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        從硅到碳化硅過(guò)渡,碳化硅Cascode JFET 為何能成為破局者?

        作者:Brandon Becker 時(shí)間:2025-02-24 來(lái)源:安森美 收藏

        電力電子器件高度依賴于硅(Si)、碳化硅()和氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)等半導(dǎo)體材料。雖然硅一直是傳統(tǒng)的選擇,但碳化硅器件憑借其優(yōu)異的性能與可靠性而越來(lái)越受歡迎。相較于硅,碳化硅具備多項(xiàng)技術(shù)優(yōu)勢(shì)(圖1),這使其在電動(dòng)汽車、數(shù)據(jù)中心,以及直流快充、儲(chǔ)能系統(tǒng)和光伏逆變器等能源基礎(chǔ)設(shè)施領(lǐng)域嶄露頭角,成為眾多應(yīng)用中的新興首選技術(shù)。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202502/467244.htm

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        圖1:硅器件(Si)與碳化硅()器件的比較

        什么是碳化硅 技術(shù)?

        眾多終端產(chǎn)品制造商已選擇碳化硅技術(shù)替代傳統(tǒng)硅技術(shù),基于雙極結(jié)型晶體管(BJT)、結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管()、金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)和絕緣柵雙極晶體管(IGBT)等器件開(kāi)發(fā)電源系統(tǒng)。這些器件因各自特性(優(yōu)缺點(diǎn)不同)而被應(yīng)用于不同場(chǎng)景。

        然而,安森美的Elite 共源共柵結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管( )器件(圖2)將這一技術(shù)推向了新高度。該器件基于獨(dú)特的"共源共柵()"電路配置——將常開(kāi)型碳化硅JFET器件與硅MOSFET共同封裝,形成一個(gè)集成化的常閉型碳化硅FET器件。我們的碳化硅Cascode JFET能夠輕松、靈活地替代IGBT、超結(jié)MOSFET以及碳化硅MOSFET等任何器件類型(圖3)。

        在本文中,我們將深入探討安森美EliteSiC Cascode JFET相較于同類碳化硅MOSFET的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

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        圖 2:安森美碳化硅 Cascode JFET 器件框圖

        碳化硅相較于硅的技術(shù)優(yōu)勢(shì)

        與硅器件相比,碳化硅Cascode JFET具備多項(xiàng)優(yōu)勢(shì)。碳化硅作為寬禁帶材料,具有更高的擊穿電壓特性,這意味著其器件可采用更薄的結(jié)構(gòu)支持更高的電壓。此外,碳化硅相較于硅的其他優(yōu)勢(shì)還包括:

        ■ 對(duì)于給定的電壓與電阻等級(jí),碳化硅可實(shí)現(xiàn)更高的工作頻率,從而縮小元器件尺寸,顯著降低系統(tǒng)整體尺寸與成本。

        ■ 在較高電壓等級(jí)(1200V 或更高)應(yīng)用中,碳化硅可以較低功率損耗實(shí)現(xiàn)高頻開(kāi)關(guān)。而硅器件在此電壓范圍內(nèi)幾乎無(wú)法勝任。

        ■ 在任何給定的封裝中,與硅相比,碳化硅器件具備更低的導(dǎo)通電阻(RDS(ON))和開(kāi)關(guān)損耗。

        ■ 在與硅器件相同的設(shè)計(jì)中,碳化硅能提供更高的效率和更出色的散熱性能,甚至更高的系統(tǒng)額定功率。

        碳化硅Cascode JFET:無(wú)縫升級(jí)替代硅基方案,卓越性能全面釋放

        這些優(yōu)勢(shì)也體現(xiàn)在安森美 EliteSiC Cascode JFET 的性能中,這是一種更新且功能更強(qiáng)大的器件,針對(duì)多種功率應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。

        與硅基柵極驅(qū)動(dòng)器兼容:實(shí)現(xiàn)向碳化硅的無(wú)縫過(guò)渡

        首先,碳化硅Cascode JFET 的結(jié)構(gòu)允許使用標(biāo)準(zhǔn)硅基柵極驅(qū)動(dòng)器。這簡(jiǎn)化了從硅基到碳化硅設(shè)計(jì)的過(guò)渡,提供了更大的設(shè)計(jì)靈活性。它們與各種類型的柵極驅(qū)動(dòng)器兼容,包括為 IGBT、硅超結(jié) MOSFET 和 碳化硅MOSFET 設(shè)計(jì)的驅(qū)動(dòng)器。

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        圖3:按電壓分類的功率半導(dǎo)體器件

        其他優(yōu)勢(shì)

        ■ 在給定封裝中,擁有業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的漏源導(dǎo)通電阻RDS(ON),可最大程度地提高系統(tǒng)效率。

        ■ 更低的電容允許更快的開(kāi)關(guān)速度,因此可以實(shí)現(xiàn)更高的工作頻率;這進(jìn)一步減小了如電感器和電容器等大體積無(wú)源元件的尺寸。

        ■ 與傳統(tǒng)應(yīng)用于這一細(xì)分領(lǐng)域的硅基IGBT相比,碳化硅Cascode JFET在更高電壓等級(jí)(1200V或以上)下能夠?qū)崿F(xiàn)更高的工作頻率,而硅基IGBT通常速度較慢,僅能在較低頻率下使用,因此開(kāi)關(guān)損耗較高。

