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        EUV技術開啟DRAM市場新賽程

        • SK海力士公司在7月12日表示,本月已經開始生產10納米8Gb LPDDR4移動DRAM —— 他們將在該內存芯片生產中應用極紫外(EUV)工藝,這是SK海力士首次在其DRAM生產中應用EUV。根據(jù)SK海力士的說法,比起前一代規(guī)格的產品,第四代在一片晶圓上產出的DRAM數(shù)量增加了約25%,成本競爭力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應給智能手機制造商,并且還將在2022年初開始生產的DDR5芯片中應用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發(fā)布聲明,正式啟用EUV光刻機閃存內存芯片,批量生產采用
        • 關鍵字: EUV  DRAM  

        為什么ASML加速來華?

        • 芯片雖小,制造難度卻很大,而且芯片制造的關鍵設備光刻機的缺乏,更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵,讓我國半導體芯片領域的問題越加明顯,那就是在芯片制造的設備上,我國依然受制于人的問題相當嚴重。為什么ASML加速來華?北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實,國產光刻機突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片,令一眾對手刮目相看,但是沒有臺積電為其代工生產,沒有屬于中國自己的高端光刻機,就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進的芯片制造企業(yè)中芯國際,因為沒有高端光刻機,至今仍然沒
        • 關鍵字: EUV  光刻機  ASML  

        三星有意在美國建5nm EUV芯片廠 巨額投資

        • 據(jù)韓媒援引業(yè)內人士消息,三星電子已決定在美國得克薩斯州奧斯丁設立EUV半導體工廠,以滿足日益增長的小型芯片需求和美國重振半導體計劃。該工廠將采用5nm制程,計劃于今年Q3開工,2024年投產,預計耗資180億美元,同時也是三星電子首次在韓國之外設立EUV產線。去年,臺積電去宣布將在美國建設芯片工廠,建成之后將采用5nm工藝為相關的客戶代工芯片,目標是2024年投產。最新消息稱,臺積電管理層目前正在討論,他們在美國的下一座芯片工廠,是否采用更先進的3nm制程工藝,為相關的客戶代工芯片。
        • 關鍵字: 三星  5nm  EUV  芯片廠  

        阿斯麥已生產的極紫外光刻機 70%賣給了臺積電

        •   本周一,外媒援引韓國產業(yè)通商資源部一份有關半導體產業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報道稱,光刻機制造商阿斯麥將投資2.12億美元,在京畿道華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心。在報道阿斯麥將在華城建設極紫外光刻機再制造廠和培訓中心時,外媒還提到,雖然三星電子、SK海力士已引進了阿斯麥生產的極紫外光刻機,但他們獲得的數(shù)量同臺積電相比,有不小的差距。  外媒在報道中提到,阿斯麥目前已生產的極紫外光刻機,70%是賣給了臺積電,留給其他廠商的就只有30%。  阿斯麥是目前全球唯一能制造極紫外光刻機的廠商,他們已推出了TWIN
        • 關鍵字: 阿斯麥  極紫光刻機  EUV  臺積電    

        不用EUV光刻機就搞定類7nm工藝?中芯國際回應

        •   做為國內最大也是最先進的半導體制造公司,中芯國際在先進工藝上的進展引人關注,其中7nm及以下節(jié)點非常重要,這還牽涉到EUV光刻機。  日前有股民在互動平臺上詢問,稱有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝,要求中芯國際澄清。  對此,中芯國際表示,公司不針對傳言進行評論。  從中芯國際官網(wǎng)的介紹來看,該公司提到的最先進工藝還是14nm,接下來的是N+1、N+2工藝,但沒有指明具體的工藝節(jié)點。  中芯國際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示,經過三年的積累,F(xiàn)inFET工藝已經取得了不錯的成績,N+1已經
        • 關鍵字: EUV  光刻機  中芯國際  

        里程碑!IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片

        • 藍色巨人出手就是王炸。  5月6日消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導體芯片。  核心指標方面,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百萬顆晶體管)為333.33,幾乎是臺積電5nm的兩倍,也比外界預估臺積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高。  2nm晶圓近照  換言之,在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內,就能容納500億顆晶體管。  同時,IBM表示,在同樣的電力消耗下,其性能比當前7nm高出45%,輸出同樣性能則減少75%的功耗。    實際上,I
        • 關鍵字: IBM  2nm  EUV  

        ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機一字之差大不同

        •   近日,中芯國際與ASML達成12億美元交易購買晶圓生產設備的消息引發(fā)關注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了EUV光刻機,中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機。”但是這一說法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術的現(xiàn)有協(xié)議相關。  可能很多網(wǎng)友看到這里有點蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級,實際上也是如此。  ASML澄清與中
        • 關鍵字: 中芯國際  ASML  DUV  EUV    

