根據韓國媒體 outlet ETNews 的報道，美國和日本正積極通過政府主導的舉措將極紫外(EUV)光刻機引入公共研究機構。相比之下，韓國政府在這一領域的推動工作落后于美國和日本，報道暗示。美國 – 國家半導體技術中心加速 EUV 技術采用報告援引行業消息人士稱，美國國家半導體技術中心（NSTC）已在紐約的阿爾巴尼納米技術園區完成了 EUV 光刻設備的安裝，并計劃從 2025 年 7 月開始為企業提供服務。報告還指出，據稱 NSTC 計劃在 2026 年推出高 NA EUV 設備——
關鍵字：
EUV 光刻機
據外媒報道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動研發分辨率可達5納米的Hyper NA光刻機設備。ASML技術執行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進的光刻機，其單次曝光分辨率可達8納米，相比舊款設備需要多次曝光才能實現類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是開發數值孔徑（NA）達到0.7或更高的系統。數值孔徑是衡量光學系統聚焦能力的重要指標，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長
關鍵字：
ASML 5納米 Hyper NA 光刻機
據荷蘭媒體報道，ASML計劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產業園區。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發展計劃初步草案時透露的。這一擴張計劃引發了全球晶圓制造行業的廣泛關注。據Tom's Hardware報道，臺積電、英特爾和三星電子等半導體巨頭或將從中受益。ASML的擴張如果能按計劃推進，將有助于滿足全球對極紫外光（EUV）光刻設備的迫切需求，從而加速先進制程的開發與應用。Brainport產業園區的擴張計劃大約在一年前首次公開。據荷蘭消
關鍵字：
EUV 光刻機 ASML
快科技4月3日消息，據NRC報道，一名43歲的俄羅斯工程師German A.，被指控從ASML阿斯麥、GlobalFoundries格芯、NXP恩智浦、TSMC臺積電竊取機密技術信息，從而幫助俄羅斯建立了自己的28nm晶圓廠。根據指控，他偷竊了ASML 105份內部文件、臺積電88份內部文件，涉及半導體生產、各種芯片制造設備的信息。文件中并沒有設計和建造晶圓廠的完整藍圖，后者更高級的技術，但仍被視為機密，足以支撐建立完整的28nm級工藝生產線，軍用等領域足夠了。調查稱，German A.通過網盤、社交應用
關鍵字：
俄羅斯 ASML 光刻機
3月25日消息，據俄羅斯衛星通訊社報道，莫斯科市長謝爾蓋·索比亞寧近日在其 “電報” 頻道的賬號上發文稱，莫斯科“澤列諾格勒納米技術中心”公司已完成了俄羅斯首臺350nm光刻機的研發工作，這是生產微芯片的關鍵設備。在俄烏沖突爆發后，美西方對俄羅斯實施了更為嚴厲的出口管制措施，其中半導體芯片及光刻機等半導體設備成為了限制的重點，這也迫使俄羅斯開始研發自主設計的國產光刻機。2023年，俄羅斯聯邦工業和貿易部副部長瓦西里·什帕克（Vasily Shpak）在接受媒體采訪時就曾表示，2024年俄羅斯將開始生產35
關鍵字：
俄羅斯 光刻機
3月7日消息，ASML公開表示，會繼續在中國市場提供維修服務。之前ASML表示在北京新建維修中心，而他們也是調整了這個說法。“我們不是要在2025年新建一個北京本地維修中心，而是今年會在原有基礎上進行升級、擴建。”之前曾有消息稱，在ASML某些在中國提供服務和備件的許可證于去年年底到期后，現在的荷蘭首相很可能不再為其續期，而相關決定是在美國施加一定壓力后做出的。目前的情況是，ASML的銷售額中，約有一半來自中國（最新的財報顯示，中國大陸2024年為ASML貢獻了101.95億歐元收入，約合人民幣797.7
關鍵字：
ASML 光刻機
2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是當今世界上最先進的EUV極紫外光刻機，支持High-NA也就是高孔徑，Intel去年搶先拿下了第一臺，目前已經在俄勒岡州Fab D1晶圓廠安裝部署了兩臺，正在緊張地研究測試中。Intel資深首席工程師Steve Carson透露，迄今為止，兩臺EUV光刻機已經生產了3萬塊晶圓，當然不算很多，但別忘了這只是測試和研究使用的，并非商用量產，足以證明Intel對于新光刻機是多么的重視。Steve Carson還強調，完成同樣的工作，新款光刻機
關鍵字：
ASML 光刻機 英特爾
據路透社2月24日報道，英特爾資深首席工程師Steve Carson在美國在加利福尼亞州圣何塞舉行的一場會議上表示，英特爾已經安裝的兩臺ASML High NA EUV光刻機正在其晶圓廠生產，早期數據表明它們的可靠性大約是上一代光刻機的兩倍。Steve
Carson指出，新的High NA
EUV光刻機能以更少曝光次數完成與早期設備相同的工作，從而節省時間和成本。英特爾工廠的早期結果顯示，High NA EUV
機器只需要一次曝光和“個位數”的處理步驟，即可完成早期機器需要三次曝光和約40個處
關鍵字：
英特爾 High NA EUV 光刻機 晶圓
