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        英特爾三星東芝聯手提升芯片制造工藝

        —— 在2016年前將芯片制造工藝提升到10納米級別
        作者: 時間:2010-10-31 來源:新浪科技 收藏

          據國外媒體報道,、東芝和三星電子將聯手開發新技術,在2016年前將制造工藝提升到級別。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/114056.htm

          據《日經新聞》報道,全球排名前兩位的NAND閃存制造商三星電子和東芝將與最大的廠商結成合作伙伴,并邀請大約10家半導體材料及其他領域的企業加入這一聯合體。

          據稱,日本經濟產業省有可能提供大約50億日元(約合6121萬美元)作為研發啟動資金。參與此項目的各家企業將再提供50億日元。

          東芝和三星電子計劃利用新技術制造級別的NAND閃存及其他,則希望用它開發更快的微處理器。



        關鍵詞: 英特爾 芯片 10納米

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