Mentor對臺積電Reference Flow 10.0中的工具和技術(shù)進(jìn)行擴(kuò)展

　　Reference Flow 10.0還包括了Questa®和0-In®平臺的高級功能驗(yàn)證特性，用于復(fù)雜IC設(shè)計(jì)的增強(qiáng)型驗(yàn)證。

• 基于標(biāo)準(zhǔn)的解決方案，支持IEEE標(biāo)準(zhǔn)、1801-2009™ UPF和IEEE標(biāo)準(zhǔn)、1800-2005™ SystemVerilog。
• 集成低功耗仿真和形式化功能，在設(shè)計(jì)流程早期驗(yàn)證高級功耗管理電路。
• 跨電路復(fù)雜時(shí)鐘域靜態(tài)和動態(tài)驗(yàn)證，保證標(biāo)準(zhǔn)和低功耗模式下能正常工作。

　　“臺積電Reference Flow 10.0中完整的Mentor設(shè)計(jì)到硅片流程允許我們一起幫助共同的客戶解決在28nm所面臨的最大挑戰(zhàn)，包括低功耗設(shè)計(jì)和驗(yàn)證、大規(guī)模SoC實(shí)施、工藝多變性、經(jīng)濟(jì)型測試和良品率分析，”Mentor Graphics主席和CEO Walden C. Rhines說。“行業(yè)在向28nm工藝過渡時(shí)也提出了新的技術(shù)挑戰(zhàn)，Mentor為此有自己獨(dú)到的解決方案。我們與臺積電密切合作，利用工具消除設(shè)計(jì)師和代工廠間的距離，并同時(shí)幫助客戶在提高產(chǎn)品性能和可靠性的同時(shí)縮短產(chǎn)品的上市時(shí)間。”