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        TSMC和Synopsys攜手將定制設計擴展到16納米節點

        作者: 時間:2013-09-23 來源:IC設計與制造 收藏

          Laker定制設計解決方案已獲得 16-nm FinFET制程認證并提供iPDK套件

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/170136.htm

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          ?Laker定制設計解決方案已經通過 16-nm FinFET制程的設計規則手冊(DRM)第0.5版認證

          ?Laker支持 16-nm v0.5 iPDK的功能包括:復雜的FinFET橋接規則、雙重圖形曝光(double-pattern)、中間線端層(MEOL)和其他先進技術節點設計的要求

          ?TSMC和Synopsys將繼續合作支持iPDK,以孵化定制設計創新

          為加速芯片和電子系統創新而提供軟件、知識產權(IP)及服務的全球性領先供應商新思科技公司(Synopsys)日前宣布:Synopsys Laker?定制設計解決方案已經通過TSMC 16-nm FinFET制程的設計規則手冊(DRM)第0.5版的認證,同時從即刻起可以提供一套TSMC 16-nm可互通制程設計套件(iPDK)。憑借其對iPDK標準強大的支持,Synopsys的Laker定制解決方案為用戶提供了從180-nm到16-nm的多種TSMC工藝技術的全面對接。除了對TSMC 16-nm V0.5 iPDK的支持,Laker工具也已實現了增強,以確保能夠充分利用FinFET技術的優勢。

          Laker針對16-nm版圖的功能增強包括一整套多樣化的、面向FinFET器件的新功能,包括fin網格模式快速圖像描述、fin顯示以及交互式的FinFET規則檢測。Laker的內置雙重圖形曝光(double-pattern)檢查已得到增強,以支持預著色(pre-coloring)和顏色密度(color density)檢查。Laker支持中間端線層(MEOL)設計,包括無通孔的連接、單向層規則以及用以支持16-nm防護環的功能增強。Laker也已被增強以支持TSMC 16-nm V0.5 iPDK中所使用的連續有源區(CNOD)規則和有源區邊緣多晶硅覆蓋的(PODE)橋接規則。

          “Synopsys是TSMC開放創新平臺的長期合作伙伴,”TSMC設計基礎架構市場部高級主管Suk Lee表示到。“Synopsys的 Laker定制設計解決方案獲得的認證展現了我們之間的服務協同,我們將一起支持雙方的共同客戶采用16-nm的FinFET技術。”

          “Synopsys一直與TSMC密切合作去為16-nm節點的設計技術做好準備,”Synopsys負責產品市場營銷、設計和制造產品的副總裁Bijan Kiani表示。“借助早期的SPICE模型開發、與Synopsys IP團隊的密切合作、以及現在Laker定制解決方案的支持能力,我們已經為支持TSMC 16-nm技術和客戶做好了全面的準備。”



        關鍵詞: TSMC 16納米

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