EUV在手天下我有 ASML二季度表現亮眼

　　全球最大芯片光刻設備市場供貨商阿斯麥(ASML)近日公布2017第二季財報。ASML第二季營收凈額21億歐元，毛利率為45%。在第二季新增8臺EUV系統訂單，讓EUV光刻系統的未出貨訂單累積到27臺，總值高達28億歐元。

　　預估2017第三季營收凈額約為22億歐元，毛利率約為43%。因為市場需求和第二季的強勁財務表現，ASML預估2017全年營收成長可達25%。

　　ASML總裁暨執行長溫彼得指出:“ASML今年的主要營收貢獻來自內存芯片客戶，尤其在DRAM市場需求的驅動下，這部分的營收預估將比去年成長50%，而來自邏輯芯片方面的營收也可望成長15%。除了DUV光刻系統的業務持續成長，在EUV光刻系統部分，未出貨訂單累積金額在第二季已經累積到28億歐元，顯示不論邏輯芯片和DRAM客戶都積極準備將EUV導入芯片量產階段。”

　　此外，ASML近年來積極推行系統升級業務，該部分的營收貢獻可望在今年成長20%。“綜合市場和各業務領域的捷報，我們認為成長動能將延續到2018年，”溫彼得說。

　　二季度的營收主力，EUV表現亮眼

　　作為為數不多的芯片光刻設備供應商，唯一一家EUV設備提供商，ASML在剛過去的一個季度表現非常亮眼，主要體現在以下幾個方面：

　　(1)深紫外光(DUV)光刻

　　ASML推出最新浸潤式光刻系統TWINSCAN NXT:2000i，具備多項硬件技術創新，讓客戶得以在7奈米和5奈米制程節點上，同時用浸潤式光刻和EUV系統進行量產，并達到2.5奈米的迭對精度。另一方面，3D NAND客戶對于KrF干式光刻系統的需求持續升高，目前TWINSCA NXT:860的未出貨訂單已累積超過20臺。TWINSCA NXT:860系統的生產力可達到每天曝光5,300片晶圓。

　　(2)全方位光刻優化方案

　　本季開始出貨最新的Yield Star 375F量測系統，具備最新的光學技術，可更快、更精準的獲取量測結果。

　　(3)極紫外光光刻

　　在荷蘭總部已經成功將升級的EUV光源整合進NXE:3400B系統中，并達成每小時輸出125片晶圓的生產力指標。至此，ASML的EUV系統已經成功達成所有計劃中的關鍵效能指標，下一階段，ASML將專注于達成滿足客戶在量產時所需的相關妥善率(availability)指標，并持續提升系統生產力。

　　在第二季當中，ASML也完成了對德國卡爾蔡司旗下蔡司半導體(Carl Zeiss SMT)24.9%的股權收購，以進一步深化雙方的策略伙伴關系，共同發展下一代EUV光刻系統。

　　展望2017年第三季，ASML預估整體銷售凈額可達22億歐元，毛利率約落在43%，其中包含約3億歐元的EUV營收認列。研發投資金額提高到3.15億歐元，其他收入部份(包括來自于客戶共同投資計劃的收入)約為2,400萬歐元，而管銷費用(SG&A)支出則約1.05億歐元，年化稅率約14%。ASML預計在第三季會有另外3臺NXE:3400B EUV光刻系統完成出貨。

　　ASML：現代芯片不可或缺的支持者

　　阿斯麥公司ASML Holding NV創立于1984年，是從飛利浦獨立出來的一個半導體設備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現用名，總部位于荷蘭費爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導體設備設計、制造及銷售公司。

　　阿斯麥公司為半導體生產商提供光刻機及相關服務，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高端光刻機型。

　　目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾，三星，海力士，臺積電，聯電，格芯及其它半導體廠。隨著摩爾定律的發展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

　　ASML的光刻機怎樣幫芯片助力?我們可以看一下ASML官方的介紹：

　　簡單來說，我們制造的光刻設備是一種投影系統。這個設備由50000個零件組裝而成。

　　實際使用過程中，則通過激光束被投穿過一片印著圖案的藍圖或光掩模，光學鏡片將圖案聚焦在有著光感化學涂層的硅晶圓上，當未受曝光的部分被蝕刻掉時，圖案隨即顯現…

　　此制程被一再重復，用以在單個芯片上制造數以十億計的微型結構。晶圓以2納米的精準度互相疊加，并加速移動，快如閃電，達到這種精確度可謂高科技，要知道，即使頭發絲也有十萬納米，2納米的精細可想而知。

　　未來，只有他的EUV光刻機能夠幫助芯片接續微縮，因此這些設備縱使賣到上億歐元，都能被客戶所接受。