中國晶圓廠跨入BCD工藝 搶進模擬IC更上層樓
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上海華虹NEC宣布,目前正與技術合作伙伴共同開發新技術,預計將跨入0.35微米BCD工藝技術。同時這項工藝工序設計配套平臺及IP數據庫也已建置完成。華虹NEC預計,最快將在第三季度開發完成0.35微米、40伏的BCD工藝,對外供客戶采用。華虹NEC指出,這套工藝技術主要是針對模擬及電源管理IC、汽車芯片等市場所量身訂做。
華虹NEC總裁劉文韜表示,電源管理IC向來是華虹NEC的重要目標市場之一。而BCD工藝技術融合Bipolar、CMOS和DMOS,綜合了高速、較高電壓及低功耗等優點,更能符合未來電子產品內需要電壓變化、電容保護和延長電池壽命等IC要件。而華虹NE
C近來好消息不斷,包括接手上海貝嶺8英寸廠,以及傳出將赴香港進行股票上市(IPO),預計籌資3億美元用來擴產。
我國半導體企業指出,由于目前受限于資源集中,國內晶圓廠僅中芯國際、武漢新芯及無錫海力士(Hynix)、意法半導體(STM)所合資的3座12英寸廠。而大多數內陸晶圓廠仍多以8英寸、6英寸居多,盡管12英寸晶圓工藝上受限,不過6、8英寸晶圓廠近幾年積極靠消費IC及智能卡芯片等內陸需求快速起飛,加上電源管理IC等新興模擬市場,對于我國晶圓廠來說,仍到處充滿良機。
事實上,包括上海先進及中芯國際也積極跨入模擬IC領域,中芯與高通(Qualcomm)曾宣布共同攜手在天津廠生產BiCMOS工藝手機芯片;而上海先進也計劃將旗下5英寸、6英寸廠合并并升級為6英寸廠,并已展開模擬IC的BCD工藝認證,更獲Sipex模擬IC訂單,尤其在大股東飛利浦及客戶恩智浦(NXP)帶動下,將是我國最具潛力的模擬IC代工廠。
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