        ■ 安森美EliteSiC Cascode JFET器件在給定RDS(ON)     的條件下,實(shí)現(xiàn)更小的裸片尺寸,并減輕了碳化硅 MOSFET常見(jiàn)的柵極氧化層可靠性問(wèn)題。

        SiC MOSFET vs. 安森美SiC Cascode JFET:深入對(duì)比

        讓我們花一點(diǎn)時(shí)間來(lái)更深入地了解SiC MOSFET 與 安森美SiC JFET 技術(shù)之間的差異。從下面的圖 3 中我們可以看到,SiC MOSFET 技術(shù)不同于安森美的集成式SiC Cascode JFET——這是精心設(shè)計(jì)的結(jié)果。安森美設(shè)計(jì)的SiC JFET去掉了碳化硅MOSFET 的柵極氧化層,這不僅消除了溝道電阻,還讓裸片尺寸更為緊湊。

        安森美碳化硅 JFET 較小的裸片尺寸成為其差異化優(yōu)勢(shì)的一個(gè)關(guān)鍵所在,"RDS(ON)x A"(RdsA)品質(zhì)因數(shù) (FOM) 得以最佳體現(xiàn),如圖 4 所示。這意味著對(duì)于給定的芯片尺寸,SiC JFET 具有更低的導(dǎo)通電阻額定值,或者換言之,在相同的 RDS(ON)下,安森美SiC JFET 的裸片尺寸更小。安森美在 RdsA FOM 方面的卓越表現(xiàn)樹(shù)立了行業(yè)領(lǐng)先地位,體現(xiàn)在以相對(duì)較小的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)封裝(如 TOLL 和 D2PAK)提供的超低額定電阻產(chǎn)品。

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        圖 4:碳化硅MOSFET 與安森美Cascode JFET 的比較(從外部看,Cascode 是一種常關(guān) FET)。

        與SiC MOSFET 相比,EliteSiC Cascode JFET 具有更低的輸出電容 Coss。輸出電容較低的器件在低負(fù)載電流下開(kāi)關(guān)速度更快,電容充電延遲時(shí)間更短。這意味著,由于減少了對(duì)電感器和電容器等大體積無(wú)源元件的需求,現(xiàn)在可以制造出更小、更輕、成本更低且功率密度更高的終端設(shè)備。

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        圖 5:安森美碳化硅Cascode JFET 與碳化硅 MOSFET 的競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品對(duì)比

        以下是關(guān)于SiC MOSFET的其他挑戰(zhàn):

        ■ 碳化硅MOS 溝道電阻高,導(dǎo)致電子遷移率較低。

        ■ Vth在柵極偏置較高的情況下會(huì)發(fā)生漂移,這意味著柵極到源極的電壓驅(qū)動(dòng)范圍受到限制。

        ■ 體二極管具有較高的拐點(diǎn)電壓,因此需要同步整流。

        然而,使用安森美的SiC JFET,上述缺陷得以根本解決,因?yàn)椋?/p>

        ■ SiC JFET 結(jié)構(gòu)的器件上摒棄 MOS(金屬氧化物)結(jié)構(gòu),因此器件更加可靠。

        ■ 在相同芯片面積下,漏極至源極電阻更低。

        ■ 電容更低,這意味著更快的開(kāi)關(guān)轉(zhuǎn)換和更高的頻率。

        為什么選擇安森美EliteSiC Cascode JFET?

        盡管市場(chǎng)上可供選擇的SiC功率半導(dǎo)體種類繁多,但在某些特定應(yīng)用中,一些器件的表現(xiàn)確實(shí)比其他器件更為出色。安森美的集成式SiCCascode JFET便是其中的佼佼者,因其低 RDS(ON)、低輸出電容和高可靠性等獨(dú)特優(yōu)勢(shì),能夠提供卓越的性能。

        此外,碳化硅 Cascode JFET架構(gòu)使用標(biāo)準(zhǔn)硅基柵極驅(qū)動(dòng)器,簡(jiǎn)化了從硅到碳化硅的過(guò)渡過(guò)程,可在現(xiàn)有設(shè)計(jì)中實(shí)施。因此,它為從硅到碳化硅的過(guò)渡提供了靈活性--實(shí)施簡(jiǎn)單,同時(shí)得益于SiC技術(shù)而提供卓越的性能。

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        這些優(yōu)點(diǎn)幫助安森美的SiC Cascode JFET 技術(shù)在其他技術(shù)無(wú)法企及的領(lǐng)域大放異彩。碳化硅JFET 的增強(qiáng)性能使其在用于人工智能數(shù)據(jù)中心、儲(chǔ)能和直流快充等 電源單元中實(shí)現(xiàn)更高的效率。

        隨著對(duì)更高功率密度和更緊湊外形需求的增加,安森美SiC Cascode JFET 能夠?qū)崿F(xiàn)更小、更輕和更低成本的終端設(shè)備。由于減少了對(duì)電感器和電容器等大體積無(wú)源元件的需求,有助于實(shí)現(xiàn)更高的功率密度。


        本文作者:Brandon Becker,安森美(onsemi)電源解決方案事業(yè)部 (PSG) 營(yíng)銷經(jīng)理



        關(guān)鍵詞: SiC Cascode JFET AC-DC

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