日前,威世科技Vishay Intertechnology, Inc.宣布,推出采用PowerPAK? SO-8S(QFN 6x5)封裝的全新150 V TrenchFET? Gen V N溝道功率MOSFET---SiRS5700DP,旨在提高通信、工業和計算應用領域的效率和功率密度。與上一代采用PowerPAK SO-8封裝的器件相比,Vishay Siliconix SiRS5700DP的總導通電阻降低了68.3 %,導通電阻和柵極電荷乘積(功率轉換應用中MOSFET的關鍵品質因數(FOM)降低了1
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Vishay MOSFET
SiC 功率器件市場規模逐年擴大,并將保持高速增長。
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SiC 功率器件
意法半導體的STGAP3S系列碳化硅 (SiC) 和 IGBT功率開關柵極驅動器集成了意法半導體最新的穩健的電隔離技術、優化的去飽和保護功能和靈活的米勒鉗位架構。STGAP3S 在柵極驅動通道與低壓控制和接口電路之間采用增強型電容隔離,瞬態隔離電壓 (VIOTM)耐壓9.6kV,共模瞬態抗擾度 (CMTI)達到 200V/ns。通過采用這種的先進的電隔離技術,STGAP3S提高了空調、工廠自動化、家電等工業電機驅動裝置的可靠性。新驅動器還適合電源和能源應用,包括充電站、儲能系統、功率因數校正 (PFC)、
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意法半導體 電隔離柵極驅動器 IGBT SiC MOSFET
東芝電子元件及存儲裝置株式會社(“東芝”)近日宣布,最新開發出一款用于車載牽引逆變器[1]的裸片[2]1200 V碳化硅(SiC)MOSFET“X5M007E120”,其創新的結構可實現低導通電阻和高可靠性。X5M007E120現已開始提供測試樣品,供客戶評估。當典型SiC MOSFET的體二極管在反向傳導操作[3]期間雙極通電時,其可靠性會因導通電阻增加而降低。東芝SiC MOSFET通過在MOSFET中嵌入SBD(肖特基勢壘二極管)以弱化體二極管工作的器件結構來緩解上述問題,但如若將SBD布置在芯片上
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東芝 低導通電阻 牽引逆變器 SiC MOSFET 驅動逆變器
Littelfuse公司是一家工業技術制造公司,致力于為可持續發展、互聯互通和更安全的世界提供動力。公司今日宣布推出SMFA非對稱系列表面貼裝瞬態抑制二極管,這是市場上首款非對稱瞬態抑制解決方案,專為保護碳化硅(SiC)MOSFET柵極免受過壓事件影響而設計。與傳統的硅MOSFET和IGBT相比,SiC MOSFET的開關速度更快、效率更高,因此越來越受到歡迎,對穩健柵極保護的需求也越來越大。SMFA非對稱系列提供了一種創新的單元件解決方案,在簡化設計的同時顯著提高了電路的可靠性。SMFA非對稱系列是市場
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SiC MOSFET柵極保護 非對稱瞬態抑制二極管 Littelfuse
全球 14 家 8 英寸 SiC 晶圓廠布局。
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SiC
壓縮機是汽車空調的一部分,它通過將制冷劑壓縮成高溫高壓的氣體,再流經冷凝器,節流閥和蒸發器換熱,實現車內外的冷熱交換。傳統燃油車以發動機為動力,通過皮帶帶動壓縮機轉動。而新能源汽車脫離了發動機,以電池為動力,通過逆變電路驅動無刷直流電機,從而帶動壓縮機轉動,實現空調的冷熱交換功能。電動壓縮機是電動汽車熱管理的核心部件,除了可以提高車廂內的環境舒適度(制冷,制熱)以外,對電驅動系統的溫度控制發揮著重要作用,對電池的使用壽命、充電速度和續航里程都至關重要。圖1.電動壓縮機是電動汽車熱管理的核心部件電動壓縮機需
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壓縮機 汽車空調 SiC
意法半導體(簡稱ST)推出第四代STPOWER碳化硅(SiC)MOSFET技術。第四代技術有望在能效、功率密度和穩健性三個方面成為新的市場標桿。在滿足汽車和工業市場需求的同時,意法半導體還針對電動汽車電驅系統的關鍵部件逆變器特別優化了第四代技術。公司計劃在2027年前推出更多先進的SiC技術創新成果,履行創新承諾。意法半導體模擬、功率與分立器件、MEMS和傳感器產品部(APMS)總裁Marco Cassis表示:“意法半導體承諾為市場提供尖端的碳化硅技術,推動電動汽車和高能效工業的未來發展。我們將繼續在器
