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        asml 文章 最新資訊

        ASML前員工涉嫌竊取公司芯片機密并出售

        • 12 月 9 日消息,據荷蘭媒體《NOS》報道,荷蘭庇護和移民事務部對一名阿斯麥(ASML)前員工實施了為期 20 年的入境禁令。這名與俄羅斯有聯系的個人目前正在接受調查,他被懷疑從阿斯麥竊取重要的微芯片文件并涉嫌從事間諜活動。當地媒體報道稱,荷蘭很少實施此類禁令,通常只在涉及國家安全的案件中才會這樣做。圖源:ASML據了解,阿斯麥是全球領先的科技公司之一,生產先進的高數值孔徑極紫外光刻機(EUV),為英特爾、三星和臺積電等公司的制造工廠提供關鍵設備,這家荷蘭公司掌握著進入 5 納米以下芯片制造時代的關鍵
        • 關鍵字: ASML  芯片  機密  出售  

        ASML高層曝半導體業最大天敵:大地震恐引爆大癱瘓

        • 半導體產業對全球經濟來說至關重要,荷蘭半導體設備制造商ASML(阿斯麥)的負責人之一巴斯(Wim Bus)示警,地震可能對半導體產業造成重大影響,并特別點出位在地震帶的中國臺灣和日本亟待解決這樣的課題。根據荷蘭媒體《電訊報》(De Telegraaf)報導,天災是半導體產業的頭號敵人,其中以地震最為嚴重,由于制造芯片的機器結構極度復雜,即使地面輕微震動,也可能讓機器被擾亂,導致芯片生產出現重大失誤。報導舉例,中國臺灣過去曾發生921大地震,除了許多民房倒塌,部分芯片廠也因此停擺,造成慘重的財務損失。另一個
        • 關鍵字: ASML  

        日本首臺ASML EUV光刻機將運抵,用于Rapidus晶圓廠試產

        • 據日媒報道,日本半導體代工企業Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機將于2024年12月中旬抵達北海道新千歲機場,這也將成為日本全國首臺EUV光刻設備。據Rapidus高管此前透露,該光刻機是較早期的0.33 NA型號,而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA(High NA)款。按Rapidus此前的規劃,該公司計劃于2025年4月啟動先進制程原型線,該產線將擁有包括EUV光刻機在內的共計200余臺設備。根據千歲市當地政府的說法,Rapidus 的 IIM-1 晶圓廠截至上月底已完成63%的
        • 關鍵字: 日本  Rapidus  光刻機  ASML  

        ASML在2024年投資者日會議上就市場機遇提供最新看法

        • 在今日舉辦的2024 年投資者日會議上,ASML將更新其長期戰略以及全球市場和技術趨勢分析,確認其到2030年的年收入將達到約440 億至 600 億歐元,毛利率約為56%至 60%。ASML總裁兼首席執行官傅恪禮(Christophe Fouquet)表示:“我們預計,在下一個十年我們有能力將EUV技術推向更高水平,并擴展廣泛適用的全景光刻產品組合,使 ASML 能夠充分參與和抓住人工智能機遇,從而實現顯著的營收和盈利增長?!辫b于半導體在多種社會宏觀趨勢中的關鍵推動作用,該行業的長期發展前景依然樂觀。除
        • 關鍵字: ASML  

        ASML將攜全景光刻解決方案參加第七屆進博會

        • 半導體行業的領先供應商ASML(阿斯麥)將于11月5日至10日參加第七屆中國國際進口博覽會(以下簡稱“進博會”),亮相技術裝備展區集成電路專區4.1展館A1-03展臺。在本屆進博會上,ASML延續“光刻未來,攜手同行”的主題,將通過與時俱進的交互式數字化形式重點展示其融合光刻機臺、計算光刻和量測的全景光刻解決方案,幫助客戶提升產能和良率。ASML全球執行副總裁、中國區總裁沈波表示:“今年是我們第六次參加進博會。每年一度的進博盛會持續體現了中國擴大開放、推動合作的承諾,其傳遞的‘共享未來’理念與ASML的企
        • 關鍵字: ASML  全景光刻  第七屆進博會  進博會  

