全球光刻機大廠ASML近日發(fā)布2024年第2季度財報，實現(xiàn)凈銷售額62.4億歐元，同比下滑約7.6%，同比增長約18%，居于官方預測中間值。雖然半導體設備出口限制規(guī)定生效造成影響，但中國大陸需求持續(xù)旺盛，依然是ASML的第一大銷售市場，市占比依然高達49%，主要項目仍在未受限的DUV設備。 ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示，正如此前幾個季度，半導體行業(yè)的整體庫存水平持續(xù)得到改善。無論是邏輯芯片還是存儲芯片客戶，對光刻設備的利用率都在進一步提高。宏觀環(huán)境為主的不確定
關鍵字：
ASML 光刻機
阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第二季度財報。2024年第二季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額62億歐元，毛利率為51.5%，凈利潤達16億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為56億歐元2，其中25億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第三季度的凈銷售額在67億至73億歐元之間，毛利率介于50%到51%。(1)累計裝機管理銷售額等于凈服務和升級方案 (field option) 銷售額的總和。(2)訂單包括所有的系統(tǒng)銷售訂單和通脹調整，且均經過書面確認。數(shù)字已經四舍五入，方便讀者閱讀。基于美國通用會計
關鍵字：
ASML
全球對成熟制程芯片的需求正在急劇上升，但西方芯片制造商對該領域的投資不夠。
關鍵字：
ASML
7月9日消息，據外媒報道稱，由于種種因素，ASML絕不能賣給中國廠商最先進的光刻機，但該公司CEO卻表示，世界需要中國生產的"傳統(tǒng)芯片"。ASML的CEO Christophe Fouquet接受采訪時表示，全球芯片買家，包括德國汽車工業(yè)在內，都迫切需要中國芯片制造商目前正大力投資的舊一代電腦芯片。根據行業(yè)組織SEMI的估計，中國芯片制造商將在2025年將產能增加14%，是全球其他地區(qū)的兩倍以上，到2025年將達到每月1010萬片晶圓，占全球總產量的大約三分之一。"全球對這類
關鍵字：
7nm 刻機 ASML 制程芯片
荷蘭半導體設備巨頭 ASML
為所有主要企業(yè)提供尖端光刻技術。該公司最近離職的首席執(zhí)行官剛剛分享了他對這一復雜地緣政治格局的見解。彼得-溫尼克（Peter
Wennink）最近在接受荷蘭 BNR 電臺采訪時，對美國針對中國芯片產業(yè)的貿易限制毫不諱言。在執(zhí)掌 ASML
十年之后于今年四月卸任的溫尼克聲稱，這類討論不是基于事實、內容、數(shù)字或數(shù)據，而是基于意識形態(tài)。在溫尼克的領導下，ASML 逐漸成為歐洲最大的科技公司。隨著中國政府加倍努力實現(xiàn)半導體自給自足，中國成為繼臺灣之后 ASML 的第二大市
關鍵字：
ASML 芯片
在過去的五年中，EUV 模式設計取得了長足的進步，但高 NA EUV 又重現(xiàn)了舊的挑戰(zhàn)。
關鍵字：
EUV ASML
ASML去年末向英特爾交付了業(yè)界首臺High-NA
EUV光刻機，業(yè)界準備從EUV邁入High-NA EUV時代。不過ASML已經開始對下一代Hyper-NA
EUV技術進行研究，尋找合適的解決方案，計劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機。據Trendforce報道，Hyper-NA
EUV光刻機的價格預計達到驚人的7.24億美元，甚至可能會更高。目前每臺EUV光刻機的價格約為1.81億美元，High-NA
EUV光刻機的價格大概為3.8億美元，是EUV光刻機的兩倍多
關鍵字：
ASML Hyper-NA EUV 光刻機 臺積電 三星 英特爾
臺積電2納米先進制程產能將于2025年量產，設備廠正如火如荼交機，尤以先進制程所用之EUV（極紫外光曝光機）至為關鍵，今明兩年共將交付超過60臺EUV，總投資金額上看超過4,000億元。在產能持續(xù)擴充之下，ASML2025年交付數(shù)量成長將超過3成，臺廠供應鏈沾光，其中家登積極與ASML攜手投入次世代High-NA EUV研發(fā)，另外帆宣、意德士、公準、京鼎及翔名等有望同步受惠。 設備業(yè)者透露，EUV機臺供應吃緊，交期長達16至20個月，因此2024年訂單大部分會于后年開始交付；據法人估計，今年臺積電EUV訂
關鍵字：
2納米 先進制程 ASML EUV 臺積電
最新 EUV 設備的銷售情況對 ASML 的市值產生了明顯影響。
關鍵字：
EUV ASML
