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        臺積電將啟動4nm工藝制程 計劃于2022年大規(guī)模量產(chǎn)

        作者: 時間:2020-07-21 來源:快科技 收藏

        兩年前,量產(chǎn)了7nm工藝,今年將量產(chǎn)5nm工藝,這讓在晶圓代工領(lǐng)域保持著領(lǐng)先地位。現(xiàn)在3nm工藝也在按計劃進行。根據(jù)的規(guī)劃,3nm風(fēng)險試產(chǎn)預(yù)計將于明年進行,量產(chǎn)計劃于2022年下半年開始。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202007/415882.htm

        據(jù)外媒報道,臺積電還將在5nm和3nm工藝制程之間推出工藝制程。

        報道稱,臺積電在其官網(wǎng)披露的第二季度電話會議中提到了工藝,并表示將啟動工藝作為5nm工藝的延伸。此外,4nm工藝將兼容5nm工藝的設(shè)計規(guī)則,較5nm工藝更有性價比優(yōu)勢,瞄準(zhǔn)的是下一波的5nm產(chǎn)品,計劃在2022年大規(guī)模量產(chǎn)。

        據(jù)悉,臺積電曾表示,3nm沿用FinEFT技術(shù),主要是考量客戶在導(dǎo)入5nm制程的設(shè)計也能用在3nm制程中,無需面臨需要重新設(shè)計產(chǎn)品的問題,臺積電可以保持自身的成本競爭力,獲得更多的客戶訂單。

        報道中指出,3nm工藝將會在2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn),4nm工藝作為5nm工藝的延伸,可能會在上半年量產(chǎn)。并且3nm工藝是繼5nm之后臺積電全新一代的芯片制程工藝節(jié)點,與今年的5nm工藝相比,3nm工藝的晶體管密度提高了15%,性能提高了10-15%,能源效率也提高了20-25%。

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