        臺積電稱2025年如期量產2nm芯片

        • 臺積電公開稱,高雄晶圓廠興建工程按照計劃進行,并且進展良好,2nm將如期于2025年量產。此前有消息稱,高雄廠第一座2納米廠將于11月26日舉行進機典禮,并自12月1日展開裝機。ASML也已經向臺積電交付了NAEUV光刻機,該光刻機是生產制造2nm及以下工藝芯片的最佳設備。臺積電明年量產2nm芯片,還是在高雄工廠,這說明魏哲家說的沒錯,臺積電根留臺灣,最先進的技術,也留在了臺灣省。芯片規則修改后,美明確想要臺積電最先進的芯片技術,還要求更多芯片在本土制造。臺積電就加速在美建廠,連續投資超650億美元,建設
        • 關鍵字: 臺積電  2nm芯片  ASML  NAEUV  光刻機  封裝  

        ASML三季度財報提前披露:新增訂單遠不及市場預期

        • 10月15日,ASML發布2024年第三季度財報,隨后ASML發布官方聲明,稱是因為“技術故障”導致錯誤地提前發布財報。財報顯示,實現凈銷售額74.67億歐元,同比增長11.9%;凈利潤為20.77億歐元,同比增長9.7%。二者均創下自2021年第一季度以來的歷史新高。ASML系統銷售收入仍是最主要的收入來源,2024年第三季度實現59.26億歐元,同比增長11.6%。然而,該季度新增訂單金額僅為26.33億歐元,環比減少52.7%,不及市場預期的54億歐元的一半,接近2021年第一季度以來的歷史低值(2
        • 關鍵字: ASML  財報  

        業績暴雷!ASML股價繼續大跌:想賣先進光刻機給中國廠商 但不被允許

        • 10月17日消息,由于業績暴雷,這導致光刻機龍頭ASML股價暴跌,而兩天時間股價已跌超20%。據官方公布的數據看,阿斯麥(ASML)今年第三季度接到的訂單大幅減少,總訂單金額約為26億歐元,不到上一季度近56億歐元的一半。消費者新聞與商業頻道當天在報道中表示,由于美國和荷蘭相關出口限制措施,阿斯麥在其中國市場的增長前景引發投資者擔憂。阿斯麥此前一個季度財報數據顯示,這家企業49%的銷售額來自中國市場。另外,投資人士分析報道,美國主導的對華出口限制導致阿斯麥來自中國的訂單有所減少。之前ASML曾表示,也希望
        • 關鍵字: ASML  光刻機  

        ASML凈銷售額75億歐元,凈利潤為21億歐元,預計2024年全年凈銷售額約為280億歐元

        • 阿斯麥(ASML)近日發布2024年第三季度財報。2024年第三季度,ASML實現凈銷售額75億歐元,毛利率為50.8%,凈利潤達21億歐元。今年第三季度的新增訂單金額為26億歐元2,其中14億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2024年第四季度的凈銷售額在88億至92億歐元之間,毛利率介于49%到50%,2024年全年的凈銷售額約為280歐元。ASML還預計,2025年的凈銷售額在300億至350億歐元之間,毛利率介于51%到53%。ASML 2024年第三季度財報一覽(除非特別說明,數字均以百萬歐元
        • 關鍵字: ASML  EUV  光刻機  

        中國芯片制造設備進口達創紀錄260億美元

        • 根據中國海關總署最新數據顯示,今年1~7月,中國進口了價值近260億美元的芯片制造設備,超過了2021年同期創下的最高紀錄(238億美元)。在此期間,由于美國、日本、荷蘭等國收緊了尖端半導體制造設備的出口管制措施,目前中國廠商已轉向采購制造成熟工藝芯片的低端半導體設備。過去一年,中國從東京電子有限公司(Tokyo Electron Ltd.)、阿斯麥控股公司(ASML Holding NV)和應用材料公司(Applied Materials Inc.)等公司的采購量大幅增長。以荷蘭ASML為例,第二季度對
        • 關鍵字: 芯片  半導體  ASML  

