英特爾：ASML首批兩臺High-NA EUV設備已投產

據路透社報道，半導體大廠英特爾近日表示，半導體設備大廠阿斯麥（ASML）的首批兩臺尖端高數值孔徑（High NA）光刻機已在其工廠正式投入生產，且早期數據顯示，這些設備的性能比之前的機型更可靠。

報道稱，英特爾資深首席工程師Steve Carson在加利福尼亞州圣何塞舉行的一次會議上指出，英特爾已經利用ASML高數值孔徑光刻機在一個季度內生產了3萬片晶圓，這些晶圓是足以生產數千個計算芯片的大型硅片。

2024年，英特爾成為全球第一家接收這些先進設備的芯片制造商，與之前的ASML設備相比，這些機器可望制造出更小、更快的計算芯片。Carson表示，在初步測試中，ASML的新型高數值孔徑機器的可靠性大約是上一代機器的兩倍。“我們以穩定的速度生產晶圓，這對平臺來說是一個巨大的好處，”卡森說。

ASML新設備可以使用光束在芯片上印制電路圖案，同時能以更少的曝光次數完成與早期設備相同工作量，從而省時間和成本。Carson指出，英特爾工廠早期結果顯示，High NA EUV機器只需一次曝光和“個位數”處理步驟，即可完成早期機器需三次曝光和約40個步驟的工作。

英特爾還表示，正在使用其18A制造技術來測試High NA設備，該技術計劃于今年晚些時候與新一代PC芯片一起進行量產；此外，英特爾也計劃利用其下一代制造技術14A全面投入高數值孔徑機器的生產，但尚未透露該技術的量產日期。