ASML 向英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備

IT之家 12 月 22 日消息，ASML 公司近日通過官方 X（推特）賬號發布推文，宣布已經向英特爾交付首臺高數值孔徑光刻設備。

IT之家此前報道，ASML 研制的高數值孔徑光刻設備主要用于生產 2nm 工藝半導體芯片，數值孔徑（NA）光學性能從 0.33 提高到 0.55。

ASML 明年規劃產能僅有 10 臺，而英特爾已經預訂了其中 6 臺，不過 ASML 計劃在未來幾年內將此設備產能提高到每年 20 臺。

ASML 新的高數值孔徑 EUV 系統涉及一種全新的工具，具有 0.55 數值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米。

ASML 官方并未說明向英特爾交付了哪款型號的光刻設備，非官方消息來源稱本次交付的是 Twinscan EXE：5000 原型，交付給英特爾位于俄勒岡州的研究中心。

報道稱本次交付采用了 250 個大箱包裝，共計占用了 13 個集裝箱，考慮到交貨時間和后續安裝，真正投入使用還需要數月時間。

此外報道稱，英特爾在量產過程中，會使用 ASML 更先進的 Twinscan EXE：5200 光刻設備，預估一臺成本為 2.5 億歐元。