俄羅斯首臺光刻機問世

據(jù)外媒報道，目前，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。

俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克（Vasily Shpak）表示，已組裝并制造了第一臺國產(chǎn)光刻機，作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線的一部分，目前正在對其進行測試，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出，到2026年將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機，下一步將是開發(fā)90nm光刻機，并繼續(xù)向下邁進。

此前，俄羅斯曾表示，計劃到2026年實現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點工藝，2027年實現(xiàn)28nm本土芯片制造，到2030年實現(xiàn)14nm國產(chǎn)芯片制造。