康寧推出EXTREME ULE玻璃，可支持High NA EUV光刻

10月3日消息，全球領先的材料廠商康寧近日宣布推出全新的超低膨脹 （ULE） 材料——EXTREME ULE 玻璃，可以支持芯片制造商利用最新的High NA（高數值孔徑 ）EUV光刻技術來大規模生產當今最先進、最復雜的微芯片。

據介紹，EXTREME ULE玻璃的一個關鍵特性是其極低的熱膨脹，可以幫助芯片制造商改進光掩模（用于芯片設計的模板），使其能夠承受最高強度的極紫外 （EUV）光線 ，包括High NA EUV，該工藝需要極高的熱穩定性和均勻的玻璃材料，以幫助確保一致的制造性能。

此外，EXTREME ULE玻璃其卓越的平整度有助于最大限度地減少“光掩模波紋”，從而減少芯片生產中不必要的變化。這些特性使高級薄膜和光刻膠的應用成為可能，以提高產量和性能。

“隨著人工智能的興起，集成芯片制造的需求增長，玻璃創新比以往任何時候都更加重要，”康寧先進光學副總裁兼總經理Claude Echahamian說。“EXTREME ULE 玻璃將有助于實現更高功率的 EUV 制造和更高的產量，從而擴大康寧在不斷追求摩爾定律中的重要作用。”

康寧表示，EXTREME ULE 玻璃標志著其 ULE（超低膨脹）玻璃產品組合的進化，ULE 是一種二氧化鈦硅酸鹽玻璃材料，具有接近零的膨脹特性，長期以來一直用于 EUV 光掩模和光刻反射鏡。通過使用其創新的玻璃成型工藝，康寧希望減少生產過程中的能源使用和廢棄物，從而有助于為康寧的可持續發展承諾做出貢獻。

編輯：芯智訊-浪客劍