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阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發貨

作者：時間：2020-10-15 來源：《科創板日報》

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14日訊，《科創板日報》記者從ASML獲悉，其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規格，這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產率，并改進機器匹配套準精度至1.1納米，并計劃于2021年的中期開始發貨。

本文引用地址：http://www.104case.com/article/202010/419226.htm

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關鍵詞： ASML EUV 光刻機

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