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STPOWER SiC MOSFET 驅動逆變器
東芝電子元件及存儲裝置株式會社(“東芝”)今日宣布,最新推出第3代碳化硅(SiC)肖特基勢壘二極管(SBD)產品線中增添“TRSxxx120Hx系列”1200 V產品,為其面向太陽能逆變器、電動汽車充電站和開關電源等工業設備降低功耗。東芝現已開始提供該系列的十款新產品,其中包括采用TO-247-2L封裝的五款產品和采用TO-247封裝的五款產品。最新TRSxxx120Hxx系列為1200 V產品,其采用東芝第3代650 V SiC SBD的改進型結勢壘肖特基(JBS)結構[1]。在結勢壘中使用新型金屬,有
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東芝 SiC 肖特基勢壘二極管 工業電源
隨著MOSFET柵極長度的減小,熱載流子誘發的退化已成為重要的可靠性問題之一。在熱載流子效應中,載流子被通道電場加速并被困在氧化物中。這些被捕獲的電荷會引起測量器件參數的時間相關位移,例如閾值電壓?(VTH)、跨導 (GM)以及線性 (IDLIN) 和飽和 (IDSAT) 漏極電流。隨著時間的推移,可能會發生實質性的器件參數退化,從而導致器件失效。用于測量HCI的儀器必須提供以下三個關鍵功能:自動提取設備參數創建具有各種應力時間的應力測量序列輕松導出測量數據進行高級分析本文說明描述了如何在Kei
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202410 泰克科技 MOSFET
芝加哥,2024年9月19日--Littelfuse公司(NASDAQ:LFUS)是一家工業技術制造公司,致力于為可持續發展、互聯互通和更安全的世界提供動力。公司榮幸地宣布推出IX4341和IX4342雙5安培低壓側MOSFET柵極驅動器。這些柵極驅動器專為驅動MOSFET而設計,通過增加其余兩個邏輯輸入版本完善了現有的IX434x驅動器系列。IX434x系列現在包括雙路同相、雙路反相以及同相和反相輸入版本,為客戶提供了全面的選擇。IX4341和IX4342驅動器具有16納秒的短傳播延遲時間和7納秒的短暫
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littlefuseli MOSFET
與Si材料相比,SiC半導體材料在物理特性上優勢明顯,比如擊穿電場強度高、耐高溫、熱傳導性好等,使其適合于制造高耐壓、低損耗功率器件。本篇章帶你詳細了解SiC材料的物理特性。SiC作為半導體功率器件材料,具有許多優異的特性。4H-SiC與Si、GaN的物理特性對比見表1。與Si相比,4H-SiC擁有10倍的擊穿電場強度,可實現高耐壓。與另一種寬禁帶半導體GaN相比,物理特性相似,但在p型器件導通控制和熱氧化工藝形成柵極氧化膜方面存在較大差異,4H-SiC在多用途功率MOS晶體管的制備方面具有優勢。此外,由
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三菱電機 SiC
SiC晶體中存在各種缺陷,對SiC器件性能有直接的影響。研究清楚各類缺陷的構成和生長機制非常重要。本文帶你了解SiC的晶體缺陷及其如何影響SiC器件特性。在SiC晶體中存在各種缺陷,其中一些會影響器件的特性。SiC缺陷的主要類型包括微管、晶界、多型夾雜物、碳夾雜物等大型缺陷、以及堆垛層錯(SF)、以及刃位錯(TED)、螺旋位錯(TSD)、基面位錯(BPD)和這些復合體的混合位錯。就密度而言,最近質量相對較好的SiC晶體中,微管是1?10個/cm2,位錯的密度約為103~10?長達個/cm2。至今,與Si相
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三菱電機 SiC
高頻率開關的MOSFET和IGBT柵極驅動器,可能會產生大量的耗散功率。因此,需要確認驅動器功率耗散和由此產生的結溫,確保器件在可接受的溫度范圍內工作。高壓柵極驅動集成電路(HVIC)是專為半橋開關應用設計的高邊和低邊柵極驅動集成電路,驅動高壓、高速MOSFET 而設計。《高壓柵極驅動器的功率耗散和散熱分析》白皮書從靜態功率損耗分析、動態功率損耗分析、柵極驅動損耗分析等方面進行了全面介紹。圖 1 顯示了 HVIC 的典型內部框圖。主要功能模塊包括輸入級、欠壓鎖定保護、電平轉換器和輸出驅動級。柵極驅動器損耗
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MOSFET IGBT 柵極驅動器 功率耗散
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