臺積電稱其已解決造成40nm制程良率不佳的工藝問題
據臺積電公司高級副總裁劉德音最近在一次公司會議上表示,臺積電40nm制程工藝的良率已經提升至與現有65nm制程相同的水平,他并表示公司已經完美解決了先前造成40nm制程良率不佳的工藝腔匹配(Chamber matching)問題.
本文引用地址:http://www.104case.com/article/105371.htm
臺積電19日舉辦了一場慶祝Phase5新廠房完工的慶典儀式,這間廠房隸屬于新竹科技園區的臺積電Fab12工廠.據悉新完工的Phase5廠房將于今年第三季度起開始批量投產28nm制程產品。
另據劉德音表示,臺積電正在計劃興建Fab12 Phase6廠房,這座Phase6廠房將用于生產22nm制程產品。
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