臺積電今年將拿到最新款光刻機

6月6日消息，據(jù)外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。

報道中提到，ASML首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。

英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設備，第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。

目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設備。

據(jù)悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車A320。ASML 是世界上唯一一家生產(chǎn)極紫外光刻技術的公司。

臺積電此前宣布，其2nm節(jié)點進展順利，并計劃于2025下半年推出N3X、N2制，并將在2026下半年量產(chǎn)N2P和A16制程。

與3nm制程節(jié)點不同，臺積電2nm制程將使用Gate-all-around FETs（GAAFET）晶體管，相比3nm工藝會有10%到15%的性能提升，還可以將功耗降低25%到30%。

之前，有股東發(fā)言提及近華為發(fā)展晶圓代工相當積極，向臺積電董事長劉德音請教如何評斷，劉德音表示，臺積電著重是自己發(fā)展的速度夠不夠快，臺積電永遠有競爭對手。

“至于華為會不會超越臺積電，本來他想請總裁魏哲家回答，后來就直接說，總裁也不用回答了，因為但根本不可能。”劉德音說道。

此言一出，也是引起了行業(yè)專家的吐槽，有人甚至放話，如果沒有先進光刻機，你們恐怕什么也不是。