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        na euv 文章 最新資訊

        EUV提前半年問世:Intel先進(jìn)工藝不跳票

        • 前不久的Intel投資者會議上,英特爾發(fā)布了先進(jìn)工藝的路線圖,從去年的Intel 7工藝開始一路推進(jìn)到Intel 18A工藝,酷睿處理器從12代一直持續(xù)到16代酷睿,甚至17代酷睿都在準(zhǔn)備中了,2025年上市。? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?不僅工藝規(guī)劃的很好,而且這一次Intel更有信心,因為多代工藝實際上提前量產(chǎn)了,具體如下:Intel 4工藝是Intel第一個
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        ASML:努力向中國提供一切能夠提供的技術(shù)

        • 芯片行業(yè)一直是困擾全球的“卡脖子”領(lǐng)域,而其中核心的光刻機(jī)技術(shù)被幾家公司牢牢的攥在手里。想要在芯片領(lǐng)域有長足的進(jìn)步,光刻機(jī)這種核心設(shè)備就要有所突破。而之前美國通過自身在全球市場的控制能力,通過修改法案等手段一直將光刻機(jī)設(shè)備和技術(shù)限制對中國進(jìn)行輸出。但近期光刻機(jī)頭部企業(yè)ASML則明確表態(tài)將會盡其所能向中國市場提供一切他們能夠提供的技術(shù),其中DUV光刻機(jī)將會不需要認(rèn)可許可即可向中方企業(yè)提供。ASML光刻機(jī)除此之外,ASML表示在當(dāng)前法律框架之下,他們除了EUV光刻機(jī)無法向中方企業(yè)提供,其他產(chǎn)品都可以正常發(fā)售。
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        單臺1.5億美元 ASML制造新一代EUV光刻機(jī)

        • 據(jù)《連線》雜志報道,在美國康涅狄格州郊區(qū)的一間潔凈室中,ASML的工程師們正在為一臺單臺造價1.5億美元的新機(jī)器制造關(guān)鍵部件,該部件是新一代EUV系統(tǒng)的組成部分,會采用一些新技術(shù)來最大限度地減少其使用的光波長,包括縮小芯片的特征尺寸并提升性能。ASML的工程師正在裝配系統(tǒng)組件(圖片來自ASML)      要知道,當(dāng)前的EUV機(jī)器已經(jīng)像一輛公共汽車那么大,包含10萬個零部件和兩公里長的電纜,運(yùn)輸這些組件需要40個貨運(yùn)集裝箱、三架貨機(jī)和20輛卡車,能夠買得起這種設(shè)備的公
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        阿斯麥的新一代EUV光刻機(jī):造價1.5億美元 公共汽車大小

        •   9月2日消息,荷蘭阿斯麥的新一代極紫外(EUV)光刻機(jī)每臺有公共汽車大小,造價1.5億美元。其前所未有的精度可以讓芯片上的元件尺寸在未來幾年繼續(xù)縮小。  在位于美國康涅狄格州郊區(qū)的一間大型潔凈室里,工程師們已經(jīng)開始為一臺機(jī)器制造關(guān)鍵部件,這臺機(jī)器有望讓芯片制造行業(yè)沿著摩爾定律至少再走上10年時間。  這臺極紫外光刻機(jī)是由荷蘭阿斯麥公司制造的。阿斯麥于2017年推出世界上第一臺量產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),在芯片制造領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用,已經(jīng)被用于制造iPhone手機(jī)芯片以及人工智能處理器等最先進(jìn)的芯片。阿斯
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        美光確認(rèn)EUV工藝DRAM 2024年量產(chǎn):1γ節(jié)點導(dǎo)入

        • 三星、SK海力士及美光確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。芯研所8月21日消息,CPU、GPU為代表的邏輯工藝制程進(jìn)入7nm之后,EUV光刻工藝不可或缺。目前內(nèi)存停留在10nm工藝級別。三星、SK海力士及美光也確定未來會用EUV工藝,其中美光的EUV工藝內(nèi)存在2024年量產(chǎn)。美光CEO Sanjay Mehrotra日前在采訪中確認(rèn),美光已將EUV技術(shù)納入DRAM技術(shù)藍(lán)圖,將由10nm世代中的1γ(gamma)工藝節(jié)點開始導(dǎo)入。美光EUV工藝DRAM將會先在臺中A3廠生產(chǎn),預(yù)
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        EUV技術(shù)開啟DRAM市場新賽程

