GaN代工模型是否面臨問題?Innoscience參與臺積電2027退出
雖然臺積電計劃到 2027 年退出氮化鎵 (GaN) 晶圓代工業務,但行業巨頭英飛凌正在加大努力,這標志著 GaN 領域的重大轉變。哪些因素可能推動了這些不同的策略?根據《科創板日報》的報道,中國英諾賽科董事會主席羅偉偉解釋說,氮化鎵晶圓生產可能不太適合傳統的代工模式。
正如報告中所引用的,Luo 解釋說,傳統的功率半導體器件結構相對簡單,不會對代工服務產生強勁的需求。特別是對于 GaN 功率器件,這種模型沒有提供足夠的投資回報 (ROI),并且缺乏代工廠與其客戶之間通常看到的密切合作。
據 Luo 介紹,GaN 器件需要設計和應用之間的深度集成。因此,垂直整合制造并直接與市場相連的 IDM 模式是目前更合適的生產方法。
英諾賽科是全球第一家實現 8 英寸硅基 GaN 晶圓量產的公司,也是全球唯一一家以工業規模提供全電壓光譜硅基 GaN 產品的公司。該公司以 IDM 模式運營。報告稱,截至 2024 年底,其 GaN 晶圓月產能已達到 13,000 片,良率超過 95%。
生產挑戰:從 6 英寸到 12 英寸
正如報告中強調的那樣,Innoscience 首席執行官指出,6 英寸 GaN 代工生產線幾乎無法滿足客戶的設計集成需求,這使得主要制造商不太可能在此類產能上投入大量資金。該報告補充說,可行的商業化需要擴展到具有有意義輸出水平的 8 英寸晶圓。
同時,該報告援引行業消息人士的話指出,重大障礙繼續阻礙 12 英寸 GaN 晶圓的產業化。據 Luo 稱,一個關鍵挑戰是,沒有 MOCVD 設備供應商公開推出能夠支持 12 英寸 GaN 外延的解決方案。
MOCVD 是 GaN 層外延生長的核心設備。正如報告中所指出的,它在 GaN 材料生長、器件性能和大規模生產可行性方面起著至關重要的作用。
根據 TrendForce 集邦咨詢的數據,到 2030 年,全球 GaN 功率器件市場預計將達到 43.76 億美元,復合年增長率 (CAGR) 為 49%。
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