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        法國研究機構CEA-Leti提升三維芯片封裝能力

        —— 面向研發(fā)型客戶項目
        作者: 時間:2011-01-19 來源:SEMI 收藏

          法國研究機構CEA-Leti最近開始提升其的生產能力,CEA-Leti在Grenoble 有一條300 mm 的CMOS 研發(fā)型生產線,目前專門用于的試驗。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/116227.htm

          CEA-Leti 稱他們已經可以向客戶提供 200 和 300 mm 的多種封裝技術和工具,其中包括三維定向光刻、深度刻蝕、介質淀積、表面金屬化等。



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