新聞中心

        EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 不用EUV光刻機(jī)就搞定類7nm工藝?中芯國(guó)際回應(yīng)

        不用EUV光刻機(jī)就搞定類7nm工藝?中芯國(guó)際回應(yīng)

        作者: 時(shí)間:2021-05-11 來(lái)源:快科技 收藏

          做為國(guó)內(nèi)最大也是最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造公司,在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注,其中7nm及以下節(jié)點(diǎn)非常重要,這還牽涉到。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202105/425386.htm

          日前有股民在互動(dòng)平臺(tái)上詢問(wèn),稱有報(bào)道指出不用光刻就攻克了類7nm工藝,要求澄清。

          對(duì)此,中芯國(guó)際表示,公司不針對(duì)傳言進(jìn)行評(píng)論。

          從中芯國(guó)際官網(wǎng)的介紹來(lái)看,該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm,接下來(lái)的是N+1、N+2工藝,但沒(méi)有指明具體的工藝節(jié)點(diǎn)。

          中芯國(guó)際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示,經(jīng)過(guò)三年的積累,F(xiàn)inFET工藝已經(jīng)取得了不錯(cuò)的成績(jī),N+1已經(jīng)進(jìn)入了風(fēng)險(xiǎn)量產(chǎn),但是在外部因素的影響下,去年四季度起FinFET的產(chǎn)能利用率不足,爬坡需要時(shí)間,營(yíng)收奉獻(xiàn)尚未達(dá)到預(yù)期水準(zhǔn),折舊又對(duì)公司整體的盈利造成了負(fù)擔(dān)。



        評(píng)論


        相關(guān)推薦

        技術(shù)專區(qū)

        關(guān)閉
        主站蜘蛛池模板: 汤原县| 罗源县| 永靖县| 金湖县| 湘潭市| 广灵县| 德安县| 格尔木市| 华容县| 民勤县| 勃利县| 昭平县| 西昌市| 三台县| 天等县| 阳朔县| 荔波县| 彝良县| 宁远县| 全南县| 东宁县| 叶城县| 荃湾区| 罗平县| 磐安县| 新河县| 丹寨县| 舟山市| 错那县| 鄂托克前旗| 浙江省| 柞水县| 漳平市| 龙江县| 临夏市| 呼伦贝尔市| 鞍山市| 万山特区| 鄂伦春自治旗| 蓬溪县| 恭城|