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        這些年,英特爾、三星、臺積電在制程上的恩恩怨怨

        作者: 時間:2016-02-15 來源:pconline 收藏
        編者按:目前半導體工業恐懼的事實:CPU的制程極限是1nm,當線寬大概在1nm量級的時候,電子無法用經典圖像描述,此時,CPU必須放棄使用硅做半導體了,那個時候還繼續進行制程大戰嗎?

          制程工藝的極限在哪里?

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/201602/286922.htm

          我們知道,目前最先進的制程就是14nm。隨著半導體工業追求的制程越來越先進,量級遲早會步入量子級別的,到時會出現量子效應,導致原子之間的相互影響。所謂的電路就不是單純的電路了,其工作原理和常規物理電路完全不同,其中“量子遂穿”效應就是其中之一。



          硅遲早迎來末日?

          



          碳納米管結構示意圖:單個原子層卷起形成,相當于人類頭發寬度的千分之一

          事實上,硅的替代材料還有多種,如IBM致力研究的碳納米管等。



          HBM技術會用到CPU嗎?

          此外也可以另辟蹊徑,在使用現有工藝的情況下來提高單位面積下晶體管的集成數量。比如2.5D、3D堆疊等方案,目前在SSD 3D NAND、HBM顯存等已有成功應用。不過,發熱問題得要好好想想。在未來甚至還可能有光子計算、量子計算、DNA計算等顛覆摩爾定律的超級計算機出現。

          也許這種高技術離我們很遠,我們不需要擔心,因為有人已經幫我們擔心、幫我們摸索解決這個擔心的辦法。希望如此。


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        關鍵詞: 英特爾 三星 臺積電

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