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        中科院微電子研究所EDA中心研究方向匯總

        作者: 時間:2022-04-18 來源:中科院 收藏

        納米芯片可制造性設計(DFM)技術:已形成Art-DFMx工具套件,支持65nm-28nm-14nm-7nm的版圖可制造性設計分析,用于面向良率提升和性能提升的版圖優化,先進工藝CMP工藝后芯片形貌預測;提出了多物理機理耦合建模、基于LDE的有效平坦化長度特征提取、多粒度算法并行技術。部分成果被行業龍頭企業應用。獲國家科技重大專項支持。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202204/433138.htm

        極低功耗設計:研發了多款性能指標優于公開文獻報道的亞閾值極低功耗IP以及用于底層低功耗電路優化的電路結構-器件尺寸-版圖優化工具;研發亞閾值電路特征化、統計延時建模、統計時序分析以及時序優化技術,以解決極低功耗電路時序收斂問題。


        碳基PDK及仿真自動化針對后摩爾碳基器件,基于國內領先的碳基工藝制備平臺,開展碳基集成電路設計關鍵技術研究,成功開發了成套的碳基工藝器件模型、PDK和標準單元庫,并通過了流片測試驗證,實現了千門級碳納米管集成電路設計和仿真自動化。


        芯片系統安全架構技術:針對系統芯片中的故障、漏洞、硬件木馬及惡意軟件攻擊,開展芯片安全架構關鍵技術研究,包括可配置的安全策略引擎、在線威脅檢查,多級主動防御機制等。通過核心技術的突破,提供集成電路芯片與系統的硬件安全架構解決方案和檢驗檢測平臺。


        集成電路主被動安全防護技術:針對集成電路面臨的硬件安全隱患,開展集成電路主被動安全防護技術研究,提出機器學習輔助的硬件木馬檢測方法,實現抗功耗側信道攻擊的DES/TDESAESSM4等主流密碼算法IP核。





        關鍵詞: EDA UVS UV APS UVI EDMPro

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