三星和臺積電偷笑:就算Intel技術牛又奈我何?
代工廠一直在進步
本文引用地址:http://www.104case.com/article/201603/287833.htm不可否認,在芯片制造業,各大代工廠尤其是三星和臺積電的進步非常之大,并且正在加快步伐縮減與英特爾的技術差距,盡管英特爾長期處于領先,但當前十分需要將差距拉開更大。
我們不清楚英特爾是否是缺乏競爭壓力,但在移動領域,三星14納米FinFET、臺積電16納米FinFET兩大工藝的競爭可謂空前慘烈,從合伙代工蘋果A9,到爭搶各路訂單,殺得好不熱鬧。更重要的是,兩大代工廠已經做好了部署全新工藝制程的準備,不止是第二版,還包括第三版。
例如說,臺積電第一代是標準的16納米FinFET工藝,之后推出的第二代FinFET Plus(FF+)增強版已經部署。至于下一代FinFET Compact(FFC)也已經完成了設計研發,并確定本季度就可以投入量產,提前了大半年。

三星方面,其第一代14納米是Low Power Eatly(LPE),現在第二代Low Power Plus(LPP)已經開始量產,重點產品為Snapdragon 820和Exynos 8890。三星高管聲稱,衍生于第二代的下一版14納米也將很快推出。
更長遠的計劃上,無論是三星和臺積電都已經開始朝著10納米的目標邁進。臺積電表示,10納米今年即可試產,正式批量生產等到2016年年底,或者是2017年的第一季度。至于三星也提供了大概相同的線路圖,堅稱2016年年底10納米就可量產,2017年一定會出現在手機和平板電腦上。
反觀英特爾,不僅桌面處理器“Tick-Tock”策略在兩年前已經被打破,而且第一款基于10納米工藝的產品按計劃要等至2017年下半年才能推出。除非英特爾改革研發模式,否則今年年底將喪失工藝領先的地位。作為半導體芯片領域的巨頭,英特爾長期自信滿滿,但在當前競爭環境中,還真的得加把勁了。
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