被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機，全新的技術，對標了ASML的EUV

被美國給打醒！俄羅斯想造光刻機，全新的技術，對標了ASML的EUV

誰都知道，俄羅斯已經被美國全面打壓了。

俄羅斯的晶片需求量并不大，每年的進口量，也就是一億美元左右，大部分的晶圓廠，都不會和美國競爭。

但俄羅斯的一億美金，在俄羅斯來說，就是一個天文數字。

俄羅斯將會做什么？前段時間，有消息說俄羅斯準備重新做一臺光刻機。

他的目標很明確，就是要用ASML的最新光刻機，去挑戰目前最尖端的EUV（UV）。

當然，ASML也不可能戰勝ASML，因為ASML的EUV光刻機，都是全世界的人幫忙做的，俄羅斯這邊，根本就沒有人去做。

俄羅斯的計劃，就是研發一種新的技術，叫做“X射線光刻機”。

EUV光刻機，原本是將芯片的圖紙，做成掩模，然后用13.9nm的紫外線，對掩模進行照射，然后在芯片上刻下電路，EUV光刻機就是這么做的。

而“無掩膜X光刻蝕機”則是另一種方式，它無需做任何掩模，只需用0.01nm至10nm的X射線，就能將芯片的電路直接繪制出來。

技術可靠嗎？這可不是一件容易的事情，技術已經有了，但效率很低，在很久以前，還沒有在芯片上使用過。

畢竟要在一塊硅片上雕刻電路，光是想想都讓人頭疼，技術上的落后還好說，但光是5nm，就是幾十億的晶體管，就很難了。到現在為止，還沒有任何一家公司，將自己的技術，投入到光刻的研究中。

俄羅斯的目標是，十一月研發出一套新的技術與模式，并對樣機的技術規格與可行性進行分析，其中的制程要求是28nm或更高。

俄羅斯第一批投入了六億七千萬盧布，由俄羅斯的莫斯科電子技術研究所（MIET）接手，這是蘇聯的硅谷中心，也是以微電子為主的。

雖然不知道最終會不會成功，但一旦成功，將會改變整個世界的芯片行業。