對于半導體行業而言，光刻技術和設備發揮著基礎性作用，是必不可少的。所謂光刻，就是將設計好的圖形從掩模版轉印到晶圓表面的光刻膠上所使用的技術。光刻技術最先應用于印刷工業，之后長期用于制造印刷電路板（PCB），1950 年代，隨著半導體技術的興起，光刻技術開始用于制造晶體管和集成電路（IC）。目前，光刻是 IC 制造過程中最基礎，也是最重要的技術。在半導體產業發展史上，光刻技術的發展經歷了多個階段，接觸/接近式光刻、光學投影光刻、分步（重復）投影光刻出現時間較早，集成電路生產主要采用掃描式光刻、浸沒式掃描光刻
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EUV 光刻技術
6月7日消息，英特爾今年下半年將會推出14代酷睿Meteor Lake處理器，首發Intel 4工藝，這是該公司首款EUV工藝，而且還會用上全新3D封裝工藝，處理器變化非常大。在迎接4nm EUV的同時，英特爾也在加快清理遺產，2020年發布的11代酷睿Tiger Lake處理器現在也進入了退役階段，這一批主要是中低端的酷睿i7/i5/i3及賽揚系列，包括U系列及H35系列，最高端的就是酷睿i7-1165G7。與之一同退役的還有配套的500系芯片組，包括RM590E，HM570E和QM580E系列。這些產
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EUV 英特爾 酷睿
IT之家 5 月 26 日消息，據韓媒 Aju News 報道，三星計劃自 2023 年第三季度開始，對韓國華城園區 S3 工廠減少至少 10% 的晶圓投片量。▲ 圖源：三星報道稱，三星半導體將在第三季度開始，對華城園區 S3 工廠進行減產作業。S3 工廠是三星半導體于 2018 年建成投產的 12 英寸生產線，目前主要生產 10nm 至 7nm 產品，也是三星半導體 EUV 先進工藝的主力生產廠之一，三星為其部署了多臺 ASML 的 NXE3400 EUV 光刻機。Aju News
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三星 EUV
5月17日消息，原本已經落后的日本半導體制造行業近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業出資成立了Rapidus，計劃2025年試產2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機，不論研發還是制造都要先買設備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過具體的型號及進度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時安裝、
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日本 EUV 光刻機
在如今這個信息時代，如果說我們的世界是由芯片堆積起來的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機，沒錯，作為人類商業化機器的工程奇跡，光刻機自然是量產高性能芯片的必要設備。特別是隨著這幾年中美貿易戰的加劇，光刻機這種大部分可能一生都不會見到的機器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進，也是我國被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機。? ? &
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ASML EUV光刻機 芯片 EUV
日前，廣汽埃安全新高端純電豪華品牌系列車型Hyper GT在2023上海車展正式亮相。仿佛穿越未來世界而來，Hyper GT擁有的不僅是科幻旋翼的炫酷金屬外觀，更具有智能硬核內在：新車基于廣汽AEP 3.0平臺打造，采用全新一代星靈電子電氣架構，更值得一提的是，Hyper GT也是全球首款采用恩智浦最新一代S32G3汽車處理器作為其中央計算單元處理器的車型。 廣汽埃安Hyper GT亮相2023上海車展（圖片來源：廣汽埃安） 星靈架構是廣汽推出的全新一代 “車云一體化集中計算式電子電氣
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恩智浦 S32G3 廣汽埃安 Hyper GT 2023上海車展
終端市場需求低迷，近期市場傳出臺積電將宣布調降今年資本支出，恐沖擊艾司摩爾（ASML）及應用材料等設備廠出貨，甚至傳出艾司摩爾極紫外光（EUV）機臺被砍單消息，不過業界普遍認為可能性不高，原因在于EUV機臺交期長達12～15個月，且中長期來看EUV產能仍供不應求。 ASML預計19日舉行法人說明會，可望針對EUV曝光機已接訂單（backlog）變化提出說明。半導體生產鏈仍在進行庫存調整，市場傳出臺積電可能在法人說明會中下修全年資本支出，加上內存廠放慢擴產計劃，將導致EUV曝光機訂單減少或延后，受此消息影響
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EUV 機臺 ASML
3 月 8 日，ASML 發表聲明回應荷蘭政府即將出臺的半導體設備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統，ASML 將需要申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式 DUV 系統。ASML 強調，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會上，有媒體提問，據報道，荷蘭外貿與發展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發言人毛
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光刻機 EUV DUV
晶圓制造工具正變得更加專用于 Si/SiGe 堆棧、3D NAND 和鍵合晶圓對。
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2nm EUV
眾所周知，當前全球只有ASML一家能夠生產EUV光刻機，甚至可以說很長一段時間內，全球也只有ASML能夠生產光刻機，不會有第二家。原因在于ASML把EUV光刻機的路堵住了，這條路別人是走不通的。ASML與全球眾多的供應鏈，形成了捆綁關系，像蔡司等與ASML形成了利益共同體，EUV光刻機中，蔡司等廠商至關重要，掌握核心科技，缺少這些供應鏈，其它廠商不可能制造出EUV光刻機。所以，目前眾多的其它光刻機企業，并不打算走EUV光刻機這條路，在另尋它路。同樣的，國產光刻機基本上也走不通EUV這條路，只能另尋他路，而
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ASML EUV 光刻機
據報道，荷蘭和日本已與美國達成協議，共同限制向中國出口芯片制造工具，這將進一步削弱中國半導體行業的發展，因為除了限制中國制造商使用 EUV 光刻機外，進一步限制其使用浸沒式 DUV 光刻機。但在美國對中國發起的嚴格出口限制中，中國半導體企業是否可以利用任何關鍵漏洞來緩沖沖擊？這似乎是一個值得仔細研究的問題。近年來，美國加大了對中國半導體產業發展的打壓力度。不僅設計了各種策略和行動，還動員了盟友的參與。在 2022 年 10 月對向中國出口先進芯片制造工具和技術實施全面出口限制后，美國急于讓擁有 ASML
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EUV DUV 深紫外光刻機
說到光刻機大家難免會想到三個廠商，荷蘭的ASML公司、尼康和佳能。而光刻機就是制造芯片的核心裝備。現如今光刻機領域的核心地位就是荷蘭的ASML，他與臺積電合作，共同突破了沉浸式DUV光刻機，也正因為此動作，才奠定了ASML在光刻機領域的核心地位。后續ASML又推出了更加高端的EUV光刻機，而且還是獨家壟斷生產。這就進一步使得ASML成為行業的巨頭。隨著科技的不斷發展，市場就要越來越追求高性能以及高要求，ASLM造成的長時間壟斷，導致其他同行沒有辦法發展。在他自身無法突破的前提下，他的路是越走越窄。在全球范
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光刻機 ASML DUV EUV
最新消息顯示，盡管全球經濟將放緩，但三星仍計劃擴大DRAM與晶圓代工的晶圓產能，明年在其P3晶圓廠新設至少10臺極紫外光刻設備（EUV），用于生產最新的12nm級內存芯片，而三星目前僅有40臺EUV光刻機。
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三星 EUV 光刻機
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