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        4nm→2nm,三星或升級美國德州泰勒晶圓廠制程節點

        作者: 時間:2024-06-20 來源:全球半導體觀察 收藏

        根據韓國媒體Etnews的報導,晶圓代工大廠正在考慮將其設在美國德州泰勒市的制程技術,從原計劃的4納米改為2納米,以加強與臺積電美國廠和英特爾的競爭。消息人士稱,電子最快將于第三季做出最終決定。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202406/460070.htm

        報導指出,的美國德州泰勒市投資于2021年,2022年開始興建,計劃于2024年底開始分階段運營。以三星電子DS部門前負責人Lee Bong-hyun之前的說法表示,到2024年底,我們將開始從這里出貨4納米節點制程的產品。

        不過,相較于三星泰勒市,英特爾計劃2024年在亞利桑那州和俄亥俄州工廠量產Intel 20A和18A節點制程。

        此外,臺積電也正在美國建設三座晶圓廠,計劃2025年上半年投產4納米節點制程,2028年投產2納米及3納米節點制程,2030年投產2納米及其以下的先進節點制程。因此,相較來說,三星的進度稍有所落后競爭對手。

        而根據在4月份舉行的第一季業績發表會上,三星電子表示,我們正準備根據客戶訂單分階段啟動美國泰勒市晶圓廠的運營工作,預計將于2026年開始進一步的首次量產。而受惠于泰勒市晶圓廠,三星電子能夠從美國政府獲得64億美元的補貼,這使得三星預計到2030年總投資預計將超過400億美元。因此,對于泰勒市晶圓廠的制程轉變,未來是否會影響市場占有率,市場還需拭目以待。



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