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        臺積電響應28nm制程良率問題

        —— 稱臺積電的工程師總能迅速迎接挑戰
        作者: 時間:2012-02-07 來源:半導體制造 收藏

          (TSMC)日前響應了稍早前分析師指稱該公司 CMOS制程存在著良率問題的說法。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/128609.htm

          歐洲公司總裁 Maria Marced 重申她與其他高層之前所強調的:減少節點的缺陷密度一直在掌握中,以量產進度來看甚至快于40/45nm制程技術。

          Marced承認,每一代制程節點在推出時都會有些問題,但臺積電的工程師總能迅速迎接挑戰。“所有事情都變得更加困難。我們已經在40nm學到很多了。我們的工程團隊也不斷針對各個設計定案(tape-out)進行努力,減少缺陷密度并提高良率,”她說。“到了20nm節點,可預見這將更加困難,但我們仍然看好未來的技術發展趨勢。”

          Marced強調其樂觀是來自于臺積電目前已經有 36款IC進入量產,另外還有132個設計定案在進行中。“的發展要比之前的40/45nm快上三倍,”她說。

          2011年第四季,28nm晶圓生產約占臺積電營收的2%,銷售額約7,000萬美元,Marced說。預計該比重在2012年將上升到5%,銷售額則預期提高到1.7億美元。而針對2012年度,臺積電預計28nm晶圓生產占總營收比重將可達10%。

          一個被分析師指稱遭遇良率問題的制程節點,能夠在2季之內將銷售額從7,000萬美元提高到1.7億美元,成績應該“不算太壞”,Marced說。



        關鍵詞: 臺積電 28nm

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