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        三星半導體資本支出超英特爾臺積電

        作者: 時間:2015-11-03 來源:經濟日報 收藏

          半導體資本支出不畏市況低迷,維持原訂15兆韓元(約131億美元、約新臺幣4,192億元)高檔,年增近14%。相較、臺積電數次調降今年資本支出,半導體資本支出金額不僅在三強中居冠,更是三強唯一未砍資本支出并較去年成長的業者,威脅臺積電、華亞科等臺廠。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/282203.htm

          半導體業務分為存儲器制造與晶圓代工兩大區塊,以存儲器制造為最大宗。三星今年資本支出維持高檔,市場預期對存儲器業沖擊最大;晶圓代工方面,三星目前仍不及臺積電,但已在市場與臺積電搶客戶。

          三星居全球DRAM龍頭,市占逾45%,具有“喊水會結凍”的能耐。先前曾傳出三星因整體營運陷入低潮,加上市場供過于求,有意暫緩DRAM擴產,讓同業一度大大松一口氣。

          法人指出,三星未下修今年資本支出,對存儲器業沖擊最大,主因這意味三星DRAM擴產進度并未停歇。雖然今年已接近尾聲,但三星維持半導體高資本支出,將成為明年市場供需一大變數。

          尤其三星今年的投資,將成為后續新產能與供應量,市場供過于求壓力更大,華亞科、南亞科等業者必須謹慎因應。DRAM業普遍對短期展望保守,華亞科認為,供過于求狀況仍在,盡管市場存貨持續消化中,本季價格仍面臨下跌壓力。

          據了解,三星維持高資本支出,主要因應今年5月在南韓平澤動土的新廠資金需求,該廠區斥資154億美元,是三星未來存儲器與晶圓代工新產能最重要的來源。

          

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        關鍵詞: 三星 英特爾

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