阿斯麥（ASML）近日發布2024年第四季度及全年財報。2024年第四季度，ASML實現凈銷售額93億歐元，毛利率為51.7%，凈利潤達27億歐元。2024年第四季度的新增訂單金額為71億歐元2，其中30億歐元為EUV光刻機訂單。2024年全年凈銷售額達283億歐元，毛利率為51.3%，凈利潤為76億歐元。ASML預計2025年第一季度凈銷售額在75億至80億歐元之間，毛利率介于52%至53%；2025年全年凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%至53%。（除非特別說明，數字均以百萬歐元為
關鍵字：
光刻機 ASML 2024年財報
1月24日消息，據國內媒體報道稱，荷蘭首相斯霍夫日前接受采訪時表示，在荷蘭光刻機巨頭阿斯麥對華出口產品的問題上，荷蘭政府希望自行決定實施什么樣的政策。“美國拜登政府就限制阿斯麥對華出口先進芯片制造設備向荷蘭政府施加了相當大的壓力，預計特朗普政府將延續這一策略。“我認為，我們自行決定實施什么樣的政策非常重要。”按照斯霍夫日的預想，接下來ASML的光刻機怎么賣給中國廠商，賣多少都應該是荷蘭說了算。去年第三季度數據顯示，阿斯麥在中國市場銷售額達到27.9億歐元，幾乎是其總銷售額的一半。這家企業預計，今年中國市場
關鍵字：
阿斯麥 ASML 光刻機
據外媒報道，荷蘭政府決定，將光刻機巨頭阿斯麥的對華銷售情況，排除在敏感商品出口信息的披露范圍之外。報道稱，經荷蘭外交部證實，荷蘭政府從2023年9月起不公開披露阿斯麥在中國的大部分銷售情況，而該政策此前從未被報道過。據了解，荷蘭2023年在美國政府施壓下，出臺了一份具有軍事意義的“兩用”商品清單，重點針對阿斯麥的深紫外光刻機（DUV），規定該設備需要申請許可才能出口，最先進的極紫外光刻機（EUV）則一直需要出口許可。盡管歐盟要求披露敏感商品如EUV光刻機的許可證授予情況，但這一要求并不適用于新清單上的DU
關鍵字：
阿斯麥 ASML 光刻機
12月25日消息，據媒體報道，全球光刻機巨頭阿斯麥ASML富凱（Christophe Fouquet）近期接受荷蘭媒體訪問時，談到半導體產業的發展。至于美國是否低估半導體技術的疑問，富凱指出，不僅美國，所有人都低估了打造成功半導體廠的要素，“需要的不光是金錢，還必須投資研發，持續學習與嘗試，即使初期屢屢失敗，因此需要長年的努力”他認為在半導體產業，來自中國臺灣的臺積電是全球最成功的企業之一，對于臺積電規模龐大且全球依賴臺積電芯片的現況，富凱直言，若產業內僅剩少數大廠，反倒能推動創新。他表示三星電子將會好轉
關鍵字：
ASML 光刻機
12月16日消息，據國外媒體報道稱，俄羅斯最大的芯片制造商之一Angstrom-T因無力償還990萬美元（約合人民幣7200萬元）債務而宣布破產。Angstrem-T工廠于2007年開始興建，位于有俄羅斯硅谷之稱的澤列諾格勒，該工廠由前通信部長Leonid Reiman管理。報道中提到，Angstrem-T還與M+W Germany GmbH簽訂合約金額為1.5億歐元，其任務是按計劃在2008年底前建造和啟動Angstrem-T工廠，用于生產130nm~90nm芯片。由于財務狀況困難和資金不足，該公司年復
關鍵字：
俄羅斯 光刻機
據日媒報道，日本半導體代工企業Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機將于2024年12月中旬抵達北海道新千歲機場，這也將成為日本全國首臺EUV光刻設備。據Rapidus高管此前透露，該光刻機是較早期的0.33 NA型號，而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA（High NA）款。按Rapidus此前的規劃，該公司計劃于2025年4月啟動先進制程原型線，該產線將擁有包括EUV光刻機在內的共計200余臺設備。根據千歲市當地政府的說法，Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成63%的
關鍵字：
日本 Rapidus 光刻機 ASML
臺積電公開稱，高雄晶圓廠興建工程按照計劃進行，并且進展良好，2nm將如期于2025年量產。此前有消息稱，高雄廠第一座2納米廠將于11月26日舉行進機典禮，并自12月1日展開裝機。ASML也已經向臺積電交付了NAEUV光刻機，該光刻機是生產制造2nm及以下工藝芯片的最佳設備。臺積電明年量產2nm芯片，還是在高雄工廠，這說明魏哲家說的沒錯，臺積電根留臺灣，最先進的技術，也留在了臺灣省。芯片規則修改后，美明確想要臺積電最先進的芯片技術，還要求更多芯片在本土制造。臺積電就加速在美建廠，連續投資超650億美元，建設
關鍵字：
臺積電 2nm芯片 ASML NAEUV 光刻機 封裝
光刻機介紹
國外半導體設備
我公司擁有國外半導體設備,包括臺灣3S公司生產的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發臺。
濺射臺及探針臺等各種設備,世界知名劃片機企業英國Loadpoint公司生產的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
如您感興趣請登錄以下網站或Email:
網址:http://www.loadpoint.com.cn
www.chihoc [
查看詳細 ]
關于我們 -
廣告服務 -
企業會員服務 -
網站地圖 -
聯系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網安備11010802012473
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網安備11010802012473