        • SK海力士公司在7月12日表示,本月已經(jīng)開始生產(chǎn)10納米8Gb LPDDR4移動DRAM —— 他們將在該內(nèi)存芯片生產(chǎn)中應(yīng)用極紫外(EUV)工藝,這是SK海力士首次在其DRAM生產(chǎn)中應(yīng)用EUV。根據(jù)SK海力士的說法,比起前一代規(guī)格的產(chǎn)品,第四代在一片晶圓上產(chǎn)出的DRAM數(shù)量增加了約25%,成本競爭力很高。新的芯片將在今年下半年開始供應(yīng)給智能手機(jī)制造商,并且還將在2022年初開始生產(chǎn)的DDR5芯片中應(yīng)用10納米EUV。世界第三大DRAM制造商SK海力士發(fā)布聲明,正式啟用EUV光刻機(jī)閃存內(nèi)存芯片,批量生產(chǎn)采用
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        為什么ASML加速來華?

        • 芯片雖小,制造難度卻很大,而且芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備光刻機(jī)的缺乏,更是成為限制我國高端芯片的一大難題。尤其是近兩年華為事件的不斷發(fā)酵,讓我國半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域的問題越加明顯,那就是在芯片制造的設(shè)備上,我國依然受制于人的問題相當(dāng)嚴(yán)重。為什么ASML加速來華?北大教授的發(fā)聲很現(xiàn)實,國產(chǎn)光刻機(jī)突破在即雖然華為研發(fā)出基于5nm工藝的麒麟9000芯片,令一眾對手刮目相看,但是沒有臺積電為其代工生產(chǎn),沒有屬于中國自己的高端光刻機(jī),就等同于一張“紙老虎”。作為中國大陸最先進(jìn)的芯片制造企業(yè)中芯國際,因為沒有高端光刻機(jī),至今仍然沒
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        三星有意在美國建5nm EUV芯片廠 巨額投資

        • 據(jù)韓媒援引業(yè)內(nèi)人士消息,三星電子已決定在美國得克薩斯州奧斯丁設(shè)立EUV半導(dǎo)體工廠,以滿足日益增長的小型芯片需求和美國重振半導(dǎo)體計劃。該工廠將采用5nm制程,計劃于今年Q3開工,2024年投產(chǎn),預(yù)計耗資180億美元,同時也是三星電子首次在韓國之外設(shè)立EUV產(chǎn)線。去年,臺積電去宣布將在美國建設(shè)芯片工廠,建成之后將采用5nm工藝為相關(guān)的客戶代工芯片,目標(biāo)是2024年投產(chǎn)。最新消息稱,臺積電管理層目前正在討論,他們在美國的下一座芯片工廠,是否采用更先進(jìn)的3nm制程工藝,為相關(guān)的客戶代工芯片。
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        阿斯麥已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī) 70%賣給了臺積電

        •   本周一,外媒援引韓國產(chǎn)業(yè)通商資源部一份有關(guān)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略文件報道稱,光刻機(jī)制造商阿斯麥將投資2.12億美元,在京畿道華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心。在報道阿斯麥將在華城建設(shè)極紫外光刻機(jī)再制造廠和培訓(xùn)中心時,外媒還提到,雖然三星電子、SK海力士已引進(jìn)了阿斯麥生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),但他們獲得的數(shù)量同臺積電相比,有不小的差距。  外媒在報道中提到,阿斯麥目前已生產(chǎn)的極紫外光刻機(jī),70%是賣給了臺積電,留給其他廠商的就只有30%。  阿斯麥?zhǔn)悄壳叭蛭ㄒ荒苤圃鞓O紫外光刻機(jī)的廠商,他們已推出了TWIN
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        不用EUV光刻機(jī)就搞定類7nm工藝?中芯國際回應(yīng)

