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        Cadence試產14nm測試芯片

        作者: 時間:2012-11-23 來源:SEMI 收藏

          近日,宣布,運用IBM FinFET制程技術所設計的 ARM Cortex-M0 14nm測試晶片已投入試產。成功投產14nmSOI FinFET 技術歸功于三家廠商攜手建立的生態體系,在以 FinFET 為基礎的 14nm設計流程中,克服從設計到制造的各種新挑戰。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/139278.htm

          14nm生態系統與晶片是ARM、與IBM合作在14nm以上的先進制程開發系統晶片(SoCs)之多年期協議的重大里程碑。運用FinFET技術的14nm設計SoC實現了大幅減少耗電的承諾。

          “這個晶片代表著先進制程技術的重大里程碑,這是三家公司的專家們通力協作的成果。”益華電腦晶片實現事業群資深副總裁徐季平表示:“FinFET設計為設計社群提供了重大的優勢,但也需要先進晶圓廠、IP與EDA技術的支持,以克服可觀的挑戰。Cadence、IBM與ARM通力合作克服了這些挑戰,也為各種生產設計而發展出能夠支援14nmFinFET開發的生態系統。”

          這個晶片之所以開發,是為了要驗證14nm設計專屬基礎IP的建構基塊。除了ARM、SRAM記憶體區塊之外,還包含了其他區塊,為以FinFET為基礎的ARM Artisan實體IP的基礎IP開發工作提供不可或缺的特性資料。

          每當SoC往更小的面積進行設計時,就會帶來新的挑戰,這些挑戰需要SoC設計產業鏈中的領導廠商通力合作,一起來解決。”ARM副總裁暨實體IP事業部總經理Dipesh Patel表示:“在14nm的設計上,多數的挑戰來自于FinFET技術,而我們與Cadence和IBM的合作就是專注于實現14nmFinFET技術在設計與經濟成本上的可行性,克服這些挑戰?!?/p>

          ARM設計工程師們運用建立在IBM的絕緣層上覆矽(silicon-on-insulator,SOI)技術之上的14nmFinFET技術的ARM Cortex-M0,提供最佳的效能/功耗組合。采用周延的14nm雙重曝光與FinFET支援方法,搭配使用Cadence技術的工程人員來設計FinFET 3D電晶體晶片。

          “這次14nm測試晶片試產是我們在SOI上運用內建的電介質隔離功能,而在FinFET取得的重大進展。”IBM半導體研發中心副總裁Gary Patton表示:“事實上,Cadence與ARM在設計解決方案上協同作業,將這個以IBM的FinFET技術為基礎的測試晶片投入試產。我們仍將繼續合作,在14nm以上兌現全空乏型(fully depleted) SOI FinFET裝置的卓越功耗、效能與變異性控制的承諾。”

          為了成功,工程師們必須要有14nm與FinFET規則臺(rule decks)以及更佳的時序分析的支援。這個晶片是運用Cadence Encounter Digital Implementation (EDI)系統而設計實現的,具備運用Cadence Virtuoso工具而設計的ARM 8-track 14nmFinFET標準單元庫。EDI系統提供按照以FinFET為基礎的14nmDRC規則執行設計實現所需的先進數位功能,并納入全新GigaOpt最佳化技術,享受FinFET技術所提供的功耗與效能優勢。此外,這個解決方案也運用通過生產驗正的雙重曝光更正設計實現功能。Encounter Power System、Encounter Timing System與Cadence QRC Extraction提供支援14nmFinFET結構的14nm時序與電源signoff功能。



        關鍵詞: Cadence 芯片 處理器

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