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        超越摩爾時代 封裝廠的挑戰與機遇

        作者: 時間:2017-02-20 來源:海通電子研究 收藏
        編者按:我國由于勞動力優勢,封測行業發展相對較快,技術積累相對深厚,為國內公司布局先進封裝帶來了機會。

          近期封測行業熱鬧不斷,安靠科技收購FANOUT技術領先廠商NANIUM與長電先進FO ECP產品出貨破億只。一個趨勢是,由于先進制程帶來的中段工藝,廠和廠有了更加緊密的聯系,廠在超越摩爾時代的地位也會上升,將面臨來自廠的挑戰和新的機遇。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/201702/344151.htm

          先進封裝是延續摩爾定律生命的關鍵,具有廣闊市場空間。由于高溫和電荷泄露,7nm已經接近物理極限,而28nm之后工藝進步的成本效益可能會消失,因此摩爾定律發展至今遇到阻礙,而通過SIP等先進封裝技術變2D封裝為3D封裝,將多個芯片組合封裝形成一個系統的方式成為延續摩爾定律的關鍵,在提升芯片電路密度的同時由于去PCB化維持了較高的性價比。

          根據Yole Develpopment,先進封裝市場將在2020年時達到整體IC封裝服務的44%,年營收約為315億美元,約當12英寸數由2015年的0.25億片增至2019年0.37億片。中國先進封裝市場規模在2016年將達到25億美元,2020年預計市場規模將達46億美元,復合年成長率達到16%;約當12英寸晶圓數CAGR則預計達到18%。

          先進封裝占比的提升,提升了封測廠在產業鏈中的地位,也對封測廠提出了新的挑戰。一方面,封測廠要積極應對上游晶圓廠在中道技術方面的布局,另一方面,通過SIP技術開辟模組新的市場。但不論技術走向如何,封測技術在超越摩爾時代起到作用將會大幅提升。

          封測廠的中道時代到來。由于先進封裝要求在晶圓劃片前融入封裝工藝步驟,包括晶圓研磨薄化、重布線(RDL)、凸點制作及3DTSV 等制程,晶圓制造與封測前后道制程出現中道交叉區域,使得晶圓廠的技術布局逐漸向封測技術延伸。應用在蘋果A10芯片上的InFO WLP技術就是由臺積電獨立研發生產,目前臺積電的InFO技術在16nm FinFET上可以實現RF與Wi-Fi、AP與BB、GPU與網絡芯片三種組合。我們認為這可能表明一種趨勢,晶圓廠在加大封裝中道制程的布局,由于晶圓廠在技術,資本的領先地位,并且存在大量已折舊完成的高精度設備(而封裝廠商需要購買新的設備制程),以上都會對封裝廠造成挑戰,產業鏈有可能從專業化分工向IDM或者虛擬IDM加強合作轉變(比如中芯國際入股長電科技)。

          SiP封裝技術搶占模組廠利潤帶來新機遇。由于SIP集成不同工藝、技術、材料的芯片、MEMS等于一個系統,模組廠的利潤空間未來可能會向上游封測廠商轉移,帶來封測廠商新的機會。

          因此,在先進封裝大潮下,我們認為半導體產業鏈格局有望發生轉變。中道制程的崛起為晶圓廠和封測廠開辟了一片新的空間,晶圓廠具有資本和設備優勢,而封測廠技術積累雄厚,雙方預計將展開新的博弈,未來虛擬IDM起到的作用將會加大,晶圓和封測的上下游產業鏈合作將會加深。而系統集成趨勢為封測廠商向下游擴展提供了空間。但無論技術走向如何,封測環節不再處于從屬地位,重要性會大大增加。



        關鍵詞: 封裝 晶圓

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