 29 日消息，光刻機巨頭阿斯麥 ASML 在新加坡一間工廠的開幕式上宣布，將在該工廠興建第二座制造車間，預計將于 2023 年初投產。擴建后的工廠將讓該公司在新加坡的產能增加 3 倍，全球產能倍增。ASML 是世界領先的科技公司之一，全球半導體價值鏈的主要參與者。這里設計的技術和機器有助于在新加坡、韓國或美國生產芯片。世界上最大的芯片制造商們都需要這種設備。在生產處理器芯片的過程中，EUV 光刻機最昂貴。目前全世界只有阿斯麥（ASML）能制造出 EUV 光刻機。在過去的十年時間里，阿斯麥總共售出大
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光刻機 阿斯麥 ASML 新加坡
- 受近年芯片供應持續短缺的影響，我們已經看到了位于世界各地的多個晶圓廠的建設公告。但是在投入實際生產之前，這一切都受到荷蘭阿斯麥（ASML）的光刻機供應的限制。ASML 首席執行官 Peter Wennink 剛剛發出警告，稱該公司難以滿足客戶的產品需求。據悉，ASML 專注于生產適用于半導體行業的各種類型的光刻機，且在該領域處于世界領先地位，客戶中包括了英特爾、臺積電、三星等芯片巨頭。然而最新消息是，至少在未來幾年內，ASML 都無法順利交付所有訂單。即使今年預期的光刻機出貨量高于去年，但明年的增勢并未放
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光刻機 ASML 芯片制造
- 眾所周知，ASML是全球最牛的光刻機廠商，能夠用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻機，只有ASML能夠生產。而ASML生產的EUV光刻機，一般也是優先供應給intel、臺積電、三星這三家廠商，其它的廠商要等這三家廠商買剩了后，才可能會輪到。為什么ASML會優先賣給這三家廠商呢？第一是這三家廠商是大客戶，必須要優特，第二則是很多人說，這三家廠商是ASML的股東，所以當然要先照顧股東。那么問題就來了，ASML的股東究竟是誰，英特爾、三星、臺積電真的是ASML的股東么？關于ASML的由來，可以追溯到1984年，
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- 3月24日上午10:18，在嚴格遵守防疫政策并做好疫情防控措施的情況下，格科微順利舉辦ASML先進ArF光刻機搬入儀式。格科半導體SVP李朝勇、各部門總監、光刻團隊及廠務團隊出席儀式，共同見證了公司這一里程碑式的重要時刻。目前，格科微有限公司“12英寸CIS集成電路特色工藝研發與產業化項目”推進迅速。廠房和潔凈車間建設已經基本完成，并于2022年2月16日開始主設備的搬入安裝。在3月24日，格科半導體再次迎來了建廠重要標志性時刻，整套生產線中的最關鍵設備——ASML先進ArF光刻機成功搬入。ArF光刻機的
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- 俄烏軍事沖突愈演愈烈，加上中國境內多座城市新冠疫情反撲，全球半導體供應鏈再次亮起紅燈。綜合外媒報道，由于俄烏局勢持續緊張，烏克蘭兩家主要氖氣供應商Ingas和Cryoin公司工廠暫停生產。氖氣廣泛應用于鐳射激光等半導體制程中，這兩家公司每月為中國大陸及臺灣地區、韓國、美國、德國客戶提供氖氣，其中約75%用于芯片行業。兩家公司所在地馬里烏波爾和敖德薩目前被俄羅斯控制，為保護員工安全停止運營。俄羅斯和烏克蘭的氖氣產量占全球的四分之一，半導體制造另一重要原材料稀土金屬鈀40%來自俄羅斯。俄烏事態持續激化將令本就
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- ASML位于德國柏林工廠一處，于1月3日發生火警，該企業主要為晶圓代工及內存生產，所需的關鍵設備機臺，包含EUV與DUV之最大供貨商。根據TrendForce的消息，占地32,000平方米的柏林廠區中，約200平方米廠區受火災影響。該廠區主要制造光刻機中，所需的光學相關零組件，例如：晶圓臺、光罩吸盤和反射鏡，其中用以固定光罩的光罩吸盤，處于緊缺狀態。目前該廠零組件以供應EUV機臺較多，且以晶圓代工的需求占多數。若屆時因火災而造成零組件交期有所延后，不排除ASML將優先分配主要的產出支持晶圓代工訂單的可能性
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TrendForce ASML EUV光刻機
- 芯片行業一直是困擾全球的“卡脖子”領域，而其中核心的光刻機技術被幾家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片領域有長足的進步，光刻機這種核心設備就要有所突破。而之前美國通過自身在全球市場的控制能力，通過修改法案等手段一直將光刻機設備和技術限制對中國進行輸出。但近期光刻機頭部企業ASML則明確表態將會盡其所能向中國市場提供一切他們能夠提供的技術，其中DUV光刻機將會不需要認可許可即可向中方企業提供。ASML光刻機除此之外，ASML表示在當前法律框架之下，他們除了EUV光刻機無法向中方企業提供，其他產品都可以正常發售。
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ASML EUV 光刻機
- 芯研所消息，全球半導體的缺貨，進一步激發了上游半導體設備廠商的產能，據外媒報道截至第二季度，ASML EUV設備出貨總量達到102臺，隨著需求量的提高和客戶群的擴大，預計2年內累計供應量將增加2倍以上，標志著EUV時代正式拉開帷幕。據統計，過去四個季度（2020年第三季度-2021年第二季度），ASML EUV設備出貨總計40臺，較之前四個季度（2019年第三季度-2020年第二季度）增長了66%。ASML今年的出貨目標是40臺左右，下半年將供應25臺左右。ASML擴大EUV設備供應響應了半導體制造業實現
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