傳ASMPT與美光聯合開發下一代HBM4鍵合設備

據韓媒報道，韓國后端設備制造商 ASMPT 已向美光提供了用于高帶寬內存 (HBM) 生產的演示熱壓 (TC) 鍵合機。雙方已開始聯合開發下一代鍵合機，用于HBM4生產。

根據報道，美光還從日本新川半導體和韓美半導體采購TC鍵合機，用于生產HBM3E，于今年4月向韓美半導體提供了價值226億韓元的TC Bonder采購訂單。

據透露，美光正在使用熱壓非導電薄膜 (TC-NCF) 工藝制造 HBM3E，該種工藝很可能會在下一代產品 HBM4 中采用。HBM4 16H產品正在考慮使用混合鍵合。

此外，目前美光最大的HBM生產基地在臺灣地區，另據日經亞洲引述知情人士透露，美光科技正在美國建設先進高帶寬存儲（HBM）芯片的測試生產線，并首次考慮在馬來西亞生產HBM，滿足AI熱潮帶來的更多需求。

美光曾表示，公司目前正積極強化HBM技術并同步擴充產能，公司目標是到2025年將HBM（AI芯片的關鍵組件）的市場份額提高三倍以上，達到20%左右。