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        全面解讀集成電路產業鏈及相關技術

        作者: 時間:2017-07-04 來源:國元證券 收藏
        編者按:如今集成電路已被廣泛應用于所有電子設備,并推動了電子時代的到來,傳媒、教育、娛樂、醫療、軍工、通訊等各領域的發展均離不開性能卓越的集成電路設備,本文將會對集成電路的一些基礎的流程和技術進行相關科普。

          (2)晶圓加工

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/201707/361307.htm

          晶圓加工技術是指在晶圓上制造用于電氣電子設備中的的過程。該技術是一個多步驟、反復處理的過程。在實施過程中多次重復運用摻雜、沉積、光刻等工藝,最終實現將高集成度的復雜電路“印制”在半導體基質上的目的。整個晶圓加工過程一般歷時六至八周,需要在高度專業化的晶圓加工廠中進行。


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          無塵車間

          1)操作類型

          晶圓加工過程與晶圓制造不同,晶圓加工領域的工廠各自遵循本公司特有的生產流程。同時,先進的加工技術逐年推陳出新,使得生產流程不斷地發生著改變。但是多樣化的制程工藝無外乎從屬于以下四個范疇:沉積、清除、成像、電學性質改變。

          沉積是指制程中涉及生長、涂覆或將其他材料轉移至晶圓上的步驟。沉積技術包括物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、電化學沉積(ECD)、分子束外延(MBE)、相對先進的原子層沉積(ALD)以及其他技術。

          清除是指從晶圓上清除材料的技術。例如蝕刻工藝(濕蝕刻或干蝕刻)與化學機械研磨技術(CMP)。

          成像塑造或改變沉積的材料,一般稱為光刻技術。例如,常見的光刻工藝先將晶圓表面覆蓋一層化學物質——光刻膠,之后光刻機聚焦、校準并移動印有電路圖的光罩,將晶圓上的選中部分曝光于短波光線下。被曝光的區域此后被顯影劑溶液洗去。在蝕刻或其他制程之后,剩余的光刻膠由等離子體灰化法清除。

          電學性質改變指摻雜半導體,形成源極與漏極的步驟。該技術過去由擴散爐技術實現,現在多運用離子植入技術。摻雜過程之后晶圓接受爐內退火或更先進的快速熱退火(RTA)處理。退火過程激活了植入的摻雜劑。電學性質改變目前也包括了通過紫外線制程降低low-k絕緣體材料介電常數的技術。

          高端設計復雜,所需制程步驟繁多;多層金屬連接層技術用以實現大量元件間的有效連接。當代芯片加工多經歷300多道制程步驟;可包含11層的金屬導線層。


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          光刻原理


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          摻雜及構建CMOS單元原理

          加工好的晶圓在晶圓測試后,將進入芯片廠商,進行最后的測試。

          2)制程邏輯

          “印刻”于晶圓上的半導體元件需以金屬導體連接以實現特定的電路功能。以上各種技術工藝按制程的先后順序,可劃分為前段制程(FEOL)與后段制程(BEOL)。以集成于芯片上的元件的相互連接為分水嶺:FEOL指沉積金屬導電層以前,于半導體基質上形成獨立元件(如三極管、電容、電阻、獨立的CMOS)的前半段制程;BEOL指金屬層沉積后,創建金屬導線,連接元件,并構成絕緣各導線的介電層的后半段制程。


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          晶圓加工制程圖例

          左圖體現晶圓加工前段制程與后段制程的具體內容;右圖為晶圓上單個CMOS模塊的縱切圖,從下到上的三個部分符合芯片的三個制程:FEOL前段制程、BEOL后段制程、Packaging制程。

          (三)封裝部分

          封裝是半導體設備制造過程中的最后一個環節。在該環節中,微小的半導體材料模塊會被臵于一個保護殼內,以防止物理損壞或化學腐蝕。集成電路芯片將通過封裝“外殼”與外部電路板相連。

          封裝過程后,通過封裝測試的成品集成電路設備,將作為成品最終投入的下游設備的應用中去。


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          集成電路的封裝

          (1)封裝技術的發展演變

          追隨摩爾定律,芯片集成度日益提高,單體集成電路需要日益增多的引腳與外部設備連接,以實現更復雜的邏輯控制功能;同時,隨著科技進步,各類電子設備向著小型化、智能化發展,電路系統的微縮要求集成電路芯片的體量不斷減小。所以,保證性能的前提下,“多引腳、小體量”的芯片封裝始終是集成電路封裝技術的發展方向。隨著封裝技術的發展,集成電路封裝模式不斷推陳出新。目前,各種封裝技術均用于不同的市場領域。這里,按照各種工藝出現的先后順序介紹市場上主流的一些封裝技術。

          最早的集成電路封裝于扁平的陶瓷管體內,由于其可靠性與較小的體量,在軍事領域被應用多年。隨后陶瓷管體的封裝模式很快進步至塑料管體的 DIP(雙列直插式封裝)。


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          雙列直插式封裝

          在1980年代,VLSI規模集成電路的引腳數量超過了DIP封裝的技術限制。PGA(插針網格陣列)封裝及LCC(無引線芯片載體)封裝投入生產,用以突破DIP封裝的限制。


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          插針網格陣列封裝(左)和無引線芯片載體封裝(右)

          表面黏著式封裝出現于80年代早期,并于80年代末期興盛。用于小外形集成電路的鷗翼型封裝與J-引腳封裝采用優化的引腳間距,使得運用該技術的封裝比等效的DIP封裝占用面積少30-50%,厚度薄70%。


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          鷗翼型封裝(左)和 J-引腳封裝(右)

          下階段,封裝技術迎來了巨大的技術創新——表面陣列封裝。該技術在封裝管體的表面鋪設連接節點,因此得以提供比此前封裝技術更多的外部連接(此前的封裝方式只在管體周圍引出接點)。其中 BGA(球柵陣列)封裝成為廣泛應用的封裝技術之一。


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          球柵陣列封裝

          BGA封裝技術在1970年代便已經存在。1990年代,該技術演進至FCBGA(倒裝芯片球柵陣列)封裝。FCBGA封裝允許存在多于任何封裝技術的針腳數量。在FCBGA管殼內,晶片被正面朝下倒裝并通過類似于印刷電路板的基體(不通過引線),與管體球柵建立連接。因此FCBGA可以允許成陣列的輸入輸出信號分散連接至整個晶片表面,而非限制于芯片四周。


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          倒裝芯片球柵陣列封裝


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