光刻機卡脖子？ASML最新回應：中國已有近1400臺光刻機！

11月3日，據報道，第六屆中國國際進口博覽會上，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波接受媒體采訪時透露，“到2023年底，ASML在中國的光刻機加上量測的機臺裝機量已接近1400臺。”

圖片來源：ASML官網

沈波表示，預計2023財年，公司全球銷售額增長30%，將達270余億歐元。據ASML最新季報，預計2025年，現有晶圓廠產能將會增加并有新的晶圓廠投入使用，半導體設備行業將會迎來比較大的增長，迎來需求的“高潮”。

他還透露，“我們現如今對自己產能的判斷，目標是在2025年底或2026年初，具備每年500臺-600臺深紫外（DUV）的設備產能。”

ASML：中國已有近1400臺ASML光刻機

據統計，2022年全球光刻機市場，其中ASML占據82%的市場份額，佳能和尼康分別以10%和8%的市場份額穩居第二和第三位。

作為頂級廠商，ASML是目前世界上唯一使用極紫外光（EUV）的光刻機制造商，其90%的零部件都來自于外購。

ASML部分供應商名單如下：

據外媒報道，2023年第一季度，ASML向中國大陸出貨23臺光刻機。其中，主要型號包括ArF、KrF等中低端光刻機。

第三季度，ASML共出售了105臺全新光刻機以及7臺二手光刻機，全新光刻機包括11臺EUV、32臺ArFi（浸潤式DUV光刻機）、9臺ArF dry（干式DUV光刻機）、44臺KrF以及16臺I-Line。

目前，中國大陸已經成為ASML最重要的市場之一。據2023年第三季度財報顯示，當季中國大陸的銷售額占ASML整體銷售額的比重升至46%。累積前三個季度，ASML共計向中國大陸市場銷售了約53億歐元的光刻機，折算人民幣為400多億元。

按照終端應用方面劃分，以銷售額計算，用于制造邏輯芯片的光刻機出貨占比76%，用于制造存儲芯片的占比24%。以銷售額計算，ArFi浸潤式光刻機占比高達48%，EUV光刻機占比35%。

現如今，ASML在中國設有16個辦事處、12個倉儲物流中心、3個開發中心、1個培訓中心以及1個維修中心，ASML在中國大陸的員工總人數已經超過1600人。

ASML助力晶圓廠

美國新規對ASML業務有何影響？

10月17日，美國政府頒布了最新的出口管制規則。ASML表示，正在深入評估潛在的影響。不過ASML認為，受到新規影響的中國晶圓廠數量有限。

對此消息，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波表示：目前我們還在對新出口管制政策進行研究。如果以今年我們在中國的業務為基礎，明年的業務大概會受到10%-15%的影響。

從公司角度來看，到2030年行業整體趨勢呈現起伏性增長，因此新出口管制政策對公司的銷售總體趨勢影響并不大。同時他補充道：“只有我們部分浸潤式產品明年會被納入出口管制的范圍，并非所有產品。即使有了新的出口管制，我們還有非常大的一塊浸潤式的業務在中國。”

對于中國而言，將成熟制程芯片做到具有競爭力的水平，是提高投入產出比的最有效途徑。中國市場就像一個縮小的全球市場，擁有各種客戶和產品。ASML的服務不僅限于機器的維修和維護，更在于幫助客戶充分利用設備并優化工藝流程。

過去幾年，ASML每年DUV設備的供應能力約為200臺左右。預計到2023年，DUV設備制造產能將達到300多臺，但供應缺口仍然很大。近年來，公司不斷與供應商溝通，以確保順利實現2025年底600臺設備的目標產能。

但需要注意的是，盡管ASML宣布將繼續對我國市場出貨，并表示在三、四季度將有27臺光刻機運往中國，但此外還有600億尚未交付的生產訂單，看似是在向我們示好，實則另有目的。

面對ASML的主動示好，我們不能掉以輕心，要堅定不移的走科技自主化研發，只有掌握足夠的核心技術，才能在接下來的競爭中，始終立于不敗之地！

兩年時間

中國半導體裝備進步如何 

回顧一下，兩年前中國半導體裝備行業的一個概況，包括光刻機在內，幾種主流半導體裝備的指標滿足情況大致如下：

兩年時間過去后，國內廠商的追趕情況大致如下：

在2000年左右，我國才開始大規模投入光刻機的研發，并建立了多個光刻機研發和生產基地。通過與國際知名企業合作、引進先進技術和培育本土企業，華大、北方華創、中微半導體等逐漸開始嶄露頭角。

目前EUV長期被限，2024年高端浸沒式也將斷供。我國光刻機仍是卡脖子最關鍵環節，實現高端光刻機的國產替代至關重要。

如今，我國光刻機攻尖采取類ASML的模式，細分各科研院所、高校做分系統，再由SMEE進行整機組裝。中科院微電子所、長光所、上光所，清華大學、浙江大學、哈工大等均參與光刻機的研發。

上海微電子，已成功研制出了DUV（深紫外）光刻機。可用于量產28納米中低端芯片，標志著中國在半導體制造領域取得了一項重要的突破。

來源于：官網

中芯國際，已能夠利用其現有的ASML浸沒式光刻機生產出7納米的芯片，并且為華為提供了手機芯片。

雖然當前國內與國外頂尖光刻機制程仍存在較大差距，但人才是決定技術發展的關鍵，強如臺積電、三星、蘋果、華為，都是靠著到處挖技術人員，站上了行業前列的位置。

臺積電內部絕大多數都是德州儀器出來的人；三星靠著3倍薪資的待遇，挖走了許多同行的技術人員，打敗了當年的閃存老大東芝；而華為專挖有能力創造技術專利的人，比如加大拿北電網絡的主管童文等。

國產光刻機供應商如下：

光刻機國產化是中國半導體產業發展的重要方向之一。通過加大研發力度、人才培養和引進、合作與交流、產業協同和政策支持等方面的努力，加速中國光刻機技術的發展，提高自主創新能力和國際競爭力。

來源：EDA365電子論壇