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        晶圓廠沖量產 10nm芯片將如雨后春筍般涌現

        作者: 時間:2017-06-29 來源:DIGITIMES 收藏
        編者按:半導體2017年新一代制程技術將進入量產階段,且多數針對消費應用設計,尤其是手機芯片。

          據Electronic Design報導,確定使用10納米制程生產的芯片包括三星電子(Samsung Electronics)和高通(Qualcomm)的Snapdragon 835、聯發科Helio X30處理器和樂金電子(LG Electronics)新一代處理器。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/201706/361139.htm

          英特爾(Intel)使用14納米先進制程生產微處理器已有一段時間,執行長Brian Krzanich在2017年消費性電子展(CES)上展示內含英特爾最新10納米Cannonlake處理器的2-in-1裝置。雖然業界對于10納米的定義仍有爭議,但可以確定的是,所有廠商都已開始打造10納米產品。

          此外,許多人也猜測蘋果(Apple) iPhone 8(暫稱)極可能采用包括A11 Fusion芯片在內的一系列10納米制程元件,但答案還是得等到iPhone 8發布后才能確認。

          市調機構International Business Strategies的資料顯示,2017年10納米芯片市場將達到5億美元規模,意味相關產品會如雨后春筍般地冒出。至于10納米怎么能在1年之內營收達到將近市場的10%?主要原因有二,一是幾家代工廠技術同時提升,其次則與廠的設計有關,廠商盡可能利用先前的制程技術和制造設備,降低量產的成本和時間。并維持制程間的一貫性,降低作業成本并加快進度。

          例如臺積電在2016年的開放創新平臺和技術論壇活動中曾表示,該公司在20到16納米、16到10納米以及之后的10到7納米都維持了90%制程設備通用性。2016年首波制程設計進入風險量產,2017年這些設計以及其它設計將進入量產階段,預計主要動能將來自高階行動裝置、大數據(Big Data)及資料中心使用的高效能運算需求。

          7納米在微影技術和時程方面都與過去的制程明顯不同,三星便表明將于7納米制程導入極紫外光(EUV)微影技術,臺積電和GlobalFoundries則會先以193i掃描儀及多重曝光策略為主。盡管各家的多重曝光方式不完全相同,但目標都是追求大幅減少更改及曝光次數。

          2017年還會出現10納米制程的變異產品,例如三星已經宣布第三代10納米制程科技(10LPU),臺積電持續對N16做改善,從N16FF+到N12,縮小芯片尺寸滿足低功耗需求。

          針對行動/遠程物聯網(IoT)需求的一般傳感器、影像傳感器、應用處理器等低功耗產品也會持續推出,GlobalFoundries也推出物聯網應用的22FDX和12FDX低功耗平臺。

          10納米設計的晶圓啟動次數和營收將會出現成長,7納米的早期采用者則將完成測試芯片設計并下單。0.18微米、130納米、65納米、45/40納米和28納米制程、設計工具和規則也會因物聯網應用的推動而持續改進,滿足市場所需的復雜及超低功耗設計。



        關鍵詞: 10nm 晶圓

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