        中國芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司

        • 荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報,這位世界光刻機霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機,中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺。  有人說阿斯麥是唯一一個能讓臺積電折腰的公司,這一點也不夸張。阿斯麥所生產的光刻機,是半導體工廠生產芯片的最關鍵工具。畢竟,沒有刀,再好的師傅也雕不出來花。  如果有任何廠商的光刻機設備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機那一刻,廠商就要付給他們以小時計的美金。  曾經,某上市公司的光刻機出問題后,排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結果阿斯麥的
        • 關鍵字: EUV  光刻機  ASML  

        全球最大光刻機廠CEO:拜登恐難緩解中美半導體緊張局勢

        • 拜登上任在即,他會緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機制造商ASML的CEO表示,即使總統(tǒng)換屆,兩國在包括光刻機在內的半導體領域,仍將出現(xiàn)進一步的對抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開源指令集架構RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」?  離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了。  在過去川普任職期內,中美之間的貿易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機制造商ASML也是其中之一。  由于美國政府的壓力,其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售。  由于川普的舉動常常出其不意而且瘋狂
        • 關鍵字: EUV  光刻機  ASML  

        阿斯麥ASML全新EUV光刻機將于2021年中期發(fā)貨

        • 14日訊,《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產率,并改進機器匹配套準精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
        • 關鍵字: ASML  EUV  光刻機  

        在EUV光刻技術上,日本公司壟斷了光刻膠的供應

        • 雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導體光刻技術,但是毫無疑問,這就是光刻技術的未來。與任何未來一樣,它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料,而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。富士膠片控股公司和住友化學將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料,這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸,并使它們更加節(jié)能。這
        • 關鍵字: EUV  光刻膠  

        斥資440億元采購EUV光刻機?臺積電:不評論傳聞

        • 9月30日訊,此前有媒體報道,由于先進制程推進順利和訂單量擴大,臺積電將加大EUV光刻機的采購力度,預計到2021年底采購量為55臺左右。臺積電方面回復稱:公司不評論市場傳聞。據(jù)了解,一臺EUV光刻機售價近8億元,55臺EUV光刻機價值約440億元。相關閱讀:臺積電明年底前將累計采購55臺EUV光刻機:花費超440億元出處:快科技 作者:萬南芯片制程已經推進到了7nm以下,這其中最關鍵的核心設備就要數(shù)EUV光刻機了,目前全世界只有荷蘭ASML(阿斯麥)可以制造。來自Digitimes的報道稱,臺積電打算在
        • 關鍵字: EUV  光刻機  臺積電  

        華為+中科院攻關EUV光刻機?ASML華裔工程師:天方夜譚

        • 9月16日,中國科學院院長白春禮在國新辦發(fā)布會上介紹稱,“率先行動”計劃第二階段要把美國“卡脖子”的清單變成科研任務清單進行布局,集中全院力量聚焦國家最關注的重大領域攻關。白春禮稱,從2021年到2030年未來的十年是“率先行動”計劃第二階段。對此,首先要進行體制機制改革。他稱,目前已經設立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學中心和特色所四類機構,目的是根據(jù)科研性質不同進行分類定位、分類管理、分類評價、分類資源配置。“這個工作還沒有完,只是進行了一部分,所以第二階段我們爭取在2025年要把四類機構全部做完,
        • 關鍵字: 華為  中科院  EUV  光刻機  ASML  

        10億元一臺EUV光刻機!芯片產能數(shù)量曝光:夠華為手機用嗎?

        • 相信大家都知道,在前幾天,ASML重磅官宣了一條大新聞,正式在中國寶島臺灣建設了第一家海外培訓中心—亞洲培訓中心,這家培訓中心標配了14名培訓技師,一年大約可以培養(yǎng)超過360名EUV光刻機操作工程師,能夠讓芯片生產加工企業(yè)更好的掌握和使用EUV光刻機,從而可以進一步提高5nm/3nm芯片的良品率,其實ASML在臺灣建設這座亞洲培訓中心,最大的目的就是為了直接幫助臺積電培養(yǎng)更多的光刻機操作工程師,因為在過去兩年時間里,ASML一共售賣了57臺EUV光刻機產品,其中臺積電就購得了30臺,占據(jù)著絕大部分的份額,
        • 關鍵字: 臺積電  5nm  EUV  

        臺積電:5nm EUV工藝已在量產、明年推出增強版

        • 24日,臺積電舉辦了第26屆技術研討會,并披露了旗下最新工藝制程情況。按照臺積電的說法,5nm工藝規(guī)劃了兩代,分別是N5和N5P。其中N5確定引入EUV(極紫外光刻)技術,并且已經在大規(guī)模量產之中。相較于N7,N5的功耗降低了30%、性能提升了15%,邏輯器件密度是之前的1.8倍。N5P作為改良版,仍在開發(fā)中,規(guī)劃2021年量產,相較于第一代5nm,功耗進一步降低10%、性能提升5%,據(jù)稱面向高性能計算平臺做了優(yōu)化。據(jù)手頭資料,臺積電的5nm有望應用在蘋果A14芯片(包括Apple Silicon PC處
        • 關鍵字: 臺積電  5nm  EUV  
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