        •   做為國內(nèi)最大也是最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造公司,中芯國際在先進(jìn)工藝上的進(jìn)展引人關(guān)注,其中7nm及以下節(jié)點非常重要,這還牽涉到EUV光刻機(jī)。  日前有股民在互動平臺上詢問,稱有報道指出中芯國際不用EUV光刻就攻克了類7nm工藝,要求中芯國際澄清。  對此,中芯國際表示,公司不針對傳言進(jìn)行評論。  從中芯國際官網(wǎng)的介紹來看,該公司提到的最先進(jìn)工藝還是14nm,接下來的是N+1、N+2工藝,但沒有指明具體的工藝節(jié)點。  中芯國際聯(lián)合CEO趙海軍曾表示,經(jīng)過三年的積累,F(xiàn)inFET工藝已經(jīng)取得了不錯的成績,N+1已經(jīng)
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        里程碑!IBM宣布造出全球首顆2nm EUV芯片

        • 藍(lán)色巨人出手就是王炸。  5月6日消息,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片。  核心指標(biāo)方面,IBM稱該2nm芯片的晶體管密度(MTr/mm2,每平方毫米多少百萬顆晶體管)為333.33,幾乎是臺積電5nm的兩倍,也比外界預(yù)估臺積電3nm工藝的292.21 MTr/mm2要高。  2nm晶圓近照  換言之,在150平方毫米也就是指甲蓋大小面積內(nèi),就能容納500億顆晶體管。  同時,IBM表示,在同樣的電力消耗下,其性能比當(dāng)前7nm高出45%,輸出同樣性能則減少75%的功耗。    實際上,I
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        ASML澄清與中芯國際交易EUV與DUV光刻機(jī)一字之差大不同

        •   近日,中芯國際與ASML達(dá)成12億美元交易購買晶圓生產(chǎn)設(shè)備的消息引發(fā)關(guān)注。針對雙方此次合作,有媒體報道稱“除了EUV光刻機(jī),中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機(jī)。”但是這一說法很快被ASML官方澄清,該協(xié)議與DUV光刻技術(shù)的現(xiàn)有協(xié)議相關(guān)。  可能很多網(wǎng)友看到這里有點蒙圈,這繞來繞去的到底是玩的什么文字游戲。這里先進(jìn)行一個小科普,EUV和DUV到底有啥區(qū)別呢?EUV也就是“極深紫外線”的意思,而DUV是“深紫外線”的意思,通過字面就知道EUV看上去就比DUV高級,實際上也是如此。  ASML澄清與中
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        中國芯片業(yè)為什么搞不過一家荷蘭公司

        • 荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)1月20日發(fā)布了2020年Q4和全年財報,這位世界光刻機(jī)霸主去年共出貨了31臺EUV光刻機(jī),中國大陸由于種種原因沒有買到其中任何一臺。  有人說阿斯麥?zhǔn)俏ㄒ灰粋€能讓臺積電折腰的公司,這一點也不夸張。阿斯麥所生產(chǎn)的光刻機(jī),是半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)芯片的最關(guān)鍵工具。畢竟,沒有刀,再好的師傅也雕不出來花。  如果有任何廠商的光刻機(jī)設(shè)備需要維修,阿斯麥的工程師從登上飛機(jī)那一刻,廠商就要付給他們以小時計的美金。  曾經(jīng),某上市公司的光刻機(jī)出問題后,排了3年隊才等到阿斯麥的工程師。結(jié)果阿斯麥的
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        全球最大光刻機(jī)廠CEO:拜登恐難緩解中美半導(dǎo)體緊張局勢

        • 拜登上任在即,他會緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機(jī)制造商ASML的CEO表示,即使總統(tǒng)換屆,兩國在包括光刻機(jī)在內(nèi)的半導(dǎo)體領(lǐng)域,仍將出現(xiàn)進(jìn)一步的對抗。也有人發(fā)表看法,發(fā)展芯片,開源指令集架構(gòu)RISC-V可能會讓中國芯片自主「彎道超車」?  離美國新任總統(tǒng)拜登的上任越來越近了。  在過去川普任職期內(nèi),中美之間的貿(mào)易戰(zhàn)讓不少科技公司都卷入其中,總部位于荷蘭的光刻機(jī)制造商ASML也是其中之一。  由于美國政府的壓力,其最新價值約2億美元的光刻機(jī)已停止向中國銷售。  由于川普的舉動常常出其不意而且瘋狂
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        阿斯麥ASML全新EUV光刻機(jī)將于2021年中期發(fā)貨

        • 14日訊,《科創(chuàng)板日報》記者從ASML獲悉,其公布了EUV路線圖上的新機(jī)型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格,這是30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時曝光160片晶圓,提高了18%的生產(chǎn)率,并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1納米,并計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。
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