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        臺積電28納米明年1Q試產(chǎn) 迎擊IBM陣營

        作者: 時間:2009-08-27 來源:DigiTimes 收藏

          制程再邁大步,預計最快2010年第1季底進入試產(chǎn),2011年明顯貢獻營收,可望在世代迎接中央處理器(CPU)代工訂單,目前制程技術(shù)最大競爭對手,仍是來自IBM陣營的Global Foundries與新加坡特許(Chartered),雙方競爭更趨激烈。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/97526.htm

          表示,已將低耗電制程納入28納米高介電層/金屬閘(HKMG)制程技術(shù)藍圖,預計2010年第3季進行試產(chǎn),至于28納米低功耗制程(28LP)、高效能制程(28HP)則分別于2010年第1季底、第2季底進入試產(chǎn)。臺積電表示,自2008年9月正式發(fā)表28納米技術(shù)后,發(fā)展與量產(chǎn)時程皆按預期計畫如期進行。

          目前臺積電28納米低功耗制程因延伸自氮氧化矽(SiON)制程,成本與功耗較低,主要鎖定行動電話、精巧型隨身易網(wǎng)機(smart netbook)、無線通訊、可攜式消費性電子等低耗電應用市場;而在高效能制程上,則采用閘極后制()技術(shù),鎖定中央處理器、繪圖處理器、芯片組與可程序化閘陣列(FPGA)、游戲主機等高效能芯片應用。

          值得一提的是,英特爾是閘極后制技術(shù)擁護者,而另一半導體陣營IBM則以閘極優(yōu)先(gate-first)為取向。臺積電研發(fā)副總孫元成指出,采用閘極后制方式發(fā)展28納米高效能制程,在晶體管特性、應用優(yōu)勢及可制造性等方面,都比閘極優(yōu)先方法好。目前采取閘極優(yōu)先以IBM為主軸,包括策略伙伴Global Foundries與特許都已推出28納米制程,其中,Global Foundries預計2010年與客戶完成設計,2011年量產(chǎn),與臺積電時程幾乎不相上下。



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