日前，日本三井化學宣布將在其巖國大竹工廠設立碳納米管 (CNT) 薄膜生產線，開始量產半導體最尖端光刻機的零部件產品（保護半導體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產品）。據悉，此種CNT薄膜可以實現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學預期年產能力為5000張，生產線預計于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV光刻機提供支持。
關鍵字：
光刻機 納米管薄膜 ASML
6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機，同時正在研究更強大的Hyper NA EUV光刻機，預計可將半導體工藝推進到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機孔徑數(shù)值只有0.33，對應產品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預計到2025年可以量產2nm，再往后就得加入多重曝光，預計到2027年能實現(xiàn)1.4nm的量產。High NA光刻機升級到了
關鍵字：
ASML 光刻機 高NA EUV 0.2nm
IT之家 6 月 12 日消息，光刻機巨頭 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒體發(fā)文，悼念 ASML 創(chuàng)始人之一維姆?特魯斯特（Wim Troost）離世。另據《埃因霍溫日報》，Wim 于上周五（6 月 8 日）上午逝世，享年 98 歲。ASML 稱，“Wim Troost 去世了。Wim 是我們的創(chuàng)始元老之一，也是 1987 年至 1990 年期間的 CEO，那時 ASML 正努力爭取其第一個客戶。退休后，Wim 一直是 ASML 和高科技產業(yè)的真正大使。他激勵了一代又一代的后人。我們感
關鍵字：
ASML 維姆?特魯斯特
快科技6月7日消息，近日，ASML公司CEO公開表示，美國嚴厲的芯片管控規(guī)定，只會倒逼中國廠商進步更快。ASML CEO表示，多年來，公司都不用擔心設備的去向會受到政治限制，但突然之間，這卻變成了全世界最重要的話題之一。過去一段時間，美國一直在向荷蘭施壓，以阻止中國獲得關鍵的半導體技術。去年，荷蘭政府宣布了新的半導體設備出口管制措施，主要針對先進制程的芯片制造技術，阿斯麥首當其沖。根據ASML今年1月1日發(fā)布的聲明，荷蘭政府撤銷的是2023年頒發(fā)的NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)的出口許可證
關鍵字：
美國芯片管控 ASML 光刻機
ASML首席財務官達森（Roger Dassen）表示，EUV技術路線發(fā)展受歐美限制，且光刻機已接近技術極限，此一技術路線前景不明。積極尋求突破的中國廠商是持續(xù)投入資源突破現(xiàn)有限制進行技術跟隨？還是將資源另辟蹊徑尋找新的技術路徑？將面臨艱難的抉擇。 據《芯智訊》報導，臺積電已經訂購了High NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光）光刻機，ASML與臺積電的商業(yè)談判即將結束，預計在第2季度或第3季度開始獲得大量 2nm芯片制造相關設備訂單。ASML預測其設備的市場需求有望一路走強至2026年，這主要是受益于各國
關鍵字：
ASML EUV 光刻機
6月6日消息，據外媒報道稱，ASML將在今年向臺積電交付旗下最先進的光刻機，單臺造價達3.8億美元。報道中提到，ASML首席財務官Roger Dassen在最近的一次電話會議上告訴分析師，公司兩大客戶臺積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑（高NA）極紫外（EUV）光刻系統(tǒng)。英特爾此前已經訂購了最新的高NA EUV設備，第一臺設備已于12月底運往俄勒岡州的一家工廠。目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺積電何時會收到設備。據悉，這些機器每臺造價3.5億歐元（3.8億美元），重量相當于兩架空中客車A
關鍵字：
ASML 光刻機 高NA EUV
asml介紹
您好，目前還沒有人創(chuàng)建詞條asml!
歡迎您創(chuàng)建該詞條，闡述對asml的理解，并與今后在此搜索asml的朋友們分享。
創(chuàng)建詞條
關于我們 -
廣告服務 -
企業(yè)會員服務 -
網站地圖 -
聯(lián)系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網安備11010802012473
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網安備11010802012473