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        半導體FTIR外延膜厚量測設備實現新突破!

        作者: 時間:2024-09-18 來源:全球半導體觀察 收藏

        9月14日,蓋澤華矽科技(上海)有限公司(以下簡稱“蓋澤”),兩臺自主研發的膜厚設備GS-M08X,正式交付兩家客戶

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202409/463007.htm

        作為一款量產設備,該機種基于紅外光譜技術,可以精準測量晶圓中多層外延層的厚度,提供高精度的結果。設備裝配了雙臂潔凈機械手和全新設計的Stage平臺,以及自主研發的光路系統及算法,能更大程度上兼容客戶應用場景,也讓測量效率大幅度提高。增加了Online在線技術,遵循SEMI標準協議,可無縫連接客戶OHT/MES等系統。同時,設備實現測量自動化控制和自動化運行功能,降低人力成本,提高生產效率。



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