        中國廠商貢獻50%銷售:光刻機廠商ASML被美國壓制 無法獨善其身

        • 9月2日消息,據國外媒體報道稱,在美國要求下,ASML明年可能無法為中國廠商維修光刻機。報道中提到,在ASML某些在中國提供服務和備件的許可證于今年年底到期后,現在的荷蘭首相很可能不再為其續期,而相關決定是在美國施加一定壓力后做出的。目前的情況是,ASML的銷售額中,約有一半來自中國。荷蘭新任首相也公開表示,上述規則變動會非常謹慎,因為這會影響光刻機巨頭阿斯麥(ASML)的經濟利益這位新的首相直言:“我們正進行良好的談判。我們也正特別關注阿斯麥的經濟利益,這些利益需要與其他風險權衡,而經濟利益是極其重要的
        • 關鍵字: ASML  光刻機  維修  

        美國禁令加碼 ASML將不再維修中國大陸DUV

        • 美國持續加碼對中國大陸芯片禁令,美國財經媒體引述知情人士說法指出,荷蘭政府將禁止ASML(阿斯麥爾)為其在大陸的特定DUV提供維修服務,不只沖擊ASML在大陸的營收表現,更將打擊大陸芯片業發展,中芯明年恐怕無法替華為生產7納米與5納米芯片。
        • 關鍵字: 美國  ASML  DUV  

        臺積電不用當盤子了?日本開發出更便宜EUV 撼動芯片業

        • 荷商艾司摩爾(ASML)是半導體設備巨頭,臺積電等龍頭公司制造先進芯片,都需采用ASML制造商生產的昂貴極紫外光曝光機(EUV),根據《Tom's Hardware》報導,日本科學家已開發出簡化的EUV掃描儀,可以大幅降低芯片的生產成本。報導指出,沖繩科學技術學院(OIST)Tsumoru Shintake教授提出一種全新、大幅簡化的EUV曝光機,相比ASML開發和制造的工具更便宜,如果該種設備大規模量產,可能重塑芯片制造設備產業的現況。值得關注的是,新系統在光學投影設定中只使用兩面鏡子,與傳統的
        • 關鍵字: 臺積電  EUV  ASML  

        ASML第二臺High-NA設備,即將導入英特爾奧勒岡廠

        • 英特爾正接收ASML第二臺耗資3.5億歐元(約3.83億美元)的新High NA EUV設備。根據英特爾8/1財報電話會議紀錄,CEO Pat Gelsinger表示,英特爾12月開始接收第一臺大型設備,安裝時間需要數月,預計可帶來新一代更強大的電腦英文。Gelsinger在電話中指出,第二臺High NA設備即將進入在奧勒岡州的廠房。由于英特爾財報會議后股價表現不佳,因此這番話并未引起注意。ASML高階主管7月曾表示,該公司已開始出貨第二臺High NA設備給一位未具名客戶,今年只記錄第一臺的收入。不過
        • 關鍵字: ASML  High-NA  英特爾  光刻機  

        臺積電:仍在評估 High NA EUV 光刻機,采用時間未定

        • IT之家 7 月 30 日消息,《電子時報》昨日報道稱,臺積電最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技術。對此,臺積電海外營運資深副總經理暨副共同營運長張曉強表示,仍在評估 High NA EUV 應用于未來制程節點的成本效益與可擴展性,目前采用時間未定?!?nbsp;ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻機,圖源:ASML上個月,ASML 透露將在 2024 年內向臺積電交付首臺 High NA EUV 光刻機,價值達 3.8
        • 關鍵字: 臺積電  ASML  光刻機  EUV  
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